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| 안건 | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| 스퍼터링 타겟 | 어두운 영역 실드를 둘러싸고 있는 평면 마그네트론 타겟 | 어두운 영역 실드를 둘러싸고 있는 평면 마그네트론 타겟 | 어두운 영역 실드를 둘러싸고 있는 평면 마그네트론 타겟 | 어두운 영역 실드를 둘러싸고 있는 평면 마그네트론 타겟 |
| 작동 원리 | DC 스퍼터링 | DC 마그네트론 스퍼터링 | DC 마그네트론 스퍼터링 | DC 마그네트론 스퍼터링(옵션 RF 마그네트론 스퍼터링) |
| 치수 | 424（엘）×271（디）×255（시간）mm | 424（엘）×271（디）×255（시간）mm | 420（엘）×330（디）×335（시간）mm | 424（엘）×345（디）×420（시간）mm |
| 사용 가능한 대상 | 오、백금 등 | 오、백금、Ag、구、SB 등 | 오、백금、Ag、구리 등 | 모든 금속、이토、아조、시、테 등 |
| 표준 대상 | 오 | 백금 | 백금 | 백금、크롬、여 |
| 대상 크기 | φ57×0.12mm | 백금：φ57×0.12mm | φ57×0.12mm | 백금：φ57×0.12mm，기타：φ57×1mm |
| 스퍼터링 전류 | 지속적으로 조정 가능한 2-30mA | 5-45mA 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 1mA | 지속적으로 조정 가능한 0-100mA | 0-200mA 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 5mA |
| 스퍼터링 시간 | 1-999s 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 2s | 1-999s 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 1s | 1-999s 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 0s | 1-999s 지속적으로 조정 가능, 단계 크기 1s |
| 진공 챔버 | 높은 붕규산 유리 φ130×130mm | 높은 붕규산 유리 φ130×130mm | 높은 붕규산 유리 φ200×130mm | 높은 붕규산 유리 φ200×130mm |
| 진공 펌프 | 로터리 베인 펌프, 건식 스크롤 펌프(옵션) | 로터리 베인 펌프, 건식 스크롤 펌프(옵션) | 로터리 베인 펌프, 건식 스크롤 펌프(옵션) | 분자 펌프(내장) + 로터리 베인 펌프(외부) |
| 펌핑 속도 | 1 | ≥1리터/초 | 1.1L/s | 90L/s(분자 펌프)+1L/s(로터리 베인 펌프) |
| 궁극의 진공 | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa (8분 이내) |
| 작업 진공 | 2-30Pa | 2-30Pa(대상 관련) | 4-20Pa | 0.4-2Pa(타겟 관련) |
| 표시하다 | 5인치 컬러 터치스크린, 해상도 800×480 | 5인치 컬러 터치스크린, 해상도 800×480 | 7인치 컬러 터치스크린, 해상도 800×480 | 7인치 컬러 터치스크린, 해상도 800×480 |
| 정격 전력 | 500W | 450W | 500W | 800W |
| 입력 전압 공급 | 표준 220V/50Hz 옵션 110V/60Hz | 표준 220V/50Hz 옵션 110V/60Hz | 표준 220V/50Hz 옵션 110V/60Hz | 표준 220V/50Hz 옵션 110V/60Hz |
| 작동 매체 | 공기 또는 아르곤 | 공기 또는 아르곤 | 공기 또는 아르곤 | 고순도 아르곤(아르곤 순도 4N 이상) |
| 샘플 단계 | φ64mm 스테인리스 스틸 샘플 스테이지 | φ64mm 스테인리스 스틸 샘플 스테이지 | φ125mm 스테인리스 스틸 샘플 스테이지 | φ125mm 스테인리스 스틸 샘플 스테이지 |
| 샘플 스테이지 속도 | 선택 과목 | 선택 과목 | 조정가능한 4-20rpm | 조정가능한 4-20rpm |
| 틸트 회전 샘플 스테이지 | 아니 | 선택 과목 | 선택 과목 | 선택 과목 |
| 필름 두께 모니터링 | 아니 | 선택 과목 | 선택 과목 | 선택 과목 |
| 이온 스퍼터 코팅기 | |||||
   
|  | 작동 원리: DC 스퍼터링 | |||
| 사용 가능한 대상: Au, Pt 등 | |||||
| 진공 약실: 높은 붕규산 유리 φ130×130mm | |||||
| 궁극적인 진공: ≤1Pa | |||||
| 샘플 스테이지: φ64mm 스테인리스 스틸 샘플 스테이지 | |||||
| A50.7042 | 작동 원리: DC 마그네트론 스퍼터링 | ||||
| 사용 가능한 대상: Au, Pt, Ag, Cu, Sb 등 | |||||
| 표준 타겟: Pt, φ57×0.12mm(금색 타겟으로 무료 교체 가능) | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| A50.7042-P | 작동 원리: DC 마그네트론 스퍼터링 | ||||
| 사용 가능한 대상: Au, Pt, Ag, Cu 등 | |||||
| 표준 타겟: Pt, φ57×0.12mm(금색 타겟으로 무료 교체 가능) | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| A50.7042-T | 작동 원리: DC 마그네트론 스퍼터링(옵션 RF 마그네트론 스퍼터링) | ||||
| 사용 가능한 대상: 모든 금속, ITO, AZO, Si, Te 등 | |||||
| 표준 대상 물질: Pt, Cr, W, 귀금속 1개, 비귀금속 2개 | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | 작동 모드: 열 증발 | ||||
| 증발 모드: 연속 및 펄스 모드 | |||||
| 탄소 섬유: 탄소 섬유 10개, Dia.0.8mm, 길이 1m. | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| A50.7043-T | 작동 모드: 열 증발 | ||||
| 증발 모드: 연속 및 펄스 모드 | |||||
| 탄소 섬유: 탄소 섬유 10개, Dia.0.8mm, 길이 1m. | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | 작동 모드: 스퍼터링 코팅 + 열 증발 탄소 코팅 | |||
| 표준 대상: Pt 또는 Au 1개, φ57×0.12mm | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| A50.7045-T | 작동 모드: 스퍼터링 코팅 + 열 증발 탄소 코팅 | ||||
| 표준 대상: Pt, Cr, W, 각 1개; Pt: φ57×0.12mm; 크롬, W：φ57×1mm | |||||
| 옵션: 필름 두께 모니터, 틸트 회전 샘플 스테이지 | |||||
| 요구 사항 | 추천 모델 |
| 금속 필름 및 탄소 필름 | A50.7045 (저진공, 100000x 미만의 배율에 적합 |
| A50.7045-T(고진공, 100000x 이상의 배율에 적합) | |
| Carbon Coating (광석 시료, 성분 분석을 위한 전자 프로브 시료 전처리 등, EDS, EBSD 등) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| 스퍼터링 금속 | A50.7041 (실제 배율 50000배 이하, 텅스텐 필라멘트 SEM, 탁상용 SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W 등) | A50.7042 (실제 배율 100000배 이하, 전계방출건 SEM) |
| A50.7042-T (실제 배율 100000배 이상, Field emission gun SEM) | |
| 전극, 마이크로전자소자 제작 | A50.7041 (Au, Pt 코팅) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn 등) | |
| A50.7042-T (대부분의 금속 코팅, ITO, AZO Oxide 등) | |
| 글러브 박스 | A50.7042 맞춤형 버전 |
| A50.7042-T 맞춤형 버전 | |
| 원통형 코팅 | A50.7042 맞춤형 버전 |
Huang Xin