dansk
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Vare | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Sputtering Target | Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold | Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold | Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold | Plan magnetronmål med omgivende mørkt område skjold |
| Arbejdsprincip | DC sputtering | DC magnetron sputtering | DC magnetron sputtering | DC magnetron sputtering (valgfri RF magnetron sputtering) |
| Dimensioner | 424（L）×271（D）× 255（H）mm | 424（L）×271（D）× 255（H）mm | 420（L）×330（D）×335（H）mm | 424（L）×345（D）×420（H）mm |
| Tilgængelige mål | Au、Pt osv | Au、Pt、Ag、Cu、Sb osv | Au、Pt、Ag、Cu osv | Alt i metal、ITO、AZO、Si、Te osv |
| Standardmål | Au | Pt | Pt | Pt、Cr、W |
| Målstørrelse | φ57×0,12 mm | Pt：φ57×0,12 mm | φ57×0,12 mm | Pt：φ57×0,12 mm，Andre：φ57×1 mm |
| Sputtering Strøm | 2-30mA trinløst justerbar | 5-45 mA trinløst justerbar, trinstørrelse 1mA | 0-100mA trinløst justerbar | 0-200mA trinløst justerbar, trinstørrelse 5mA |
| Sputtering Time | 1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 2s | 1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 1s | 1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 0s | 1-999s trinløst justerbar, trinstørrelse 1s |
| Vakuumkammer | Højt borosilikatglas φ130×130mm | Højt borosilikatglas φ130×130mm | Højt borosilikatglas φ200×130mm | Højt borosilikatglas φ200×130mm |
| Vakuum pumpe | Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe | Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe | Roterende vingepumpe, valgfri tørscrollpumpe | Molekylær pumpe (indbygget) + roterende vingepumpe (ekstern) |
| Pumpehastighed | 1 | ≥1 l/s | 1,1 l/s | 90L/s (molekylær pumpe)+1L/s (roterende vingepumpe) |
| Ultimativt vakuum | ≤1 Pa | ≤1 Pa | ≤1 Pa | ≤5×10-3Pa (inden for 8 minutter) |
| arbejdsvakuum | 2-30 Pa | 2-30Pa (relateret til målet) | 4-20 Pa | 0,4-2Pa (relateret til målet) |
| Skærm | 5-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480 | 5-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480 | 7-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480 | 7-tommer farvetouchskærm, opløsning 800×480 |
| nominel effekt | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Indgangsspændingsforsyning | Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Valgfri 110V/60Hz |
| Arbejdsmedium | Luft eller argon | Luft eller argon | Luft eller argon | Højrenhedsargon (argonrenhed 4N og derover) |
| Prøvestadie | φ64 mm prøvetrin i rustfrit stål | φ64 mm prøvetrin i rustfrit stål | φ125 mm prøvetrin i rustfrit stål | φ125 mm prøvetrin i rustfrit stål |
| Sample Stage Speed | Valgfri | Valgfri | Justerbar 4-20 rpm | Justerbar 4-20 rpm |
| Vip-roter prøvetrin | Ingen | Valgfri | Valgfri | Valgfri |
| Overvågning af filmtykkelse | Ingen | Valgfri | Valgfri | Valgfri |
| Ion Sputter Coater | |||||
   
|  | Arbejdsprincip: DC sputtering | |||
| Tilgængelige mål: Au, Pt osv. | |||||
| Vakuumkammer: Højt borosilikatglas φ130×130mm | |||||
| Ultimativt vakuum: ≤1 Pa | |||||
| Prøvetrin: φ64 mm prøvetrin i rustfrit stål | |||||
| A50.7042 | Arbejdsprincip: DC magnetron sputtering | ||||
| Tilgængelige mål: Au, Pt, Ag, Cu, Sb osv. | |||||
| Standardmål: Pt, φ57×0,12 mm (kan erstattes med et guldmål gratis) | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| A50.7042-P | Arbejdsprincip: DC magnetron sputtering | ||||
| Tilgængelige mål: Au, Pt, Ag, Cu osv. | |||||
| Standardmål: Pt, φ57×0,12 mm (kan erstattes med et guldmål gratis) | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| A50.7042-T | Arbejdsprincip: DC magnetron sputtering (valgfri RF magnetron sputtering) | ||||
| Tilgængelige mål: Al metal, ITO, AZO, Si, Te osv. | |||||
| Standard målmateriale: Pt, Cr, W, et ædelmetal, to uædle metaller | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Arbejdstilstand: Termisk fordampning | ||||
| Fordampningstilstand: Kontinuerlig og pulstilstand | |||||
| Kulfiber: Kulfiber 10 stk, Dia.0,8mm, længde 1m. | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| A50.7043-T | Arbejdstilstand: Termisk fordampning | ||||
| Fordampningstilstand: Kontinuerlig og pulstilstand | |||||
| Kulfiber: Kulfiber 10 stk, Dia.0,8mm, længde 1m. | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Arbejdstilstand: Sputtering Coating + Termisk Fordampning Carbon Coating | |||
| Standardmål: Pt eller Au 1 stk, φ57×0,12mm | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| A50.7045-T | Arbejdstilstand: Sputtering Coating + Termisk Fordampning Carbon Coating | ||||
| Standardmål: Pt, Cr, W, hver 1 stk; Pt：φ57×0,12 mm; Cr, B：φ57×1mm | |||||
| Valgfrit: Filmtykkelsesmonitor, Tilt-rotate prøvetrin | |||||
| Krav | Anbefal model |
| Metalfilm og kulstoffilm | A50.7045 (Lavt vakuum, velegnet til forstørrelse mindre end 100.000x |
| A50.7045-T (Højvakuum, velegnet til forstørrelse over 100.000x) | |
| Carbon Coating (malmprøve, forberedelse af elektronsondeprøver osv. til komponentanalyse, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputtering Metal | A50.7041 (Faktisk forstørrelse mindre end 50000x, Tungsten filament SEM, bordplade SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W osv.) | A50.7042 (Faktisk forstørrelse mindre end 100.000x, feltemissionspistol SEM) |
| A50.7042-T (Faktisk forstørrelse bedre end 100.000x, feltemissionspistol SEM) | |
| Elektrode, mikroelektronisk enhedsfabrikation | A50.7041 (Au, Pt-belægning) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn osv.) | |
| A50.7042-T (Det meste af metalbelægningen, ITO, AZO Oxide osv.) | |
| Handskerum | A50.7042 tilpasset version |
| A50.7042-T tilpasset version | |
| Cylindrisk belægning | A50.7042 tilpasset version |
Huang Xin