Magnetron Ion Sputter Coater

Ecrã táctil a cores de 7' com controlo automático GUI amigável sem necessidade de controlo manual

DC Magnetron Sputtering, Sputtering Current 0-100mA & Sputtering Time 1-999s Ajustável continuamente

Alvo Magnetron planar, com escudo de área escura ao redor, incluindo alvo padrão Pt ou Au

Incluindo bomba de palhetas rotativas, (bomba de rolagem seca opcional), velocidade de bombeamento 1L/s, vácuo final ≤1P

Atualização opcional: monitoramento da espessura do filme, estágio de amostra com rotação e inclinação

Opto-Edu A50.704SeriesRevestimento de íons e revestimento de carbono, é um sistema de revestimento compacto em série capaz de revestirmetais nobrescomo ouro (Au), filmes finos de paládio (Pd), platina (Pt) e ouro/paládio (Au/Pd) em amostras não condutoras ou pouco condutoras. Uniformefilmes finoscom tamanhos de grão fino são formados em um tempo de ciclo rápido. O filme fino produzido é adequado paramicroscopia eletrônica de varredura(SEM) análise e muitos outros experimentos de laboratóriotrabalho de preparação de material nt. A mesaMagnetron Coateré uma ferramenta de alta produtividade que fornece resultados consistentes e altamente repetíveis no sistema totalmente automatizado. O design ergonómico e o tamanho compacto doSistema de revestimento SEMpermite uma fácil utilização dosistema.

Requerimento	Modelo recomendado
Filme de metal e filme de carbono	A50.7045 (Baixo vácuo, adequado para ampliação inferior a 100000x
Filme de metal e filme de carbono	A50.7045-T (Alto Vácuo, adequado para ampliação acima de 100000x)
Revestimento de carbono (amostra de minérios, preparação de amostra de sonda eletrônica, etc. para análise de componentes, EDS, EBSD ETC)	A50.7043
	A50.7043-T
Metal crepitante	A50.7041 (Ampliação real inferior a 50000x, filamento de tungstênio SEM, SEM de mesa)
(Au, Pt, Cr, W, etc.)	A50.7042 (Ampliação real inferior a 100000x, SEM da pistola de emissão de campo)
	A50.7042-T (Ampliação real melhor que 100000x, SEM da pistola de emissão de campo)
Fabricação de eletrodo, dispositivo microeletrônico	A50.7041 (revestimento Au, Pt)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.)
	A50.7042-T (A maior parte do revestimento metálico, ITO, Óxido AZO etc.)
Porta-luvas	A50.7042 versão personalizada
Porta-luvas	A50.7042-T versão personalizada
Revestimento cilíndrico	A50.7042 versão personalizada

Item	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
Alvo crepitante	Alvo magnetron planar, com escudo de área escura ao redor	Alvo magnetron planar, com escudo de área escura ao redor	Alvo magnetron planar, com escudo de área escura ao redor	Alvo magnetron planar, com escudo de área escura ao redor
Princípio de trabalho	DC sputtering	Sputtering do magnetron DC	Sputtering do magnetron DC	Sputtering de magnetron DC (sputtering de magnetron RF opcional)
Dimensões	424（eu）×271（D）×255（H）milímetros	424（eu）×271（D）×255（H）milímetros	420（eu）×330（D）×335（H）milímetros	424（eu）×345（D）×420（H）milímetros
Alvos Disponíveis	Au、PT etc	Au、PT、Ag、Cu、Sb etc	Au、PT、Ag、Cu etc	Todo metal、ITO、AZO、Si、te etc
Alvo padrão	Au	PT	PT	PT、Cr、C
Tamanho Alvo	φ57 × 0,12 mm	PT：φ57 × 0,12 mm	φ57 × 0,12 mm	PT：φ57 × 0,12 mm，Outras：φ57×1mm
Corrente de pulverização	2-30mA continuamente ajustável	5-45 mA continuamente ajustável, tamanho do passo 1mA	0-100mA continuamente ajustável	0-200mA continuamente ajustável, tamanho do passo 5mA
Tempo de pulverização	1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 2s	1-999s ajustável continuamente, tamanho do passo 1s	1-999s continuamente ajustável, tamanho do passo 0s	1-999s ajustável continuamente, tamanho do passo 1s
Câmara de vácuo	Vidro de borosilicato alto φ130×130mm	Vidro de borosilicato alto φ130×130mm	Vidro de borosilicato alto φ200×130mm	Vidro de borosilicato alto φ200×130mm
Bomba de vácuo	Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional	Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional	Bomba de palhetas rotativas, bomba de rolagem seca opcional	Bomba molecular (embutida) + bomba rotativa de palhetas (externa)
Velocidade de bombeamento	1	≥1L/s	1,1L/s	90L/s (bomba molecular)+1L/s (bomba de palhetas rotativas)
vácuo final	≤1Pa	≤1Pa	≤1Pa	≤5×10-3Pa (dentro de 8 minutos)
vácuo de trabalho	2-30Pa	2-30Pa (relacionado ao alvo)	4-20Pa	0,4-2Pa (relacionado ao alvo)
exibição	Ecrã tátil a cores de 5 polegadas, resolução 800×480	Ecrã tátil a cores de 5 polegadas, resolução 800×480	Ecrã tátil a cores de 7 polegadas, resolução 800×480	Ecrã tátil a cores de 7 polegadas, resolução 800×480
potência nominal	500W	450W	500W	800W
Fonte de Tensão de Entrada	Padrão 220 V/50 Hz Opcional 110 V/60 Hz	Padrão 220 V/50 Hz Opcional 110 V/60 Hz	Padrão 220 V/50 Hz Opcional 110 V/60 Hz	Padrão 220 V/50 Hz Opcional 110 V/60 Hz
Meio de trabalho	ar ou argônio	ar ou argônio	ar ou argônio	Argônio de alta pureza (pureza de argônio 4N e superior)
Estágio de Amostra	estágio de amostra de aço inoxidável φ64mm	estágio de amostra de aço inoxidável φ64mm	Estágio de amostra de aço inoxidável φ125mm	Estágio de amostra de aço inoxidável φ125mm
Velocidade do estágio de amostra	Opcional	Opcional	4-20rpm ajustável	4-20rpm ajustável
Estágio de amostra de inclinação e rotação	Não	Opcional	Opcional	Opcional
Monitoramento da Espessura do Filme	Não	Opcional	Opcional	Opcional

Pictures

Model No.

A50.7042-P

Distância de trabalho

格式:1.0,或1.0~2.0

Escala de focagem

0,000000

Faixa de foco

0,000000

Tamanho do Estágio de Trabalho

Diâmetro: 100x100mm, Diâmetro 100mm

Ampliação Padrão

10x

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