Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.100043Perché noi (指向 公司信息, 格式不好编辑, 另起一个页面Perché noi)F-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Pechino 100043, CinaOpto-Edu (Pechino) Co., Ltd.100043Perché noi (指向 公司信息, 格式不好编辑, 另起一个页面Perché noi)F-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Pechino 100043, CinaOpto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu (Pechino) Co., Ltd.Opto-Edu

Magnetron Ion Sputter Coater
Magnetron Ion Sputter Coater

Magnetron Ion Sputter Coater

  • Touch screen a colori da 7 pollici con controllo automatico della GUI intuitivo Non è necessario il controllo manuale
  • Sputtering del magnetron CC, corrente di sputtering 0-100 mA e tempo di sputtering 1-999 s regolabile in continuo
  • Bersaglio magnetron planare, con schermo per area oscura circostante, incluso bersaglio standard Pt o Au
  • Inclusa pompa rotativa a palette, (pompa a scorrimento a secco opzionale), velocità di pompaggio 1L/s, vuoto limite ≤1P
  • Aggiornamento opzionale: monitoraggio dello spessore del film, piattaforma di campionamento con rotazione inclinabile
quantità:
Opto-Edu A50.704SerieRivestimento ionico e rivestimento in carbonio, è un sistema di verniciatura compatto in serie in grado di rivestiremetalli nobilicome l'oro (Au), palladio (Pd), platino (Pt) e film sottili di oro/palladio (Au/Pd) su campioni non conduttivi o scarsamente conduttivi. Uniformepellicole sottilicon pezzature a grana fine si formano in tempi di ciclo rapidi. Il film sottile prodotto è adatto permicroscopia elettronica a scansione(SEM) analisi e molti altri esperimenti di laboratoriont lavoro di preparazione del materiale. La scrivaniaMagnetron Coaterè uno strumento ad alta produttività che fornisce risultati coerenti e altamente ripetibili nel sistema completamente automatizzato. Il design ergonomico e l'ingombro ridotto delSistema di rivestimento SEMconsente un facile utilizzo delsistema.
RequisitiModello consigliato
Pellicola metallica e pellicola di carbonioA50.7045 (basso vuoto, adatto per ingrandimenti inferiori a 100000x
A50.7045-T (alto vuoto, adatto per ingrandimenti oltre 100000x)
Carbon Coating (campione di minerali, preparazione del campione di sonda elettronica ecc. per analisi dei componenti, EDS, EBSD ETC)A50.7043
A50.7043-T
Metallo sputacchianteA50.7041 (ingrandimento effettivo inferiore a 50000x, SEM con filamento di tungsteno, SEM da tavolo)
(Au, Pt, Cr, W, ecc.)A50.7042 (ingrandimento effettivo inferiore a 100000x, pistola a emissione di campo SEM)
 A50.7042-T (ingrandimento effettivo migliore di 100000x, pistola a emissione di campo SEM)
Elettrodo, dispositivo microelettronico fabbricatoA50.7041 (Au, rivestimento Pt)
A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, ecc.)
A50.7042-T (la maggior parte del rivestimento metallico, ITO, ossido di azo ecc.)
Scatola di guantiA50.7042 versione personalizzata
A50.7042-T versione personalizzata
Rivestimento cilindricoA50.7042 versione personalizzata
ArticoloA50.7041A50.7042A50.7042-PA50.7042-T
Bersaglio SputteringBersaglio magnetron planare, con scudo area oscura circostanteBersaglio magnetron planare, con scudo area oscura circostanteBersaglio magnetron planare, con scudo area oscura circostanteBersaglio magnetron planare, con scudo area oscura circostante
Principio di funzionamentoSputtering CCSputtering di magnetron CCSputtering di magnetron CCSputtering magnetron CC (sputtering magnetron RF opzionale)
Dimensioni424l×271D×255Hmm424l×271D×255Hmm420l×330D×335Hmm424l×345D×420Hmm
Obiettivi disponibiliAuPt eccAuptAgCuSb eccAuptAgCu eccTutto metalloITOAZOTe ecc
Obiettivo standardAuptptptCrW
Dimensione obiettivoφ57 × 0,12 mmptφ57 × 0,12 mmφ57 × 0,12 mmptφ57 × 0,12 mmAltriφ57×1 mm
Corrente di sputtering2-30 mA regolabile in continuo5-45 mA regolabile in continuo, passo 1mA0-100 mA regolabile in continuo0-200 mA regolabile in continuo, passo 5 mA
Tempo di sputare1-999s regolabile in continuo, passo 2s1-999s regolabile in continuo, passo 1s1-999s regolabile in continuo, passo 0s1-999s regolabile in continuo, passo 1s
Camera sottovuotoVetro borosilicato alto φ130×130mmVetro borosilicato alto φ130×130mmVetro borosilicato alto φ200×130mmVetro borosilicato alto φ200×130mm
Pompa a vuotoPompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionalePompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionalePompa rotativa a palette, pompa scroll a secco opzionalePompa molecolare (integrata) + pompa rotativa a palette (esterna)
Velocità di pompaggio11L/sec1,1 l/sec90L/s (pompa molecolare)+1L/s (pompa rotativa a palette)
Vuoto definitivo1Pa1Pa1Pa5×10-3Pa (entro 8 minuti)
vuoto di lavoro2-30Pa2-30Pa (relativo all'obiettivo)4-20Pa0.4-2Pa (relativo all'obiettivo)
SchermoTouch screen a colori da 5 pollici, risoluzione 800×480Touch screen a colori da 5 pollici, risoluzione 800×480Touch screen a colori da 7 pollici, risoluzione 800×480Touch screen a colori da 7 pollici, risoluzione 800×480
potenza nominale500W450W500W800 W
Alimentazione di tensione in ingressoStandard 220V/50Hz Opzionale 110V/60HzStandard 220V/50Hz Opzionale 110V/60HzStandard 220V/50Hz Opzionale 110V/60HzStandard 220V/50Hz Opzionale 110V/60Hz
Mezzo di lavoroAria o ArgonAria o ArgonAria o ArgonArgon di elevata purezza (purezza dell'argon 4N e superiore)
Fase campionePortacampione in acciaio inossidabile φ64mmPortacampione in acciaio inossidabile φ64mmPortacampione in acciaio inossidabile φ125mmPortacampione in acciaio inossidabile φ125mm
Campione di velocità della faseOpzionaleOpzionale4-20 giri regolabili4-20 giri regolabili
Portacampioni inclinabile e ruotabileNoOpzionaleOpzionaleOpzionale
Monitoraggio dello spessore del filmNoOpzionaleOpzionaleOpzionale
Pictures
Model No. A50.7042-P
Distanza di lavoro
格式:1.0,或1.0~2.0
Scala di messa a fuoco
0,000000
Gamma di messa a fuoco
0,000000
Dimensione della fase di lavoro
Dimensione: 100x100 mm, Ø Dia.100 mm
Ingrandimento standard
10x

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