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| アイテム | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| スパッタリングターゲット | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き |
| 動作原理 | DCスパッタリング | DCマグネトロンスパッタリング | DCマグネトロンスパッタリング | DC マグネトロン スパッタリング (オプションの RF マグネトロン スパッタリング) |
| 寸法 | 424（L）×271（D）×255（H）んん | 424（L）×271（D）×255（H）んん | 420（L）×330（D）×335（H）んん | 424（L）×345（D）×420（H）んん |
| 利用可能なターゲット | オー、点など | オー、ポイント、Ag、銅、Sbなど | オー、ポイント、Ag、銅など | すべての金属、伊藤、あぞ、シ、てなど |
| 標準ターゲット | オー | ポイント | ポイント | ポイント、クロム、W |
| 対象サイズ | φ57×0.12mm | ポイント：φ57×0.12mm | φ57×0.12mm | ポイント：φ57×0.12mm，その他：φ57×1mm |
| スパッタリング電流 | 2-30mA 連続調整可能 | 5 ～ 45 mA 連続調整可能、ステップ サイズ 1 mA | 0-100mA 連続調整可能 | 0-200mA 連続調整可能、ステップサイズ 5mA |
| スパッタリング時間 | 1 ～ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 2 秒 | 1 ～ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 1 秒 | 1 ～ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 0 秒 | 1 ～ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 1 秒 |
| 真空室 | 高ホウケイ酸ガラス φ130×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ130×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ200×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ200×130mm |
| 真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | 分子ポンプ（内蔵）＋ロータリーベーンポンプ（外付け） |
| 排気速度 | 1 | ≥1L/秒 | 1.1L/秒 | 90L/s（分子ポンプ）+1L/s（ロータリーベーンポンプ） |
| 究極の真空 | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa（8分以内） |
| 作業真空 | 2～30Pa | 2～30Pa(対象物に対して) | 4～20Pa | 0.4～2Pa(対象物に対して) |
| 画面 | 5インチカラータッチスクリーン、解像度800×480 | 5インチカラータッチスクリーン、解像度800×480 | 7型カラータッチスクリーン、解像度800×480 | 7型カラータッチスクリーン、解像度800×480 |
| 定格出力 | 500W | 450W | 500W | 800W |
| 入力電圧供給 | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz |
| ワーキングメディア | 空気またはアルゴン | 空気またはアルゴン | 空気またはアルゴン | 高純度アルゴン（アルゴン純度4N以上） |
| サンプルステージ | φ64mmステンレス製試料台 | φ64mmステンレス製試料台 | φ125mmステンレス製試料台 | φ125mmステンレス製試料台 |
| サンプルステージ速度 | オプション | オプション | 4-20rpm 調整可能 | 4-20rpm 調整可能 |
| チルト回転サンプルステージ | いいえ | オプション | オプション | オプション |
| 膜厚モニタリング | いいえ | オプション | オプション | オプション |
| イオンスパッタコーター | |||||
   
|  | 動作原理: DC スパッタリング | |||
| 利用可能なターゲット: Au、Pt など | |||||
| 真空チャンバー：高ホウケイ酸ガラス φ130×130mm | |||||
| 到達真空: ≤1Pa | |||||
| サンプルステージ：φ64mmステンレスサンプルステージ | |||||
| A50.7042 | 動作原理: DC マグネトロン スパッタリング | ||||
| 利用可能なターゲット: Au、Pt、Ag、Cu、Sb など | |||||
| 標準ターゲット：Pt、φ57×0.12mm（金ターゲットに無料交換可能） | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| A50.7042-P | 動作原理: DC マグネトロン スパッタリング | ||||
| 利用可能なターゲット: Au、Pt、Ag、Cu など | |||||
| 標準ターゲット：Pt、φ57×0.12mm（金ターゲットに無料交換可能） | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| A50.7042-T | 動作原理: DC マグネトロン スパッタリング (オプションの RF マグネトロン スパッタリング) | ||||
| 利用可能なターゲット：すべての金属、ITO、AZO、Si、Teなど | |||||
| 標準ターゲット材質：Pt、Cr、W、貴金属1種、非貴金属2種 | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | 作業モード: 熱蒸発 | ||||
| 蒸発モード: 連続およびパルスモード | |||||
| 炭素繊維: 炭素繊維 10 個、Dia.0.8mm、長さ 1m。 | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| A50.7043-T | 作業モード: 熱蒸発 | ||||
| 蒸発モード: 連続およびパルスモード | |||||
| 炭素繊維: 炭素繊維 10 個、Dia.0.8mm、長さ 1m。 | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | 作業モード: スパッタリングコーティング + 熱蒸発カーボンコーティング | |||
| 標準ターゲット：PtまたはAu 1個、φ57×0.12mm | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| A50.7045-T | 作業モード: スパッタリングコーティング + 熱蒸発カーボンコーティング | ||||
| 標準ターゲット：Pt、Cr、W、各1個。 Pt：φ57×0.12mm;クロム、幅：φ57×1mm | |||||
| オプション：膜厚モニター、チルト回転サンプルステージ | |||||
| 要件 | 推奨機種 |
| 金属膜とカーボン膜 | A50.7045 (低真空、100000倍未満の倍率に適しています) |
| A50.7045-T (高真空、100000倍以上の倍率に適しています) | |
| カーボンコーティング（鉱石試料、成分分析用電子プローブ試料調製等、EDS、EBSD ETC） | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| 金属のスパッタリング | A50.7041 (実倍率50000倍以下、タングステンフィラメントSEM、卓上SEM) |
| (Au、Pt、Cr、Wなど) | A50.7042 (実倍率100000倍以下、フィールドエミッションガンSEM) |
| A50.7042-T (実倍率100000倍以上、フィールドエミッションガンSEM) | |
| 電極、マイクロ電子デバイスの製造 | A50.7041（Au、Ptコーティング） |
| A50.7042 (Au、Pt、Ag、Cu、Zn、Im、Snなど) | |
| A50.7042-T (ほとんどの金属コーティング、ITO、AZO 酸化物など) | |
| グローブボックス | A50.7042 カスタマイズ版 |
| A50.7042-T カスタマイズ版 | |
| 円筒コーティング | A50.7042 カスタマイズ版 |
黄昕