Pусский
English
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Вещь | А50.7041 | А50.7042 | А50.7042-П | А50.7042-Т |
| Распыление мишени | Планарная магнетронная мишень с окружающим затемненным экраном | Планарная магнетронная мишень с окружающим затемненным экраном | Планарная магнетронная мишень с окружающим затемненным экраном | Планарная магнетронная мишень с окружающим затемненным экраном |
| Принцип работы | напыление постоянным током | Магнетронное напыление постоянного тока | Магнетронное напыление постоянного тока | Магнетронное напыление на постоянном токе (дополнительное ВЧ-магнетронное напыление) |
| Габаритные размеры | 424（л）×271（Д）×255（ЧАС）мм | 424（л）×271（Д）×255（ЧАС）мм | 420（л）×330（Д）×335（ЧАС）мм | 424（л）×345（Д）×420（ЧАС）мм |
| Доступные цели | Au、Пт и т. д. | Au、Пт、Аг、Cu、Сб и т.д. | Au、Пт、Аг、Cu и т. д. | Все металлические、ИТО、АЗО、Си、Те и т.д. |
| Стандартная цель | Au | Пт | Пт | Пт、Кр、Вт |
| Целевой размер | φ57×0,12 мм | Пт：φ57×0,12 мм | φ57×0,12 мм | Пт：φ57×0,12 мм，Другие：φ57×1мм |
| Ток распыления | 2-30 мА с плавной регулировкой | 5-45 мА с плавной регулировкой, размер шага 1 мА | 0-100 мА с плавной регулировкой | 0-200 мА с плавной регулировкой, размер шага 5 мА |
| Время распыления | 1-999 с плавной регулировкой, размер шага 2 с | 1-999с с плавной регулировкой, размер шага 1с | 1-999 с плавная регулировка, размер шага 0 с | 1-999с с плавной регулировкой, размер шага 1с |
| Вакуумная камера | Высококачественное боросиликатное стекло φ130×130 мм | Высококачественное боросиликатное стекло φ130×130 мм | Высококачественное боросиликатное стекло φ200×130 мм | Высококачественное боросиликатное стекло φ200×130 мм |
| Вакуумный насос | Ротационно-пластинчатый насос, дополнительный сухой спиральный насос | Ротационно-пластинчатый насос, дополнительный сухой спиральный насос | Ротационно-пластинчатый насос, дополнительный сухой спиральный насос | Молекулярный насос (встроенный) + пластинчато-роторный насос (внешний) |
| Скорость откачки | 1 | ≥1л/с | 1,1 л/с | 90 л/с (молекулярный насос)+1 л/с (пластинчатый насос) |
| Абсолютный вакуум | ≤1Па | ≤1Па | ≤1Па | ≤5×10-3 Па (в течение 8 минут) |
| рабочий вакуум | 2-30Па | 2-30 Па (относительно цели) | 4-20Па | 0,4-2 Па (относительно цели) |
| отображать | 5-дюймовый цветной сенсорный экран, разрешение 800×480 | 5-дюймовый цветной сенсорный экран, разрешение 800×480 | 7-дюймовый цветной сенсорный экран, разрешение 800×480 | 7-дюймовый цветной сенсорный экран, разрешение 800×480 |
| номинальная мощность | 500 Вт | 450 Вт | 500 Вт | 800 Вт |
| Входное напряжение питания | Стандарт 220 В/50 Гц Дополнительно 110 В/60 Гц | Стандарт 220 В/50 Гц Дополнительно 110 В/60 Гц | Стандарт 220 В/50 Гц Дополнительно 110 В/60 Гц | Стандарт 220 В/50 Гц Дополнительно 110 В/60 Гц |
| Рабочая среда | Воздух или аргон | Воздух или аргон | Воздух или аргон | Аргон высокой чистоты (чистота аргона 4N и выше) |
| Этап образца | предметный столик из нержавеющей стали диаметром 64 мм | предметный столик из нержавеющей стали диаметром 64 мм | Столик для образцов из нержавеющей стали диаметром 125 мм | Столик для образцов из нержавеющей стали диаметром 125 мм |
| Скорость этапа выборки | По желанию | По желанию | 4-20 об/мин регулируемый | 4-20 об/мин регулируемый |
| Наклонно-поворотный столик для образцов | Нет | По желанию | По желанию | По желанию |
