Magnetron Ion Sputter Coater

7-tums pekskärm i färg med vänlig GUI-autokontroll Behöver inte styras manuellt

DC Magnetron Sputtering, Sputtering Current 0-100mA & Sputtering Time 1-999s Kontinuerligt justerbar

Planar Magnetron Target, med omgivande mörkområdessköld, inklusive Standard Target Pt eller Au

Inklusive roterande lamellpump, (tillval Dry Scroll-pump), pumphastighet 1L/s, ultimat vakuum ≤1P

Valfri uppgradering: Övervakning av filmtjocklek, Tilt-rotate Sample Stage

Opto-Edu A50.704SerierIon Coater & Carbon Coater, är en serie kompakt beläggningssystem som kan beläggaädla metallersom guld (Au), palladium (Pd), platina (Pt) och guld/palladium (Au/Pd) tunna filmer på icke-ledande eller dåligt ledande prover. Enhetligtunna filmermed finkorniga storlekar bildas i en snabb cykeltid. Den producerade tunna filmen är lämplig försvepelektronmikroskopi(SEM) analys och många andra laboratorieexperimentnt materialberedningsarbete. SkrivbordetMagnetron Coaterär ett högproduktivt verktyg som ger konsekventa och mycket repeterbara resultat i det helautomatiska systemet. Den ergonomiska designen och det lilla fotavtrycketSEM beläggningssystemmöjliggör enkel användning avsystemet.

Krav	Rekommendera modell
Metallfilm och kolfilm	A50.7045 (lågt vakuum, lämplig för förstoring mindre än 100 000x
Metallfilm och kolfilm	A50.7045-T (högvakuum, lämplig för förstoring över 100 000x)
Kolbeläggning (malmprov, beredning av elektronsondprov etc för komponentanalys, EDS, EBSD ETC)	A50.7043
	A50.7043-T
Sputtrande metall	A50.7041 (Faktisk förstoring mindre än 50 000x, Tungsten filament SEM, bordsskiva SEM)
(Au, Pt, Cr, W, etc.)	A50.7042 (Faktisk förstoring mindre än 100 000x, fältemissionspistol SEM)
	A50.7042-T (Faktisk förstoring bättre än 100 000x, fältemissionspistol SEM)
Elektrod, mikroelektronisk Device Fabricate	A50.7041 (Au, Pt-beläggning)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.)
	A50.7042-T (Det mesta av metallbeläggningen, ITO, AZO Oxide etc.)
Handskfack	A50.7042 anpassad version
Handskfack	A50.7042-T anpassad version
Cylindrisk beläggning	A50.7042 anpassad version

Artikel	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
Sputtrande mål	Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld	Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld	Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld	Plan magnetronmål, med omgivande mörkområdessköld
Arbetsprincip	DC sputtering	DC magnetron sputtering	DC magnetron sputtering	DC-magnetronförstoftning (tillval RF-magnetronförstoftning)
Mått	424（L）×271（D）×255（H）mm	424（L）×271（D）×255（H）mm	420（L）×330（D）×335（H）mm	424（L）×345（D）×420（H）mm
Tillgängliga mål	Au、Pt osv	Au、Pt、Ag、Cu、Sb osv	Au、Pt、Ag、Cu osv	Helt i metall、ITO、AZO、Si、Te osv
Standardmål	Au	Pt	Pt	Pt、Cr、W
Målstorlek	φ57×0,12 mm	Pt：φ57×0,12 mm	φ57×0,12 mm	Pt：φ57×0,12 mm，Andra：φ57×1 mm
Sputtering ström	2-30mA steglöst justerbar	5-45 mA steglöst justerbar, stegstorlek 1mA	0-100mA steglöst justerbar	0-200mA steglöst justerbar, stegstorlek 5mA
Sputtering Time	1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 2s	1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 1s	1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 0s	1-999s steglöst justerbar, stegstorlek 1s
Vakuumkammare	Högt borosilikatglas φ130×130mm	Högt borosilikatglas φ130×130mm	Högt borosilikatglas φ200×130mm	Högt borosilikatglas φ200×130mm
Vakuumpump	Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump	Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump	Roterande skovelpump, valfri torrscrollpump	Molekylär pump (inbyggd) + roterande skovelpump (extern)
Pumphastighet	1	≥1 l/s	1,1 l/s	90L/s (molekylär pump)+1L/s (roterande lamellpump)
Ultimat vakuum	≤1 Pa	≤1 Pa	≤1 Pa	≤5×10-3Pa (inom 8 minuter)
fungerande vakuum	2-30 Pa	2-30Pa (relaterat till målet)	4-20 Pa	0,4-2Pa (relaterat till målet)
visa	5-tums färgpekskärm, upplösning 800×480	5-tums färgpekskärm, upplösning 800×480	7-tums färgpekskärm, upplösning 800×480	7-tums färgpekskärm, upplösning 800×480
märkeffekt	500W	450W	500W	800W
Ingångsspänning	Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz	Standard 220V/50Hz Tillval 110V/60Hz
Arbetsmedium	Luft eller argon	Luft eller argon	Luft eller argon	Argon med hög renhet (argonrenhet 4N och högre)
Provscen	φ64mm provsteg i rostfritt stål	φ64mm provsteg i rostfritt stål	φ125 mm provsteg i rostfritt stål	φ125 mm provsteg i rostfritt stål
Sample Stage Speed	Frivillig	Frivillig	Justerbar 4-20rpm	Justerbar 4-20rpm
Luta-rotera provsteg	Nej	Frivillig	Frivillig	Frivillig
Övervakning av filmtjocklek	Nej	Frivillig	Frivillig	Frivillig

Pictures

Model No.

A50.7042-P

Arbetsavstånd

格式:1.0,或1.0~2.0

Fokuseringsskala

0,000000

Fokuseringsområde

0,000000

Arbetsstegsstorlek

Diameter: 100x100 mm, diameter 100 mm

Standardförstoring

10x

Avancerade kakinställningar

Viktiga kakor

Dessa cookies möjliggör kärnfunktioner såsom säkerhet, verifiering av identitet och nätverkshantering. Dessa cookies kan inte inaktiveras.

Aktivera marknadsföringscookies

Dessa cookies används för att spåra reklamprestanda, samtycka till sändning av reklamrelaterade användardata till Google och samtycke till att webbplatsen visar personlig reklam för att tillhandahålla mer relevanta tjänster.

Aktivera funktionella cookies

Dessa cookies samlar in data för att komma ihåg val användare gör för att förbättra och ge en mer personlig upplevelse.

Aktivera Analytics-cookies

Dessa cookies hjälper oss att förstå hur besökare interagerar med vår webbplats, upptäcker fel och ger en bättre övergripande analys.

A50.7042-P

Magnetron Ion Sputter Coater

onlinetjänst

Skicka meddelande

What's New

Kontakta oss

Service

JäMFöR PRODUKTER

Avancerade kakinställningar

Viktiga kakor

Aktivera marknadsföringscookies

Aktivera funktionella cookies

Aktivera Analytics-cookies