Filipino
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| item | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Sputtering Target | Planar magnetron target, na may nakapaligid na madilim na lugar na kalasag | Planar magnetron target, na may nakapaligid na madilim na lugar na kalasag | Planar magnetron target, na may nakapaligid na madilim na lugar na kalasag | Planar magnetron target, na may nakapaligid na madilim na lugar na kalasag |
| Prinsipyo sa Paggawa | DC sputtering | DC magnetron sputtering | DC magnetron sputtering | DC magnetron sputtering (opsyonal na RF magnetron sputtering) |
| Mga sukat | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 420（L）×330（D）×335（H）mm | 424（L）×345（D）×420（H）mm |
| Magagamit na Mga Target | Au、Pt atbp | Au、Pt、Ag、Cu、Sb atbp | Au、Pt、Ag、Cu atbp | Lahat ng metal、ITO、AZO、Si、Te atbp |
| Karaniwang Target | Au | Pt | Pt | Pt、Cr、W |
| Laki ng Target | φ57×0.12mm | Pt：φ57×0.12mm | φ57×0.12mm | Pt：φ57×0.12mm，Ang iba：φ57×1mm |
| Sputtering Current | 2-30mA patuloy na adjustable | 5-45 mA patuloy na naaayos, laki ng hakbang 1mA | 0-100mA patuloy na adjustable | 0-200mA patuloy na adjustable, laki ng hakbang 5mA |
| Oras ng Sputtering | 1-999s na patuloy na nababagay, 2s ang laki ng hakbang | 1-999s na patuloy na nababagay, 1s ang laki ng hakbang | 1-999s na patuloy na nababagay, 0s ang laki ng hakbang | 1-999s na patuloy na nababagay, 1s ang laki ng hakbang |
| Vacuum Chamber | Mataas na borosilicate glass φ130×130mm | Mataas na borosilicate glass φ130×130mm | Mataas na borosilicate glass φ200×130mm | Mataas na borosilicate glass φ200×130mm |
| Vacuum Pump | Rotary vane pump, opsyonal na dry scroll pump | Rotary vane pump, opsyonal na dry scroll pump | Rotary vane pump, opsyonal na dry scroll pump | Molecular pump (built-in) + rotary vane pump (panlabas) |
| Bilis ng pumping | 1 | ≥1L/s | 1.1L/s | 90L/s (molecular pump)+1L/s (rotary vane pump) |
| Ultimate Vacuum | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa (sa loob ng 8 minuto) |
| gumaganang vacuum | 2-30Pa | 2-30Pa (na may kaugnayan sa target) | 4-20Pa | 0.4-2Pa(na may kaugnayan sa target) |
| display | 5-inch color touch screen, resolution 800x480 | 5-inch color touch screen, resolution 800x480 | 7-inch color touch screen, resolution 800x480 | 7-inch color touch screen, resolution 800x480 |
| na-rate na kapangyarihan | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Supply ng Input Voltage | Karaniwang 220V/50Hz Opsyonal 110V/60Hz | Karaniwang 220V/50Hz Opsyonal 110V/60Hz | Karaniwang 220V/50Hz Opsyonal 110V/60Hz | Karaniwang 220V/50Hz Opsyonal 110V/60Hz |
| Medium ng Paggawa | Hangin o Argon | Hangin o Argon | Hangin o Argon | High-purity argon (argon purity 4N at mas mataas) |
| Halimbawang Yugto | φ64mm hindi kinakalawang na asero sample stage | φ64mm hindi kinakalawang na asero sample stage | φ125mm hindi kinakalawang na asero sample stage | φ125mm hindi kinakalawang na asero sample stage |
| Halimbawang Bilis ng Yugto | Opsyonal | Opsyonal | 4-20rpm adjustable | 4-20rpm adjustable |
| I-tilt-rotate ang Sample na Yugto | Hindi | Opsyonal | Opsyonal | Opsyonal |
| Pagsubaybay sa Kapal ng Pelikula | Hindi | Opsyonal | Opsyonal | Opsyonal |
| Ion Sputter Coater | |||||
   
|  | Prinsipyo ng Paggawa: DC sputtering | |||
| Magagamit na Mga Target: Au, Pt atbp. | |||||
| Vacuum Chamber: Mataas na borosilicate glass φ130×130mm | |||||
| Ultimate Vacuum: ≤1Pa | |||||
| Halimbawang Yugto: φ64mm hindi kinakalawang na asero sample na yugto | |||||
| A50.7042 | Prinsipyo ng Paggawa: DC magnetron sputtering | ||||
| Magagamit na Mga Target: Au, Pt, Ag, Cu, Sb atbp. | |||||
| Standard Target: Pt, φ57×0.12mm(maaaring palitan ng gold target nang libre) | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| A50.7042-P | Prinsipyo ng Paggawa: DC magnetron sputtering | ||||
| Magagamit na Mga Target: Au, Pt, Ag, Cu atbp. | |||||
| Standard Target: Pt, φ57×0.12mm(maaaring palitan ng gold target nang libre) | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| A50.7042-T | Prinsipyo ng Paggawa: DC magnetron sputtering (opsyonal na RF magnetron sputtering) | ||||
| Magagamit na Mga Target: Lahat ng metal, ITO, AZO, Si, Te, atbp. | |||||
| Karaniwang target na materyal: Pt, Cr, W, isang mahalagang metal, dalawang hindi mahalagang metal | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Mode ng Paggawa: Thermal evaporation | ||||
| Evaporation Mode: Continuous at pulse mode | |||||
| Carbon Fiber: Carbon fiber 10 pcs, Dia.0.8mm, haba 1m. | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| A50.7043-T | Mode ng Paggawa: Thermal evaporation | ||||
| Evaporation Mode: Continuous at pulse mode | |||||
| Carbon Fiber: Carbon fiber 10 pcs, Dia.0.8mm, haba 1m. | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Working Mode: Sputtering Coating + Thermal Evaporation Carbon Coating | |||
| Karaniwang Target: Pt o Au 1 pc, φ57×0.12mm | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| A50.7045-T | Working Mode: Sputtering Coating + Thermal Evaporation Carbon Coating | ||||
| Standard Target: Pt, Cr, W, bawat 1 pc; Pt：φ57×0.12mm; Cr, W：φ57×1mm | |||||
| Opsyonal: Monitor ng kapal ng pelikula, Tilt-rotate sample stage | |||||
| Pangangailangan | Magrekomenda ng Modelo |
| Metal film at Carbon film | A50.7045 (Mababang vacuum, angkop para sa pag-magnify na mas mababa sa100000x |
| A50.7045-T (Mataas na Vacuum, angkop para sa pagpapalaki ng higit sa 100000x) | |
| Carbon Coating (sample ng ores, paghahanda ng sample ng electron probe atbp para sa pagsusuri ng bahagi, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputtering Metal | A50.7041 (Actual magnification mas mababa sa 50000x, Tungsten filament SEM, table top SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W, atbp.) | A50.7042 (Actual magnification mas mababa sa 100000x, Field emission gun SEM) |
| A50.7042-T (Actual na pag-magnify na mas mahusay kaysa sa 100000x, Field emission gun SEM) | |
| Electrode, Microelectronic Device Fabricate | A50.7041 (Au, Pt coating) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, atbp.) | |
| A50.7042-T (Karamihan sa metal coating, ITO, AZO Oxide atbp.) | |
| Kahon ng Glove | A50.7042 customized na bersyon |
| A50.7042-T customized na bersyon | |
| Cylindrical na Patong | A50.7042 customized na bersyon |
Huang Xin