Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron

Écran tactile couleur de 7 pouces avec contrôle automatique convivial de l'interface graphique, pas besoin de contrôle manuel

Pulvérisation magnétron CC, courant de pulvérisation 0-100mA et temps de pulvérisation 1-999s réglable en continu

Cible de magnétron planaire, avec bouclier de zone sombre environnante, y compris la cible standard Pt ou Au

Y compris pompe à palettes rotatives (pompe à défilement sèche en option), vitesse de pompage 1L/s, vide ultime ≤1P

Mise à niveau facultative : surveillance de l'épaisseur du film, platine d'échantillonnage inclinable et rotative

Opto-Edu A50.704SérieRevêtement ionique et revêtement de carbone, est un système de revêtement compact en série capable de revêtirmétaux noblescomme l'or (Au), des couches minces de palladium (Pd), de platine (Pt) et d'or/palladium (Au/Pd) sur des échantillons non conducteurs ou peu conducteurs. UniformeFilms mincesavec des tailles de grains fins sont formés dans un temps de cycle rapide. Le film mince produit est adapté pourLa microscopie électronique à balayage(MEB) analyse et de nombreuses autres expériences de laboratoiretravail de préparation du matériel nt. Le bureauCoucheuse magnétronest un outil de haute productivité qui fournit des résultats cohérents et hautement reproductibles dans le système entièrement automatisé. La conception ergonomique et le faible encombrement duSystème de revêtement SEMpermet une utilisation aisée dusystème.

Exigence	Recommander le modèle
Film métallique et film de carbone	A50.7045 (faible vide, adapté à un grossissement inférieur à 100 000x
Film métallique et film de carbone	A50.7045-T (vide poussé, adapté à un grossissement supérieur à 100 000x)
Revêtement de carbone (échantillon de minerais, préparation d'échantillons de sonde électronique, etc. pour l'analyse de composants, EDS, EBSD ETC)	A50.7043
	A50.7043-T
Métal pulvérisé	A50.7041 (grossissement réel inférieur à 50000x, SEM à filament de tungstène, SEM de table)
(Au, Pt, Cr, W, etc.)	A50.7042 (grossissement réel inférieur à 100 000x, pistolet à émission de champ SEM)
	A50.7042-T (grossissement réel supérieur à 100 000x, pistolet à émission de champ SEM)
Électrode, fabrication de dispositifs microélectroniques	A50.7041 (revêtement Au, Pt)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.)
	A50.7042-T (la plupart des revêtements métalliques, ITO, oxyde AZO, etc.)
Boite à gants	A50.7042 version personnalisée
Boite à gants	Version personnalisée A50.7042-T
Revêtement cylindrique	A50.7042 version personnalisée

Article	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
Cible de pulvérisation	Cible de magnétron planaire, avec bouclier de zone sombre environnant	Cible de magnétron planaire, avec bouclier de zone sombre environnant	Cible de magnétron planaire, avec bouclier de zone sombre environnant	Cible de magnétron planaire, avec bouclier de zone sombre environnant
Principe de fonctionnement	Pulvérisation CC	Pulvérisation magnétron CC	Pulvérisation magnétron CC	Pulvérisation magnétron CC (pulvérisation magnétron RF en option)
Dimensions	424（L）×271（ré）×255（H）millimètre	424（L）×271（ré）×255（H）millimètre	420（L）×330（ré）×335（H）millimètre	424（L）×345（ré）×420（H）millimètre
Cibles disponibles	Au、etc.	Au、Pt、AG、Cu、etc.	Au、Pt、AG、Cu etc.	Tout métal、ITO、AZO、Si、Te etc.
Cible standard	Au	Pt	Pt	Pt、Cr、O
Taille cible	φ57 × 0,12 mm	Pt：φ57 × 0,12 mm	φ57 × 0,12 mm	Pt：φ57 × 0,12 mm，Autres：φ57×1mm
Courant de pulvérisation	2-30mA réglable en continu	5-45 mA réglable en continu, pas de 1mA	0-100mA réglable en continu	0-200mA réglable en continu, pas de 5mA
Temps de pulvérisation	1-999s réglable en continu, pas de 2s	1-999s réglable en continu, pas de 1s	1-999s réglable en continu, pas de 0s	1-999s réglable en continu, pas de 1s
Chambre à vide	Verre à haute teneur en borosilicate φ130×130mm	Verre à haute teneur en borosilicate φ130×130mm	Verre à haute teneur en borosilicate φ200 × 130 mm	Verre à haute teneur en borosilicate φ200 × 130 mm
Pompe à vide	Pompe à palettes rotatives, pompe à spirale sèche en option	Pompe à palettes rotatives, pompe à spirale sèche en option	Pompe à palettes rotatives, pompe à spirale sèche en option	Pompe moléculaire (intégrée) + pompe à palettes (externe)
Vitesse de pompage	1	≥1L/s	1.1L/s	90L/s (pompe moléculaire)+1L/s (pompe à palettes rotatives)
Vide ultime	≤1Pa	≤1Pa	≤1Pa	≤5×10-3Pa (dans les 8 minutes)
vide de travail	2-30 Pa	2-30Pa (lié à la cible)	4-20 Pa	0.4-2Pa (lié à la cible)
affichage	Écran tactile couleur 5 pouces, résolution 800×480	Écran tactile couleur 5 pouces, résolution 800×480	Ecran tactile couleur 7 pouces, résolution 800×480	Ecran tactile couleur 7 pouces, résolution 800×480
puissance nominale	500W	450W	500W	800W
Alimentation en tension d'entrée	De série 220 V/50 Hz En option 110 V/60 Hz	De série 220 V/50 Hz En option 110 V/60 Hz	De série 220 V/50 Hz En option 110 V/60 Hz	De série 220 V/50 Hz En option 110 V/60 Hz
Milieu de travail	Air ou Argon	Air ou Argon	Air ou Argon	Argon de haute pureté (pureté d'argon 4N et plus)
Étape d'échantillonnage	Platine d'échantillonnage en acier inoxydable φ64mm	Platine d'échantillonnage en acier inoxydable φ64mm	Platine d'échantillonnage en acier inoxydable φ125mm	Platine d'échantillonnage en acier inoxydable φ125mm
Vitesse de l'étape d'échantillonnage	Facultatif	Facultatif	4-20 tr/min réglable	4-20 tr/min réglable
Platine d'échantillonnage inclinable et rotative	Non	Facultatif	Facultatif	Facultatif
Surveillance de l'épaisseur du film	Non	Facultatif	Facultatif	Facultatif

Pictures

Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron

Model No.

A50.7042-P

Distance de travail

Niveau : 1.0, 或1.0 ~ 2.0

Échelle de mise au point

0,000000

Plage de mise au point

0,000000

Taille de l'étape de travail

Diamètre : 100 x 100 mm, diamètre 100 mm

Grossissement standard

10x

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