| アイテム | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| スパッタリングターゲット | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き | 平面マグネトロン ターゲット、周囲のダーク エリア シールド付き |
| 動作原理 | DCスパッタリング | DCマグネトロンスパッタリング | DCマグネトロンスパッタリング | DC マグネトロン スパッタリング (オプションの RF マグネトロン スパッタリング) |
| 寸法 | 424(L)×271(D)×255(H)んん | 424(L)×271(D)×255(H)んん | 420(L)×330(D)×335(H)んん | 424(L)×345(D)×420(H)んん |
| 利用可能なターゲット | オー、点など | オー、ポイント、Ag、銅、Sbなど | オー、ポイント、Ag、銅など | すべての金属、伊藤、あぞ、シ、てなど |
| 標準ターゲット | オー | ポイント | ポイント | ポイント、クロム、W |
| 対象サイズ | φ57×0.12mm | ポイント:φ57×0.12mm | φ57×0.12mm | ポイント:φ57×0.12mm,その他:φ57×1mm |
| スパッタリング電流 | 2-30mA 連続調整可能 | 5 ~ 45 mA 連続調整可能、ステップ サイズ 1 mA | 0-100mA 連続調整可能 | 0-200mA 連続調整可能、ステップサイズ 5mA |
| スパッタリング時間 | 1 ~ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 2 秒 | 1 ~ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 1 秒 | 1 ~ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 0 秒 | 1 ~ 999 秒の連続調整可能、ステップ サイズ 1 秒 |
| 真空室 | 高ホウケイ酸ガラス φ130×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ130×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ200×130mm | 高ホウケイ酸ガラス φ200×130mm |
| 真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | ロータリーベーンポンプ、オプションのドライスクロールポンプ | 分子ポンプ(内蔵)+ロータリーベーンポンプ(外付け) |
| 排気速度 | 1 | ≥1L/秒 | 1.1L/秒 | 90L/s(分子ポンプ)+1L/s(ロータリーベーンポンプ) |
| 究極の真空 | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa(8分以内) |
| 作業真空 | 2~30Pa | 2~30Pa(対象物に対して) | 4~20Pa | 0.4~2Pa(対象物に対して) |
| 画面 | 5インチカラータッチスクリーン、解像度800×480 | 5インチカラータッチスクリーン、解像度800×480 | 7型カラータッチスクリーン、解像度800×480 | 7型カラータッチスクリーン、解像度800×480 |
| 定格出力 | 500W | 450W | 500W | 800W |
| 入力電圧供給 | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz | 標準 220V/50Hz オプション 110V/60Hz |
| ワーキングメディア | 空気またはアルゴン | 空気またはアルゴン | 空気またはアルゴン | 高純度アルゴン(アルゴン純度4N以上) |
| サンプルステージ | φ64mmステンレス製試料台 | φ64mmステンレス製試料台 | φ125mmステンレス製試料台 | φ125mmステンレス製試料台 |
| サンプルステージ速度 | オプション | オプション | 4-20rpm 調整可能 | 4-20rpm 調整可能 |
| チルト回転サンプルステージ | いいえ | オプション | オプション | オプション |
| 膜厚モニタリング | いいえ | オプション | オプション | オプション |