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Revestimento por pulverização de íons e revestimento por evaporação
Revestimento por pulverização de íons e revestimento por evaporação

A50.7042

Como os Favoritos

Revestimento por pulverização de íons e revestimento por evaporação

  • Ecrã táctil a cores de 5' com controlo automático GUI amigável sem necessidade de controlo manual
  • DC Magnetron Sputtering, Sputtering Current 2-30mA & Sputtering Time 1-999s Ajustável continuamente
  • Alvo Magnetron planar, com escudo de área escura ao redor, incluindo alvo padrão Pt ou Au
  • Incluindo bomba de palhetas rotativas, (bomba de rolagem seca opcional), velocidade de bombeamento 1L/s, vácuo final ≤1P
  • Atualização opcional: monitoramento da espessura do filme, estágio de amostra com rotação e inclinação
Quantidade：
ParâmetrosA50.7042
Cabeça de pulverização:magnetron planar
Câmara de vácuo:(OD)φ125×130mm/（ID）φ108×130mm
Material da câmara:Vidro de boro de alto silício
Tamanho da tabela de amostra:φ64mm
Tamanho do alvo:φ57×0,12mm
Alvo de pulverização:Au、Pt、Ag、Cu、Pd、Au-Pd
Bomba de vácuo:Bomba de palhetas rotativas
Velocidade da bomba:1,1L/s（50Hz）
Corrente de pulverização:5-45mA, passo mínimo é 1mA
Tempo de pulverização:1-999s, passo mínimo é 1s
Pressão final:＜1Pa
Medidor de Vácuo:Calibre Pirani
Outras características:(1) Assistente de operação integrado, o que significa que não há necessidade de treinamento
(2) substitua o alvo de pulverização rapidamente
(3) muito fácil de ajustar a altura da placa de amostra
(4) proteção automática de sobrecorrente e sobre vácuo
(5) intertravamento de software e hardware para garantir a segurança
Interface:Tela de toque colorida de 5 polegadas
Operação:Automático
Pictures
Revestimento por pulverização de íons e revestimento por evaporação
Model No. A50.7042
Distância de trabalho
 格式:1.0,或1.0~2.0
Escala de focagem
 0,000000
Faixa de foco
 0,000000
Tamanho do Estágio de Trabalho
 Tamanho: 100x100mm,或Diâmetro 100mm
Ampliação Padrão
 10x

Sistema de preparação de amostras de congelamento por imersão
A50.7098
Sistema de preparação de amostras de congelamento por imersão
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Micro In-situ Heating & Tensile Stage
A50.7009
Micro In-situ Heating & Tensile Stage
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Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
A50.7039
Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
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Revestidor de ionização
A50.7041
Revestidor de ionização
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Magnetron Ion Sputter Coater
A50.7042-P
Magnetron Ion Sputter Coater
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Revestimento por pulverização de íons de alto vácuo e revestimento por evaporação
A50.7042-T
Revestimento por pulverização de íons de alto vácuo e revestimento por evaporação
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Revestimento de Carbono por Evaporação Térmica
A50.7043
Revestimento de Carbono por Evaporação Térmica
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Revestimento de Carbono por Evaporação Térmica, Alto Vácuo
A50.7043-T
Revestimento de Carbono por Evaporação Térmica, Alto Vácuo
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