svenska
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
Nederlands
Norsk språk
| Artikel | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| Sputtrande mål | Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld | Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld | Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld | Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld |
| Arbetsprincip | DC sputtering | DC magnetron sputtering | DC magnetron sputtering | DC-magnetronförstoftning (tillval RF-magnetronförstoftning) |
| Mått | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 424（L）×271（D）×255（H）mm | 420（L）×330（D）×335（H）mm | 424（L）×345（D）×420（H）mm |
| Tillgängliga mål | Au、Pt osv | Au、Pt、Ag、Cu、Sb osv | Au、Pt、Ag、Cu osv | Helt i metall、ITO、AZO、Si、Te osv |
| Standardmål | Au | Pt | Pt | Pt、Cr、W |
| Målstorlek | φ57×0,12 mm | Pt：φ57×0,12 mm | φ57×0,12 mm | Pt：φ57×0,12 mm，Andra：φ57×1 mm |
| Sputtering ström | 2-30mA steglöst justerbar | 5-45 mA steglöst justerbar, stegstorlek 1mA | 0-100mA steglöst justerbar | 0-200mA steglöst justerbar, stegstorlek 5mA |
| Sputtering Time | 1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 2s | 1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 1s | 1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 0s | 1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 1s |
| Vakuumkammare | Högt borosilikatglas φ130×130mm | Högt borosilikatglas φ130×130mm | Högt borosilikatglas φ200×130mm | Högt borosilikatglas φ200×130mm |
| Vakuumpump | Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump | Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump | Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump | Molekylär pump (inbyggd) + roterande skovelpump (extern) |
| Pumphastighet | 1 | ≥1 l/s | 1,1 l/s | 90L/s (molekylär pump)+1L/s (roterande lamellpump) |
| Ultimat vakuum | ≤1 Pa | ≤1 Pa | ≤1 Pa | ≤5×10-3Pa (inom 8 minuter) |
| fungerande vakuum | 2-30 Pa | 2-30Pa (relaterat till målet) | 4-20Pa | 0,4-2Pa (relaterat till målet) |
| visa | 5-tums färgpekskärm, upplösning 800×480 | 5-tums färgpekskärm, upplösning 800×480 | 7-tums färgpekskärm, upplösning 800×480 | 7-tums färgpekskärm, upplösning 800×480 |
| märkeffekt | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Ingångsspänning | Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz | Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz |
| Arbetsmedium | Luft eller argon | Luft eller argon | Luft eller argon | Argon med hög renhet (argonrenhet 4N och högre) |
| Provscen | φ64mm provsteg i rostfritt stål | φ64mm provsteg i rostfritt stål | φ125 mm provsteg i rostfritt stål | φ125 mm provsteg i rostfritt stål |
| Sample Stage Speed | Frivillig | Frivillig | Justerbar 4-20rpm | Justerbar 4-20rpm |
| Luta-rotera provsteg | Nej | Frivillig | Frivillig | Frivillig |
| Övervakning av filmtjocklek | Nej | Frivillig | Frivillig | Frivillig |
| Ion Sputter Coater | |||||
   
|  | Arbetsprincip: DC-förstoftning | |||
| Tillgängliga mål: Au, Pt etc. | |||||
| Vakuumkammare: Högt borosilikatglas φ130×130mm | |||||
| Ultimat vakuum: ≤1Pa | |||||
| Provsteg: φ64 mm provsteg i rostfritt stål | |||||
| A50.7042 | Arbetsprincip: DC magnetron sputtering | ||||
| Tillgängliga mål: Au, Pt, Ag, Cu, Sb etc. | |||||
| Standardmål: Pt, φ57×0,12 mm (kan ersättas med ett guldmål gratis) | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| A50.7042-P | Arbetsprincip: DC magnetron sputtering | ||||
| Tillgängliga mål: Au, Pt, Ag, Cu etc. | |||||
| Standardmål: Pt, φ57×0,12 mm (kan ersättas med ett guldmål gratis) | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| A50.7042-T | Arbetsprincip: DC-magnetronförstoftning (tillval RF-magnetronförstoftning) | ||||
| Tillgängliga mål: All metall, ITO, AZO, Si, Te, etc. | |||||
| Standardmålmaterial: Pt, Cr, W, en ädelmetall, två icke-ädelmetaller | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Arbetsläge: Termisk avdunstning | ||||
| Indunstningsläge: Kontinuerlig och pulsläge | |||||
| Kolfiber: Kolfiber 10 st, Dia.0,8mm, längd 1m. | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| A50.7043-T | Arbetsläge: Termisk avdunstning | ||||
| Indunstningsläge: Kontinuerlig och pulsläge | |||||
| Kolfiber: Kolfiber 10 st, Dia.0,8mm, längd 1m. | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| |||||
| A50.7045 |  | Arbetsläge: Sputtering Coating + Termisk Avdunstning Carbon Coating | |||
| Standardmål: Pt eller Au 1 st, φ57×0,12 mm | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| A50.7045-T | Arbetsläge: Sputtering Coating + Termisk Avdunstning Carbon Coating | ||||
| Standardmål: Pt, Cr, W, vardera 1 st; Pt：φ57×0,12 mm; Cr, B：φ57×1mm | |||||
| Tillval: Övervakare av filmtjocklek, lutningsrotera provsteg | |||||
| Krav | Rekommendera modell |
| Metallfilm och kolfilm | A50.7045 (lågt vakuum, lämplig för förstoring mindre än 100 000x |
| A50.7045-T (högvakuum, lämplig för förstoring över 100 000x) | |
| Kolbeläggning (malmprov, beredning av elektronsondprov etc för komponentanalys, EDS, EBSD ETC) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| Sputtering metall | A50.7041 (Faktisk förstoring mindre än 50 000x, Tungsten filament SEM, bordsskiva SEM) |
| (Au, Pt, Cr, W, etc.) | A50.7042 (Faktisk förstoring mindre än 100 000x, fältemissionspistol SEM) |
| A50.7042-T (Faktisk förstoring bättre än 100 000x, fältemissionspistol SEM) | |
| Elektrod, mikroelektronisk Device Fabricate | A50.7041 (Au, Pt-beläggning) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.) | |
| A50.7042-T (Det mesta av metallbeläggningen, ITO, AZO Oxide etc.) | |
| Handskfack | A50.7042 anpassad version |
| A50.7042-T anpassad version | |
| Cylindrisk beläggning | A50.7042 anpassad version |
Huang Xin