Español
English
Pусский
Français
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
1. Modo de trabajo: calentamiento por pulsos + calentamiento continuo dos modos de trabajo. Calentamiento por pulsos:fácil de controlar el espesor del recubrimiento y la temperatura de la muestra, adecuado para muestras sensibles al calor y aplicaciones que son sensibles al espesor de la película; Calentamiento continuo:obtener capas más gruesas rápidamente 2. Detección automática de la fuente de evaporación: un total de 4 grupos de fuentes de evaporación (fibra de carbono de alta pureza) •Detecta automáticamente el estado de cada grupo de fuentes de evaporación al aspirar y lo muestra en la interfaz de operación principal •Durante el uso, el estado de encendido y apagado de la fuente de evaporación también se puede mostrar y actualizar en tiempo real •Durante el proceso de trabajo, las fuentes de evaporación disponibles se seleccionarán automáticamente y las fuentes de evaporación no disponibles se omitirán. 3. Etapa de muestra: velocidad ajustable entre 4 y 40 rpm, puede iniciarse automáticamente o iniciarse o detenerse manualmente. 4. Evaporación y desgasificación: el precalentamiento y la desgasificación se realizan antes de que cada fuente de evaporación comience a funcionar. En este momento, el deflector se cierra automáticamente para evitar la contaminación de la muestra. 5. Cuando se completa la desgasificación y se inicia la película de carbón, el deflector se abre automáticamente. Fácil de operar: se puede configurar el modo de operación manual/automático y el modo de operación automática se puede completar con una sola tecla. 6. Interfaz de operación: pantalla LCD táctil de 7 pulgadas, pantalla totalmente digital, intuitiva y clara. |
| Requisito | Recomendar modelo |
| Película de metal y película de carbono | A50.7045 (bajo vacío, apto para aumentos inferiores a 100 000x) |
| A50.7045-T (alto vacío, adecuado para aumentos de más de 100000x) | |
| Recubrimiento de carbono (muestra de minerales, preparación de muestras de sonda de electrones, etc. para análisis de componentes, EDS, EBSD, ETC.) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| metal pulverizado | A50.7041 (ampliación real inferior a 50000x, SEM de filamento de tungsteno, SEM de mesa) |
| (Au, Pt, Cr, W, etc.) | A50.7042 (ampliación real inferior a 100000x, pistola de emisión de campo SEM) |
| A50.7042-T (ampliación real mejor que 100000x, pistola de emisión de campo SEM) | |
| Fabricación de electrodos, dispositivos microelectrónicos | A50.7041 (Revestimiento de Au, Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.) | |
| A50.7042-T (la mayor parte del revestimiento metálico, ITO, óxido AZO, etc.) | |
| guantera | A50.7042 versión personalizada |
| A50.7042-T versión personalizada | |
| Recubrimiento cilíndrico | A50.7042 versión personalizada |
Huang Xin