Bahasa indonesia
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Barang | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Sputtering Target | Target magnetron planar, dengan perisai area gelap di sekitarnya | Target magnetron planar, dengan perisai area gelap di sekitarnya | Target magnetron planar, dengan perisai area gelap di sekitarnya | Target magnetron planar, dengan perisai area gelap di sekitarnya |
| Prinsip bekerja | DC sputtering | Penyemprotan magnetron DC | Penyemprotan magnetron DC | Penyemprotan magnetron DC (penyemprotan magnetron RF opsional) |
| Ukuran | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 420（L）×330（D）×335（H）mm | 424（L）×345（D）×420（H）mm |
| Target yang Tersedia | Au、PT dll | Au、PT、Ag、Cu、Sb dll | Au、PT、Ag、Cu dll | Semua logam、ITO、AZO、Si、Te dll |
| Target Standar | Au | PT | PT | PT、Cr、W |
| Ukuran Target | 57 × 0,12mm | PT：57 × 0,12mm | 57 × 0,12mm | PT：57 × 0,12mm，Yang lain：57 × 1mm |
| Arus Sputtering | 2-30mA terus menerus disesuaikan | 5-45 mA terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 1mA | 0-100mA terus menerus disesuaikan | 0-200mA terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 5mA |
| Waktu tergagap | 1-999s terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 2s | 1-999s terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 1s | 1-999s terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 0s | 1-999s terus menerus disesuaikan, ukuran langkah 1s |
| ruang vakum | Kaca borosilikat tinggi 130 × 130mm | Kaca borosilikat tinggi 130 × 130mm | Kaca borosilikat tinggi 200 × 130mm | Kaca borosilikat tinggi 200 × 130mm |
| Pompa vakum | Pompa baling-baling putar, pompa gulir kering opsional | Pompa baling-baling putar, pompa gulir kering opsional | Pompa baling-baling putar, pompa gulir kering opsional | Pompa molekuler (bawaan) + pompa baling-baling putar (eksternal) |
| Kecepatan pemompaan | 1 | 1L/dtk | 1.1L/dtk | 90L/dtk (pompa molekuler)+1L/dtk (pompa baling-baling putar) |
| Vakum Tertinggi | 1Pa | 1Pa | 1Pa | 5×10-3Pa (dalam 8 menit) |
| vakum kerja | 2-30Pa | 2-30Pa (terkait dengan target) | 4-20Pa | 0.4-2Pa (terkait dengan target) |
| menampilkan | Layar sentuh berwarna 5 inci, resolusi 800x480 | Layar sentuh berwarna 5 inci, resolusi 800x480 | Layar sentuh berwarna 7 inci, resolusi 800x480 | Layar sentuh berwarna 7 inci, resolusi 800x480 |
| nilai daya | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Pasokan Tegangan Masukan | Standar 220V/50Hz Opsional 110V/60Hz | Standar 220V/50Hz Opsional 110V/60Hz | Standar 220V/50Hz Opsional 110V/60Hz | Standar 220V/50Hz Opsional 110V/60Hz |
| Media Kerja | Udara atau Argon | Udara atau Argon | Udara atau Argon | Argon dengan kemurnian tinggi (kemurnian argon 4N ke atas) |
| Tahap Sampel | Tahap sampel baja tahan karat 64mm | Tahap sampel baja tahan karat 64mm | Tahap sampel stainless steel 125mm | Tahap sampel stainless steel 125mm |
| Contoh Kecepatan Panggung | Opsional | Opsional | 4-20rpm dapat disesuaikan | 4-20rpm dapat disesuaikan |
| Tahap Sampel Putar-miring | Tidak | Opsional | Opsional | Opsional |
| Pemantauan Ketebalan Film | Tidak | Opsional | Opsional | Opsional |
| Pelapis Ion Sputter | |||||
   
|  | Prinsip Kerja: DC sputtering | |||
| Target yang Tersedia: Au, Pt dll. | |||||
| Ruang Vakum: Kaca borosilikat tinggi 130 × 130mm | |||||
| Vakum Tertinggi: 1Pa | |||||
| Tahap Sampel: tahap sampel stainless steel 64mm | |||||
| A50.7042 | Prinsip Kerja: DC magnetron sputtering | ||||
| Target yang Tersedia: Au, Pt, Ag, Cu, Sb dll. | |||||
| Target Standar: Pt, 57×0.12mm (dapat diganti dengan target emas gratis) | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| A50.7042-P | Prinsip Kerja: DC magnetron sputtering | ||||
| Target yang Tersedia: Au, Pt, Ag, Cu dll. | |||||
| Target Standar: Pt, 57×0.12mm (dapat diganti dengan target emas gratis) | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| A50.7042-T | Prinsip Kerja: DC magnetron sputtering (opsional RF magnetron sputtering) | ||||
| Target yang Tersedia: Semua logam, ITO, AZO, Si, Te, dll. | |||||
| Bahan target standar: Pt, Cr, W, satu logam mulia, dua logam tidak mulia | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Mode Kerja: Penguapan termal | ||||
| Mode Penguapan: Mode terus menerus dan pulsa | |||||
| Serat Karbon: Serat karbon 10 pcs, Dia.0.8mm, panjang 1m. | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| A50.7043-T | Mode Kerja: Penguapan termal | ||||
| Mode Penguapan: Mode terus menerus dan pulsa | |||||
| Serat Karbon: Serat karbon 10 pcs, Dia.0.8mm, panjang 1m. | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Mode Kerja: Pelapisan Sputtering + Lapisan Karbon Penguapan Termal | |||
| Target Standar: Pt atau Au 1 pc, 57 × 0,12mm | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| A50.7045-T | Mode Kerja: Pelapisan Sputtering + Lapisan Karbon Penguapan Termal | ||||
| Target Standar: Pt, Cr, W, masing-masing 1 pc; Pt：φ57 × 0,12mm; Cr, W：φ57×1mm | |||||
| Opsional: Monitor ketebalan film, tahap sampel putar miring | |||||
| Persyaratan | Merekomendasikan Model |
| Film logam dan film Karbon | A50.7045 (Vacuum rendah, cocok untuk perbesaran kurang dari 100000x |
| A50.7045-T (Vacuum Tinggi, cocok untuk perbesaran lebih dari 100000x) | |
| Carbon Coating (sampel bijih, persiapan sampel probe elektron dll untuk analisis komponen, EDS, EBSD DLL) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputtering Logam | A50.7041 (Pembesaran sebenarnya kurang dari 50000x, SEM filamen tungsten, SEM atas meja) |
| (Au, Pt, Cr, W, dll.) | A50.7042 (Perbesaran sebenarnya kurang dari 100000x, Senapan emisi medan SEM) |
| A50.7042-T (Pembesaran sebenarnya lebih baik dari 100000x, Field emission gun SEM) | |
| Elektroda, Fabrikasi Perangkat mikroelektronik | A50.7041 (Lapisan Au, Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, dll.) | |
| A50.7042-T (Sebagian besar pelapis logam, ITO, AZO Oksida dll.) | |
| Kotak sarung tangan | A50.7042 versi yang disesuaikan |
| A50.7042-T versi yang disesuaikan | |
| Lapisan Silinder | A50.7042 versi yang disesuaikan |
Huang Xin