Recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón

Pantalla táctil a color de 7” con GUI amigable Control automático Sin necesidad de control manual

Pulverización por magnetrón de CC, corriente de pulverización de 0 a 100 mA y tiempo de pulverización de 1 a 999 s continuamente ajustable

Blanco de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante, incluido el blanco estándar Pt o Au

Incluye bomba rotativa de paletas (bomba de espiral seca opcional), velocidad de bombeo de 1 l/s, vacío final ≤1P

Actualización opcional: control del grosor de la película, etapa de muestra de inclinación y rotación

Opto-Edu A50.704SerieRecubridor de iones y recubridor de carbono, es un sistema de recubrimiento compacto en serie capaz de recubrirmetales noblescomo el oro (Au), paladio (Pd), platino (Pt) y películas delgadas de oro/paladio (Au/Pd) en muestras no conductoras o poco conductoras. UniformePeliculas delgadascon tamaños de grano fino se forman en un tiempo de ciclo rápido. La película delgada producida es adecuada paramicroscopía electrónica de barrido(SEM) análisis y muchos otros experimentos de laboratoriotrabajo de preparación de material nt. El escritorioRecubridor de magnetrónes una herramienta de alta productividad que ofrece resultados consistentes y altamente repetibles en el sistema completamente automatizado. El diseño ergonómico y el tamaño reducido delsistema de recubrimiento SEMpermite un fácil uso de lasistema.

Requisito	Recomendar modelo
Película de metal y película de carbono	A50.7045 (bajo vacío, apto para aumentos inferiores a 100 000x)
Película de metal y película de carbono	A50.7045-T (alto vacío, adecuado para aumentos de más de 100000x)
Recubrimiento de carbono (muestra de minerales, preparación de muestras de sonda de electrones, etc. para análisis de componentes, EDS, EBSD, ETC.)	A50.7043
	A50.7043-T
metal pulverizado	A50.7041 (ampliación real inferior a 50000x, SEM de filamento de tungsteno, SEM de mesa)
(Au, Pt, Cr, W, etc.)	A50.7042 (ampliación real inferior a 100000x, pistola de emisión de campo SEM)
	A50.7042-T (ampliación real mejor que 100000x, pistola de emisión de campo SEM)
Fabricación de electrodos, dispositivos microelectrónicos	A50.7041 (Revestimiento de Au, Pt)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.)
	A50.7042-T (la mayor parte del revestimiento metálico, ITO, óxido AZO, etc.)
guantera	A50.7042 versión personalizada
guantera	A50.7042-T versión personalizada
Recubrimiento cilíndrico	A50.7042 versión personalizada

Artículo	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
objetivo de pulverización catódica	Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante	Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante	Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante	Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante
Principio de funcionamiento	pulverización de CC	Pulverización por magnetrón de CC	Pulverización por magnetrón de CC	Pulverización por magnetrón de CC (pulverización por magnetrón de RF opcional)
Dimensiones	424（L）×271（D）×255（H）milímetro	424（L）×271（D）×255（H）milímetro	420（L）×330（D）×335（H）milímetro	424（L）×345（D）×420（H）milímetro
Objetivos disponibles	Au、punto etc	Au、punto、Agricultura、cobre、etc.	Au、punto、Agricultura、etc.	Todo el metal、ITO、AZO、Si、te etc
Objetivo estándar	Au	punto	punto	punto、cr、W
Tamaño objetivo	φ57 × 0,12 mm	punto：φ57 × 0,12 mm	φ57 × 0,12 mm	punto：φ57 × 0,12 mm，Otros：φ57 × 1 mm
Corriente de pulverización catódica	2-30mA continuamente ajustable	5-45 mA continuamente ajustable, tamaño de paso 1mA	0-100mA continuamente ajustable	0-200mA continuamente ajustable, tamaño de paso 5mA
Tiempo de pulverización	1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 2s	1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 1s	1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 0s	1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 1s
Cámara de vacío	Vidrio de borosilicato alto φ130 × 130 mm	Vidrio de borosilicato alto φ130 × 130 mm	Vidrio de alto borosilicato φ200×130mm	Vidrio de alto borosilicato φ200×130mm
Bomba aspiradora	Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional	Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional	Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional	Bomba molecular (incorporada) + bomba rotativa de paletas (externa)
Velocidad de bombeo	1	≥1L/s	1,1 l/s	90L/s (bomba molecular)+1L/s (bomba rotativa de paletas)
Vacío definitivo	≤1Pa	≤1Pa	≤1Pa	≤5×10-3Pa (dentro de 8 minutos)
vacío de trabajo	2-30Pa	2-30 Pa (relacionado con el objetivo)	4-20Pa	0.4-2Pa (relacionado con el objetivo)
mostrar	Pantalla táctil a color de 5 pulgadas, resolución 800×480	Pantalla táctil a color de 5 pulgadas, resolución 800×480	Pantalla táctil a color de 7 pulgadas, resolución 800×480	Pantalla táctil a color de 7 pulgadas, resolución 800×480
potencia nominal	500W	450W	500W	800W
Suministro de voltaje de entrada	Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz	Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz	Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz	Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz
Medio de trabajo	Aire o Argón	Aire o Argón	Aire o Argón	Argón de alta pureza (pureza de argón 4N y superior)
Etapa de muestra	Platina de muestra de acero inoxidable de φ64 mm	Platina de muestra de acero inoxidable de φ64 mm	Etapa de muestra de acero inoxidable de φ125 mm	Etapa de muestra de acero inoxidable de φ125 mm
Velocidad de la etapa de muestra	Opcional	Opcional	4-20 rpm ajustable	4-20 rpm ajustable
Etapa de muestra de inclinación y rotación	No	Opcional	Opcional	Opcional
Monitoreo del espesor de la película	No	Opcional	Opcional	Opcional

Pictures

Recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón

Model No.

A50.7042-P

Distancia de trabajo

Tipo: 1.0, 1.0 ~ 2.0

Escala de enfoque

0.000000

Rango de enfoque

0.000000

Tamaño de la etapa de trabajo

Dimensiones: 100x100 mm, diámetro de 100 mm

Ampliación estándar

10x

Configuración avanzada de cookies

Galletas esenciales

Estas cookies permiten funciones básicas como seguridad, verificación de identidad y gestión de red. Estas cookies no se pueden desactivar.

Habilitar cookies de marketing

Estas cookies se utilizan para rastrear el rendimiento de la publicidad, dar consentimiento para el envío de datos de usuario relacionados con la publicidad a Google y dar consentimiento para que el sitio web muestre publicidad personalizada para brindar servicios más relevantes.

Habilitar cookies funcionales

Estas cookies recopilan datos para recordar las elecciones que hacen los usuarios para mejorar y brindar una experiencia más personalizada.

Habilitar cookies de análisis

Estas cookies nos ayudan a comprender cómo los visitantes interactúan con nuestro sitio web, descubrir errores y proporcionar un mejor análisis general.

A50.7042-P

Recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón

Servicio en línea

enviar mensaje

What's New

Contáctenos

Service

Cesta de consulta

COMPARAR PRODUCTOS

Configuración avanzada de cookies

Galletas esenciales

Habilitar cookies de marketing

Habilitar cookies funcionales

Habilitar cookies de análisis