Filipino
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Available sa parehong magnetron sputtering at thermal evaporation mode para sa metal at carbon coating, na walang partikulo na interference sa ilalim ng aktwal na magnification na 300000x. High vacuum thermal evaporation kit para sa fine particle size at film layer coating. Nang walang thermal damage sa sample. Built-in na higit sa 20 target coating set, direktang tumawag habang gumagamit ng madaling operasyon. May kakayahang mag-coat ng iba't ibang uri ng metal, silicon, tel-lurium, ito, azo atbp. Compact na disenyo mahusay, maaasahan, mahusay na repeatability system. |
| Para sa sputter mode: Magbubukas ang shutter sa panahon ng proseso ng sputtering , ang ibang mga proseso (gaya ng pagsasaayos ng mga parameter, pre-sputtering ) ay nasa ibaba mismo ng sputtering assembly. Para sa evaporate mode： Bubukas ang shutter sa panahon ng proseso ng evaporating, ang ibang mga proseso (tulad ng degassing) ay nasa ibaba mismo ng sputtering assembly. Ang lahat ng mga aksyon ng shutter ay awtomatikong kinokontrol ng system nang walang manu-manong operasyon. |
| Proseso ng Sputtering Coating: 1.Tiyaking ang default na target ay pare-pareho sa ginagamit; kung hindi man ay ipasok ang setting ng interface at muling piliin ang target.; 2.Ilagay sa sample at itakda ang sputter time ( Awtomatikong itinatakda ang sputter current; sa pamamagitan ng system, ang mga may karanasang user ay maaari ding magtakda nito nang mag-isa); 3.Pindutin ang pindutan ng"pump on/off", awtomatikong nakumpleto ng system ang mga sumusunod na proseso: 1) RVP at TMP pump run 2) Ar flushing process(Vacuum umabot sa 5E-3Pa): 3 beses 3) Pagsasaayos ng parameter ng proseso, Pre-sputter 4) Sputter coating 4. Nakumpleto ang coating, tutunog ang prompt tone (kung naka-on ang switch); 5.Pindutin ang"pump on/off"na button, awtomatikong nakumpleto ang proseso ng vent; 6. Maaaring kunin ang sample at matatapos ang buong proseso. Buod: Easy Shuttle 1.Tiyaking ang default na target is the same as in use 2.Ilagay sa mga sample 3.Itakda ang oras ng sputter 4.Pindutin ang"Pump on/off"na button 5.Pindutin ang"Pump on/off"na button 6.Kumuha ng mga sample 7.Tapos na. |
| Proseso ng evaporating coating: 1.Tiyaking tama ang default na heating mode; kung hindi, ipasok ang setting ng interface at i-set up； 2.Ilagay sa sample at itakda ang pulso o dami ng carbon.( Ang pagsingaw ng boltahe ay awtomatikong itinakda ng system, ang mga may karanasan na mga gumagamit ay maaari ring itakda ito sa kanilang sarili); 3.Pindutin ang"pump on/off"na button, awtomatikong nakumpleto ng system ang mga sumusunod na proseso: 1) RVP at TMP pump run; 2) Degassing (Vacuum umabot sa 5E-2Pa); 3) I-evaporate ang carbon coating 4. Nakumpleto ang coating, tutunog ang prompt tone (kung naka-on ang switch); 5. Pindutin ang pindutan ng"pump on/off", vent process is completed automally ; 6. Maaaring kunin ang sample at matatapos ang buong proseso. |
| Opto-Edu A50.704 SeryeIon Coater at Carbon Coater, ay isang seryeng compact coating system na nakakapag-coatmarangal na metaltulad ng ginto (Au), palladium (Pd), platinum (Pt) at gold/palladium (Au/Pd) mga manipis na pelikula sa non-conductive o poorly conductive specimens. Uniformmga manipis na pelikulana may mga fine-grain na laki ay nabuo sa isang mabilis na cycle ng oras. Ang ginawang manipis na pelikula ay angkop para sapag-scan ng electron microscopy(SEM) pagsusuri, at marami pang ibang lab na eksperimentont gawaing paghahanda ng materyal. Ang mesaMagnetron Coateray isang tool na may mataas na produktibidad na naghahatid ng pare-pareho at lubos na nauulit na mga resulta sa ganap na automated system. Ang ergonomic na disenyo at maliit na bakas ng paa ngSistema ng patong ng SEMnagbibigay-daan sa madaling paggamit ng system. |
| Pangangailangan | Magrekomenda ng Modelo |
| Metal film at Carbon film | A50.7045 (Mababang vacuum, angkop para sa pag-magnify na mas mababa sa100000x |
| A50.7045-T (Mataas na Vacuum, angkop para sa pagpapalaki ng higit sa 100000x) | |
| Carbon Coating (sample ng ores, paghahanda ng sample ng electron probe atbp para sa pagsusuri ng bahagi, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputtering Metal | A50.7041 (Actual magnification mas mababa sa 50000x, Tungsten filament SEM, table top SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W, atbp.) | A50.7042 (Actual magnification mas mababa sa 100000x, Field emission gun SEM) |
| A50.7042-T (Actual na pag-magnify na mas mahusay kaysa sa 100000x, Field emission gun SEM) | |
| Electrode, Microelectronic Device Fabricate | A50.7041 (Au, Pt coating) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, atbp.) | |
| A50.7042-T (Karamihan sa metal coating, ITO, AZO Oxide atbp.) | |
| Kahon ng Glove | A50.7042 customized na bersyon |
| A50.7042-T customized na bersyon | |
| Cylindrical na Patong | A50.7042 customized na bersyon |
Huang Xin