Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.100043Warum wirF-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Peking 100043, ChinaOpto-Edu (Peking) Co., Ltd.100043Warum wirF-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Peking 100043, ChinaOpto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co., Ltd.Opto-Edu (Peking) Co.,

Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater

A50.7042

Wie Favoriten

Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater

  • 5-Zoll-Farb-Touchscreen mit benutzerfreundlicher automatischer GUI-Steuerung Keine manuelle Steuerung erforderlich
  • DC-Magnetron-Sputtern, Sputterstrom 2-30mA & Sputterzeit 1-999s stufenlos einstellbar
  • Planares Magnetron-Target mit umgebendem Dark Area Shield, einschließlich Standard-Target Pt oder Au
  • Einschließlich Drehschieberpumpe (optionale trockene Scrollpumpe), Pumpgeschwindigkeit 1 l/s, Endvakuum ≤ 1 P
  • Optionales Upgrade: Filmdickenüberwachung, Kipp-Dreh-Probentisch
Menge：
ParameterA50.7042
Sputterkopf:planares Magnetron
Vakuumkammer:(AD)φ125×130mm/（ID）φ108×130mm
Kammermaterial:Borglas mit hohem Siliziumgehalt
Beispieltabellengröße:Ø64mm
Zielgröße:φ57 × 0,12 mm
Sputter-Target:Au, Pt, Ag, Cu, Pd, Au-Pd
Vakuumpumpe:Drehschieberpumpe
Pumpengeschwindigkeit:1,1 l/s (50 Hz)
Sputterstrom:5-45mA, minimaler Schritt ist 1mA
Sputterzeit:1-999s, minimaler Schritt ist 1s
Enddruck:＜1Pa
Vakuummessgerät:Pirani-Messgerät
Andere Eigenschaften:(1) Eingebauter Betriebsassistent, was bedeutet, dass keine Schulung erforderlich ist
(2) Ersetzen Sie das Sputter-Target schnell
(3) sehr einfach, die Höhe der Probenplatte einzustellen
(4) Automatischer Schutz vor Überstrom und Übervakuum
(5) Software- und Hardware-Verriegelung zur Gewährleistung der Sicherheit
Schnittstelle:5-Zoll-Farb-Touchscreen
Betrieb:Automatisch
Pictures
Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
Model No. A50.7042
Arbeitsentfernung
 格式:1.0, 或1.0~2.0
Fokussierskala
 0,000000
Fokussierbereich
 0,000000
Größe der Arbeitsbühne
 Größe: 100 x 100 mm, Durchmesser 100 mm
Standardvergrößerung
 10x

System zur Probenvorbereitung mit Tauchgefrieren
A50.7098
System zur Probenvorbereitung mit Tauchgefrieren
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Micro In-situ Heating & Tensile Stage
A50.7009
Micro In-situ Heating & Tensile Stage
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Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
A50.7039
Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
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Ionen-Sputter-Coater
A50.7041
Ionen-Sputter-Coater
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Magnetron-Ionen-Sputter-Coater
A50.7042-P
Magnetron-Ionen-Sputter-Coater
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Hochvakuum-Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
A50.7042-T
Hochvakuum-Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
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Kohlenstoffbeschichter mit thermischer Verdampfung
A50.7043
Kohlenstoffbeschichter mit thermischer Verdampfung
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Carbon Coater mit thermischer Verdampfung, Hochvakuum
A50.7043-T
Carbon Coater mit thermischer Verdampfung, Hochvakuum
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