lingua italiana
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Elemento | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Obiettivo sputtering | Obiettivo magnetron planare, con scudo dell'area oscura circostante | Obiettivo magnetron planare, con scudo dell'area oscura circostante | Obiettivo magnetron planare, con scudo dell'area oscura circostante | Obiettivo magnetron planare, con scudo dell'area oscura circostante |
| Principio di funzionamento | Sputtering DC | Sputtering del magnetron CC | Sputtering del magnetron CC | Sputtering con magnetron CC (sputtering con magnetron RF opzionale) |
| Dimensioni | 424（l）×271（D）×255（H）mm | 424（l）×271（D）×255（H）mm | 420（l）×330（D）×335（H）mm | 424（l）×345（D）×420（H）mm |
| Obiettivi disponibili | Au、Pt ecc | Au、pt、Ag、Cu、SB ecc | Au、pt、Ag、Cu ecc | Tutto metallo、ITO、AZO、si、Te ecc |
| Obiettivo standard | Au | pt | pt | pt、Cr、w |
| Dimensione dell'obiettivo | φ57×0,12 mm | pt：φ57×0,12 mm | φ57×0,12 mm | pt：φ57×0,12 mm，Altri：φ57×1 mm |
| Corrente spumeggiante | 2-30 mA a regolazione continua | 5-45 mA a regolazione continua, passo 1mA | 0-100 mA a regolazione continua | 0-200mA a regolazione continua, passo 5mA |
| Sputtering tempo | 1-999s a regolazione continua, passo 2s | 1-999s a regolazione continua, passo 1s | 1-999s a regolazione continua, passo 0s | 1-999s a regolazione continua, passo 1s |
| Camera sottovuoto | Vetro ad alto borosilicato φ130×130mm | Vetro ad alto borosilicato φ130×130mm | Vetro ad alto borosilicato φ200×130mm | Vetro ad alto borosilicato φ200×130mm |
| Pompa a vuoto | Pompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionale | Pompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionale | Pompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionale | Pompa molecolare (integrata) + pompa rotativa a palette (esterna) |
| Velocità di pompaggio | 1 | ≥1L/s | 1,1 l/s | 90L/s (pompa molecolare)+1L/s (pompa a palette) |
| Vuoto finale | ≤1 pa | ≤1 pa | ≤1 pa | ≤5×10-3Pa (entro 8 minuti) |
| vuoto di lavoro | 2-30 Pa | 2-30Pa (relativo al target) | 4-20 Pa | 0,4-2Pa (relativo al target) |
| Schermo | Touch screen a colori da 5 pollici, risoluzione 800×480 | Touch screen a colori da 5 pollici, risoluzione 800×480 | Touch screen a colori da 7 pollici, risoluzione 800×480 | Touch screen a colori da 7 pollici, risoluzione 800×480 |
| potenza nominale | 500 W | 450 W | 500 W | 800 W |
| Alimentazione di tensione in ingresso | Standard 220V/50Hz Opzionale 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Opzionale 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Opzionale 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Opzionale 110V/60Hz |
| Mezzo di lavoro | Aria o Argon | Aria o Argon | Aria o Argon | Argon di elevata purezza (purezza di argon 4N e superiore) |
| Fase campione | Portacampioni in acciaio inox φ64mm | Portacampioni in acciaio inox φ64mm | Portacampioni in acciaio inox φ125mm | Portacampioni in acciaio inox φ125mm |
| Esempio di velocità della fase | Opzionale | Opzionale | 4-20 giri regolabile | 4-20 giri regolabile |
| Fase campione con rotazione inclinata | No | Opzionale | Opzionale | Opzionale |
| Monitoraggio dello spessore del film | No | Opzionale | Opzionale | Opzionale |
| Spruzzatore di ioni | |||||
   
|  | Principio di funzionamento: sputtering CC | |||
| Bersagli disponibili: Au, Pt ecc. | |||||
| Camera a vuoto: vetro ad alto borosilicato φ130×130 mm | |||||
| Vuoto finale: ≤1Pa | |||||
| Fase campione: Fase campione in acciaio inossidabile φ64mm | |||||
| A50.7042 | Principio di funzionamento: sputtering del magnetron CC | ||||
| Bersagli disponibili: Au, Pt, Ag, Cu, Sb ecc. | |||||
| Bersaglio standard: Pt, φ57 × 0,12 mm (può essere sostituito con un bersaglio d'oro gratuitamente) | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| A50.7042-P | Principio di funzionamento: sputtering del magnetron CC | ||||
| Bersagli disponibili: Au, Pt, Ag, Cu ecc. | |||||
| Bersaglio standard: Pt, φ57 × 0,12 mm (può essere sostituito con un bersaglio d'oro gratuitamente) | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| A50.7042-T | Principio di funzionamento: sputtering magnetron CC (sputtering magnetron RF opzionale) | ||||
| Bersagli disponibili: All metal, ITO, AZO, Si, Te, ecc. | |||||
| Materiale target standard: Pt, Cr, W, un metallo prezioso, due metalli non preziosi | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Modalità di lavoro: evaporazione termica | ||||
| Modalità di evaporazione: modalità continua e pulsata | |||||
| Fibra di carbonio: fibra di carbonio 10 pezzi, diametro 0,8 mm, lunghezza 1 m. | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| A50.7043-T | Modalità di lavoro: evaporazione termica | ||||
| Modalità di evaporazione: modalità continua e pulsata | |||||
| Fibra di carbonio: fibra di carbonio 10 pezzi, diametro 0,8 mm, lunghezza 1 m. | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Modalità di lavoro: rivestimento per polverizzazione + rivestimento in carbonio per evaporazione termica | |||
| Target standard: Pt o Au 1 pz, φ57 × 0,12 mm | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| A50.7045-T | Modalità di lavoro: rivestimento per polverizzazione + rivestimento in carbonio per evaporazione termica | ||||
| Obiettivo standard: Pt, Cr, W, ciascuno 1 pz; Punto: φ57 × 0,12 mm; Cr, W：φ57×1mm | |||||
| Opzionale: monitor dello spessore del film, stadio campione con rotazione dell'inclinazione | |||||
| Requisiti | Consiglia modello |
| Film di metallo e film di carbonio | A50.7045 (basso vuoto, adatto per ingrandimenti inferiori a 100000x |
| A50.7045-T (alto vuoto, adatto per ingrandimenti oltre 100000x) | |
| Carbon Coating (campione di minerali, preparazione di campioni di sonde elettroniche ecc. per l'analisi dei componenti, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Metallo sfrigolante | A50.7041 (ingrandimento effettivo inferiore a 50000x, SEM a filamento di tungsteno, SEM da tavolo) |
| (Au, Pt, Cr, W, ecc.) | A50.7042 (ingrandimento effettivo inferiore a 100000x, pistola a emissione di campo SEM) |
| A50.7042-T (ingrandimento effettivo migliore di 100000x, pistola a emissione di campo SEM) | |
| Elettrodo, fabbricazione di dispositivi microelettronici | A50.7041 (Au, rivestimento Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, ecc.) | |
| A50.7042-T (la maggior parte del rivestimento in metallo, ITO, ossido di AZO ecc.) | |
| Scatola di guanti | A50.7042 versione personalizzata |
| A50.7042-T versione personalizzata | |
| Rivestimento cilindrico | A50.7042 versione personalizzata |
Huang Xin