Magnetron Ion Sputter Coater

7' farveberøringsskærm med venlig GUI-automatisk styring Behøves ikke manuelt

DC Magnetron Sputtering, Sputtering Current 0-100mA & Sputtering Time 1-999s Kontinuerligt justerbar

Planar Magnetron Target, med omgivende mørkeområde skjold, inklusive standard Target Pt eller Au

Inklusive roterende vingepumpe, (valgfri tør rullepumpe), pumpehastighed 1L/s, ultimativt vakuum ≤1P

Valgfri opgradering: Overvågning af filmtykkelse, Tilt-rotate Sample Stage

Opto-Edu A50.704SerieIon Coater & Carbon Coater, er en serie kompakt belægningssystem i stand til at belæggeædelmetallersåsom guld (Au), palladium (Pd), platin (Pt) og guld/palladium (Au/Pd) tynde film på ikke-ledende eller dårligt ledende prøver. Uniformtynde filmmed finkornede størrelser dannes i en hurtig cyklustid. Den producerede tyndfilm er velegnet tilscanning elektronmikroskopi(SEM) analyse og mange andre laboratorieeksperimenternt materiale forberedelsesarbejde. SkrivebordetMagnetron Coaterer et højproduktivt værktøj, der leverer konsistente og meget gentagelige resultater i det fuldautomatiske system. Det ergonomiske design og lille fodaftrykSEM belægningssystemgiver nem brug afsystem.

Krav	Anbefal model
Metalfilm og kulstoffilm	A50.7045 (Lavt vakuum, velegnet til forstørrelse mindre end 100.000x
Metalfilm og kulstoffilm	A50.7045-T (Højvakuum, velegnet til forstørrelse over 100.000x)
Carbon Coating (malmprøve, forberedelse af elektronprobeprøver osv. til komponentanalyse, EDS, EBSD ETC)	A50.7043
	A50.7043-T
Sputtering Metal	A50.7041 (Faktisk forstørrelse mindre end 50000x, Tungsten filament SEM, bordplade SEM)
(Au, Pt, Cr, W osv.)	A50.7042 (Faktisk forstørrelse mindre end 100.000x, feltemissionspistol SEM)
	A50.7042-T (Faktisk forstørrelse bedre end 100.000x, feltemissionspistol SEM)
Elektrode, mikroelektronisk enhedsfabrikation	A50.7041 (Au, Pt-belægning)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn osv.)
	A50.7042-T (Det meste af metalbelægningen, ITO, AZO Oxide osv.)
Handskerum	A50.7042 tilpasset version
Handskerum	A50.7042-T tilpasset version
Cylindrisk belægning	A50.7042 tilpasset version

Vare	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
Sputtering Target	Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold	Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold	Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold	Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold
Arbejdsprincip	DC sputtering	DC magnetron sputtering	DC magnetron sputtering	DC magnetron sputtering (valgfri RF magnetron sputtering)
Dimensioner	424（L）×271（D）× 255（H）mm	424（L）×271（D）× 255（H）mm	420（L）×330（D）×335（H）mm	424（L）×345（D）×420（H）mm
Tilgængelige mål	Au、Pt osv	Au、Pt、Ag、Cu、Sb osv	Au、Pt、Ag、Cu osv	Alt i metal、ITO、AZO、Si、Te osv
Standardmål	Au	Pt	Pt	Pt、Cr、W
Målstørrelse	φ57×0,12 mm	Pt：φ57×0,12 mm	φ57×0,12 mm	Pt：φ57×0,12 mm，Andre：φ57×1 mm
Sputtering Strøm	2-30mA trinløst justerbar	5-45 mA trinløst justerbar, trinstørrelse 1mA	0-100mA trinløst justerbar	0-200mA trinløst justerbar, trinstørrelse 5mA
Sputtering Time	1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 2s	1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 1s	1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 0s	1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 1s
Vakuumkammer	Højt borosilikatglas φ130×130mm	Højt borosilikatglas φ130×130mm	Højt borosilikatglas φ200×130mm	Højt borosilikatglas φ200×130mm
Vakuum pumpe	Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe	Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe	Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe	Molekylær pumpe (indbygget) + roterende vingepumpe (ekstern)
Pumpehastighed	1	≥1 l/s	1,1 l/s	90L/s (molekylær pumpe)+1L/s (roterende vingepumpe)
Ultimativt vakuum	≤1 Pa	≤1 Pa	≤1 Pa	≤5×10-3Pa (inden for 8 minutter)
arbejdsvakuum	2-30 Pa	2-30Pa (relateret til målet)	4-20 Pa	0,4-2Pa (relateret til målet)
Skærm	5-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480	5-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480	7-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480	7-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480
nominel effekt	500W	450W	500W	800W
Indgangsspændingsforsyning	Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz
Arbejdsmedium	Luft eller argon	Luft eller argon	Luft eller argon	Højrenhedsargon (argonrenhed 4N og derover)
Prøvestadie	φ64 mm prøvetrin i rustfrit stål	φ64 mm prøvetrin i rustfrit stål	φ125 mm prøvetrin i rustfrit stål	φ125 mm prøvetrin i rustfrit stål
Sample Stage Speed	Valgfri	Valgfri	Justerbar 4-20 rpm	Justerbar 4-20 rpm
Vip-roter prøvetrin	Ingen	Valgfri	Valgfri	Valgfri
Overvågning af filmtykkelse	Ingen	Valgfri	Valgfri	Valgfri

Pictures

Model No.

A50.7042-P

Arbejdsafstand

格式:1.0,或1.0~2.0

Fokuseringsskala

0,000000

Fokusområde

0,000000

Arbejdstrins størrelse

Mål: 100x100 mm, Ø 100 mm

Standard forstørrelse

10x

Avancerede cookieindstillinger

Væsentlige cookies

Disse cookies muliggør kernefunktionalitet såsom sikkerhed, verifikation af identitet og netværksstyring. Disse cookies kan ikke deaktiveres.

Aktiver Marketing Cookies

Disse cookies bruges til at spore annoncerings ydeevne, give samtykke til afsendelse af reklamerelaterede brugerdata til Google og give samtykke til, at hjemmesiden viser personlig annoncering for at levere mere relevante tjenester.

Aktiver funktionelle cookies

Disse cookies indsamler data for at huske valg, brugere træffer for at forbedre og give en mere personlig oplevelse.

Aktiver Analytics-cookies

Disse cookies hjælper os med at forstå, hvordan besøgende interagerer med vores hjemmeside, opdager fejl og giver en bedre overordnet analyse.

A50.7042-P

Magnetron Ion Sputter Coater

online service

send besked

What's New

Kontakt os

Service

SAMMENLIGN PRODUKTER

Avancerede cookieindstillinger

Væsentlige cookies

Aktiver Marketing Cookies

Aktiver funktionelle cookies

Aktiver Analytics-cookies