| Мониторинг толщины пленки | Нет | По желанию | По желанию | По желанию |
| Устройство для нанесения ионного напыления | |||||
   
|  | Принцип работы: распыление постоянным током | |||
| Доступные цели: Au, Pt и т. д. | |||||
| Вакуумная камера: высокое боросиликатное стекло φ130×130 мм | |||||
| Предельный вакуум: ≤1Па | |||||
| Предметный стол: предметный столик из нержавеющей стали диаметром 64 мм | |||||
| А50.7042 | Принцип работы: Магнетронное напыление постоянного тока | ||||
| Доступные мишени: Au, Pt, Ag, Cu, Sb и т. д. | |||||
| Стандартная мишень: Pt, φ57×0,12 мм (можно бесплатно заменить на золотую мишень) | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| А50.7042-П | Принцип работы: Магнетронное напыление постоянного тока | ||||
| Доступные мишени: Au, Pt, Ag, Cu и т. д. | |||||
| Стандартная мишень: Pt, φ57×0,12 мм (можно бесплатно заменить на золотую мишень) | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| А50.7042-Т | Принцип работы: Магнетронное напыление постоянного тока (опционально ВЧ-магнетронное напыление) | ||||
| Доступные мишени: все металлы, ITO, AZO, Si, Te и т. д. | |||||
| Стандартный материал мишени: Pt, Cr, W, один драгоценный металл, два недрагоценных металла. | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
  
| |||||
| А50.7043 | Режим работы: термическое испарение | ||||
| Режим испарения: непрерывный и импульсный режимы. | |||||
| Углеродное волокно: 10 шт. углеродного волокна, диаметр 0,8 мм, длина 1 м. | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| А50.7043-Т | Режим работы: термическое испарение | ||||
| Режим испарения: непрерывный и импульсный режимы. | |||||
| Углеродное волокно: 10 шт. углеродного волокна, диаметр 0,8 мм, длина 1 м. | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| |||||
| А50.7045 |  | Режим работы: напыление + углеродное покрытие с термическим испарением | |||
| Стандартная мишень: Pt или Au 1 шт., φ57×0,12 мм | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| А50.7045-Т | Режим работы: напыление + углеродное покрытие с термическим испарением | ||||
| Стандартная мишень: Pt, Cr, W по 1 шт.; Pt：φ57×0,12 мм; Кр, Ш：φ57×1мм | |||||
| Дополнительно: монитор толщины пленки, столик для образцов с наклоном и вращением | |||||
| Требование | Рекомендовать модель |
| Металлическая пленка и углеродная пленка | A50.7045 (Низкий вакуум, подходит для увеличения менее 100000x |
| A50.7045-T (высокий вакуум, подходит для увеличения более 100000x) | |
| Углеродное покрытие (образец руды, подготовка образца с помощью электронного зонда и т. д. для анализа компонентов, EDS, EBSD и т. д.) | А50.7043 |
| А50.7043-Т | |
| Распыление металла | A50.7041 (фактическое увеличение менее 50000x, SEM с вольфрамовой нитью, настольный SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W и т. д.) | A50.7042 (фактическое увеличение менее 100 000x, автоэмиссионный пистолет SEM) |
| A50.7042-T (Фактическое увеличение лучше 100000x, автоэмиссионный пистолет SEM) | |
| Электрод, изготовление микроэлектронных устройств | A50.7041 (покрытие Au, Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn и т. д.) | |
| A50.7042-T (большая часть металлического покрытия, ITO, оксид AZO и т. д.) | |
| Бардачок | Индивидуальная версия A50.7042 |
| Индивидуальная версия A50.7042-T | |
| Цилиндрическое покрытие | Индивидуальная версия A50.7042 |
Huang Xin