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| Item | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Alvo de pulverização | Alvo de magnetron planar, com escudo de área escura circundante | Alvo de magnetron planar, com escudo de área escura circundante | Alvo de magnetron planar, com escudo de área escura circundante | Alvo de magnetron planar, com escudo de área escura circundante |
| Princípio de trabalho | Sputtering DC | Sputtering DC magnetron | Sputtering DC magnetron | Sputtering DC magnetron (opcional RF magnetron sputtering) |
| Dimensões | 424（eu）×271（D）×255（H）milímetros | 424（eu）×271（D）×255（H）milímetros | 420（eu）×330（D）×335（H）milímetros | 424（eu）×345（D）×420（H）milímetros |
| Destinos disponíveis | Au、PT etc | Au、PT、Ag、Cu、Sb etc | Au、PT、Ag、Cu etc | Todo metal、ITO、AZO、Si、Te etc |
| Alvo Padrão | Au | PT | PT | PT、Cr、C |
| Tamanho do alvo | φ57×0,12mm | PT：φ57×0,12mm | φ57×0,12mm | PT：φ57×0,12mm，Outros：φ57×1mm |
| Corrente de pulverização | 2-30mA continuamente ajustável | 5-45 mA continuamente ajustável, tamanho do passo 1mA | 0-100mA continuamente ajustável | 0-200mA continuamente ajustável, tamanho do passo 5mA |
| Tempo de pulverização | 1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 2s | 1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 1s | 1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 0s | 1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 1s |
| Câmara de vácuo | Vidro de borossilicato alto φ130×130mm | Vidro de borossilicato alto φ130×130mm | Vidro de borossilicato alto φ200×130mm | Vidro de borossilicato alto φ200×130mm |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional | Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional | Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional | Bomba molecular (embutida) + bomba de palheta rotativa (externa) |
| Velocidade de bombeamento | 1 | ≥1L/s | 1,1 L/s | 90L/s (bomba molecular)+1L/s (bomba de palhetas rotativas) |
| Vácuo Supremo | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa (dentro de 8 minutos) |
| vácuo de trabalho | 2-30Pa | 2-30Pa (relacionado ao alvo) | 4-20Pa | 0,4-2Pa (relacionado ao alvo) |
| exibição | Tela sensível ao toque colorida de 5 polegadas, resolução 800×480 | Tela sensível ao toque colorida de 5 polegadas, resolução 800×480 | Ecrã táctil a cores de 7 polegadas, resolução 800×480 | Ecrã táctil a cores de 7 polegadas, resolução 800×480 |
| potência nominal | 500 W | 450 W | 500 W | 800 W |
| Fornecimento de Tensão de Entrada | Padrão 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Padrão 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Padrão 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Padrão 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz |
| Meio de trabalho | Ar ou Argônio | Ar ou Argônio | Ar ou Argônio | Argônio de alta pureza (pureza de argônio 4N e acima) |
| Estágio de Amostra | estágio de amostra de aço inoxidável φ64mm | estágio de amostra de aço inoxidável φ64mm | estágio de amostra de aço inoxidável φ125mm | estágio de amostra de aço inoxidável φ125mm |
| Velocidade do estágio de amostra | Opcional | Opcional | 4-20 rpm ajustável | 4-20 rpm ajustável |
| Estágio de amostra de inclinação e rotação | Não | Opcional | Opcional | Opcional |
| Monitoramento de Espessura de Filme | Não | Opcional | Opcional | Opcional |
| Revestidor de ionização | |||||
   
|  | Princípio de funcionamento: Sputtering DC | |||
| Alvos disponíveis: Au, Pt etc. | |||||
| Câmara de vácuo: Vidro de borossilicato alto φ130×130mm | |||||
| Vácuo final: ≤1Pa | |||||
| Estágio de amostra: estágio de amostra de aço inoxidável φ64mm | |||||
| A50.7042 | Princípio de funcionamento: DC magnetron sputtering | ||||
| Alvos disponíveis: Au, Pt, Ag, Cu, Sb etc. | |||||
| Alvo Padrão: Pt, φ57×0,12mm (pode ser substituído por um alvo de ouro gratuitamente) | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| A50.7042-P | Princípio de funcionamento: DC magnetron sputtering | ||||
| Alvos disponíveis: Au, Pt, Ag, Cu etc. | |||||
| Alvo Padrão: Pt, φ57×0,12mm (pode ser substituído por um alvo de ouro gratuitamente) | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| A50.7042-T | Princípio de funcionamento: DC magnetron sputtering (opcional RF magnetron sputtering) | ||||
| Alvos Disponíveis: Todo o metal, ITO, AZO, Si, Te, etc. | |||||
| Material alvo padrão: Pt, Cr, W, um metal precioso, dois metais não preciosos | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
  
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| A50.7043 | Modo de trabalho: evaporação térmica | ||||
| Modo de evaporação: Modos contínuos e de pulso | |||||
| Fibra de carbono: fibra de carbono 10 peças, diâmetro 0,8 mm, comprimento 1 m. | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| A50.7043-T | Modo de trabalho: evaporação térmica | ||||
| Modo de evaporação: Modos contínuos e de pulso | |||||
| Fibra de carbono: fibra de carbono 10 peças, diâmetro 0,8 mm, comprimento 1 m. | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Modo de trabalho: Revestimento Sputtering + Revestimento de Carbono de Evaporação Térmica | |||
| Alvo Padrão: Pt ou Au 1 pc, φ57×0,12mm | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| A50.7045-T | Modo de trabalho: Revestimento Sputtering + Revestimento de Carbono de Evaporação Térmica | ||||
| Alvo padrão: Pt, Cr, W, cada 1 pc; Pt：φ57×0,12mm; Cr, W：φ57×1mm | |||||
| Opcional: Monitor de espessura de filme, estágio de amostra com rotação de inclinação | |||||
| Requerimento | Recomendar modelo |
| Filme de metal e filme de carbono | A50.7045 (Baixo vácuo, adequado para ampliação inferior a 100.000x |
| A50.7045-T (alto vácuo, adequado para ampliação acima de 100.000x) | |
| Revestimento de carbono (amostra de minérios, preparação de amostra de sonda de elétrons etc para análise de componentes, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Metal pulverizado | A50.7041 (Ampliação real inferior a 50000x, SEM de filamento de tungstênio, SEM de mesa) |
| (Au, Pt, Cr, W, etc.) | A50.7042 (ampliação real inferior a 100000x, pistola de emissão de campo SEM) |
| A50.7042-T (ampliação real melhor que 100000x, pistola de emissão de campo SEM) | |
| Eletrodo, Fabricação de Dispositivo Microeletrônico | A50.7041 (revestimento Au, Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.) | |
| A50.7042-T (A maior parte do revestimento de metal, ITO, Óxido AZO etc.) | |
| Porta-luvas | A50.7042 versão personalizada |
| A50.7042-T versão personalizada | |
| Revestimento Cilíndrico | A50.7042 versão personalizada |
Huang Xin