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| Artikel | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Sputter-Target | Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung | Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung | Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung | Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung |
| Arbeitsprinzip | DC-Sputtern | DC-Magnetron-Sputtern | DC-Magnetron-Sputtern | DC-Magnetron-Sputtern (optional HF-Magnetron-Sputtern) |
| Maße | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 420（L）×330（D）×335（H）mm | 424（L）×345（D）×420（H）mm |
| Verfügbare Ziele | Au、Pt usw | Au、Pkt、Ag、Cu、Sb usw | Au、Pkt、Ag、Cu usw | Ganzmetall、ITO、AZO、Si、Te usw |
| Standardziel | Au | Pkt | Pkt | Pkt、Kr、W |
| Zielgröße | φ57 × 0,12 mm | Pkt：φ57 × 0,12 mm | φ57 × 0,12 mm | Pkt：φ57 × 0,12 mm，Andere：φ57×1mm |
| Sputterstrom | 2-30mA stufenlos einstellbar | 5-45 mA stufenlos einstellbar, Schrittweite 1mA | 0-100mA stufenlos einstellbar | 0-200mA stufenlos einstellbar, Schrittweite 5mA |
| Sputterzeit | 1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 2s | 1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 1s | 1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 0s | 1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 1s |
| Vakuumkammer | Hohes Borosilikatglas φ130×130mm | Hohes Borosilikatglas φ130×130mm | Hohes Borosilikatglas φ200×130mm | Hohes Borosilikatglas φ200×130mm |
| Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe | Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe | Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe | Molekularpumpe (eingebaut) + Drehschieberpumpe (extern) |
| Pumpgeschwindigkeit | 1 | ≥1 l/s | 1,1 l/s | 90L/s (Molekularpumpe)+1L/s (Drehschieberpumpe) |
| Ultimatives Vakuum | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa (innerhalb von 8 Minuten) |
| Arbeitsvakuum | 2-30 Pa | 2-30Pa (bezogen auf das Ziel) | 4-20 Pa | 0,4-2 Pa (bezogen auf das Ziel) |
| Anzeige | 5-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480 | 5-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480 | 7-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480 | 7-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480 |
| Nennleistung | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Eingangsspannungsversorgung | Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz | Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz | Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz | Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz |
| Arbeitsmedium | Luft oder Argon | Luft oder Argon | Luft oder Argon | Hochreines Argon (Argon Reinheit 4N und höher) |
| Beispielphase | φ64 mm Probentisch aus Edelstahl | φ64 mm Probentisch aus Edelstahl | φ125 mm Probentisch aus Edelstahl | φ125 mm Probentisch aus Edelstahl |
| Probenbühnengeschwindigkeit | Optional | Optional | 4-20 U/min einstellbar | 4-20 U/min einstellbar |
| Probentisch kippen und drehen | Nein | Optional | Optional | Optional |
| Schichtdickenüberwachung | Nein | Optional | Optional | Optional |
| Ionen-Sputter-Coater | |||||
   
|  | Arbeitsprinzip: DC-Sputtern | |||
| Verfügbare Targets: Au, Pt usw. | |||||
| Vakuumkammer: Hohes Borosilikatglas φ130 × 130 mm | |||||
| Endvakuum: ≤1Pa | |||||
| Probentisch: φ64 mm Probentisch aus Edelstahl | |||||
| A50.7042 | Arbeitsprinzip: DC-Magnetron-Sputtern | ||||
| Verfügbare Targets: Au, Pt, Ag, Cu, Sb usw. | |||||
| Standardziel: Pt, φ57×0,12 mm (kann kostenlos durch ein Goldziel ersetzt werden) | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| A50.7042-P | Arbeitsprinzip: DC-Magnetron-Sputtern | ||||
| Verfügbare Targets: Au, Pt, Ag, Cu usw. | |||||
| Standardziel: Pt, φ57×0,12 mm (kann kostenlos durch ein Goldziel ersetzt werden) | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| A50.7042-T | Arbeitsprinzip: DC-Magnetron-Sputtern (optional HF-Magnetron-Sputtern) | ||||
| Verfügbare Targets: Alle Metalle, ITO, AZO, Si, Te usw. | |||||
| Standard-Targetmaterial: Pt, Cr, W, ein Edelmetall, zwei Nichtedelmetalle | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Arbeitsmodus: Thermische Verdampfung | ||||
| Verdampfungsmodus: Kontinuierlicher und Impulsmodus | |||||
| Kohlefaser: Kohlefaser 10 Stück, Durchmesser 0,8 mm, Länge 1 m. | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| A50.7043-T | Arbeitsmodus: Thermische Verdampfung | ||||
| Verdampfungsmodus: Kontinuierlicher und Impulsmodus | |||||
| Kohlefaser: Kohlefaser 10 Stück, Durchmesser 0,8 mm, Länge 1 m. | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Arbeitsmodus: Sputterbeschichtung + Kohlenstoffbeschichtung durch thermische Verdampfung | |||
| Standardtarget: Pt oder Au 1 Stück, φ57×0,12 mm | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| A50.7045-T | Arbeitsmodus: Sputterbeschichtung + Kohlenstoffbeschichtung durch thermische Verdampfung | ||||
| Standard Target: Pt, Cr, W, je 1 Stück; Pt：φ57×0,12 mm; Cr, W: φ57 × 1 mm | |||||
| Optional: Filmdickenmonitor, Kipp-Dreh-Probentisch | |||||
| Erfordernis | Modell empfehlen |
| Metallfilm und Kohlenstofffilm | A50.7045 (Niedrigvakuum, geeignet für Vergrößerungen unter 100000x |
| A50.7045-T (Hochvakuum, geeignet für Vergrößerung über 100000x) | |
| Kohlenstoffbeschichtung (Erzprobe, Probenvorbereitung für Elektronensonden usw. für die Komponentenanalyse, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputterndes Metall | A50.7041 (Tatsächliche Vergrößerung weniger als 50000x, Wolfram-Filament-REM, Tisch-REM) |
| (Au, Pt, Cr, W usw.) | A50.7042 (Tatsächliche Vergrößerung weniger als 100000x, Feldemissionskanone SEM) |
| A50.7042-T (Tatsächliche Vergrößerung besser als 100000x, Feldemissionskanone SEM) | |
| Elektrode, Herstellung von mikroelektronischen Geräten | A50.7041 (Au, Pt-Beschichtung) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn usw.) | |
| A50.7042-T (Die meisten Metallbeschichtungen, ITO, AZO-Oxid usw.) | |
| Handschuhfach | A50.7042 kundenspezifische Ausführung |
| A50.7042-T kundenspezifische Ausführung | |
| Zylindrische Beschichtung | A50.7042 kundenspezifische Ausführung |
Huang Xin