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| Artículo | A50.7041 | A50.7042 | A50.7042-P | A50.7042-T |
| objetivo de pulverización catódica | Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante | Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante | Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante | Objetivo de magnetrón planar, con escudo de área oscura circundante |
| Principio de funcionamiento | pulverización de CC | Pulverización por magnetrón de CC | Pulverización por magnetrón de CC | Pulverización por magnetrón de CC (pulverización por magnetrón de RF opcional) |
| Dimensiones | 424（L）×271（D）×255（H）milímetro | 424（L）×271（D）×255（H）milímetro | 420（L）×330（D）×335（H）milímetro | 424（L）×345（D）×420（H）milímetro |
| Objetivos disponibles | Au、punto etc | Au、punto、agricultura、cobre、etc. | Au、punto、agricultura、etc. | Todo el metal、ITO、AZO、Si、te etc |
| Objetivo estándar | Au | punto | punto | punto、cr、W |
| Tamaño objetivo | φ57 × 0,12 mm | punto：φ57 × 0,12 mm | φ57 × 0,12 mm | punto：φ57 × 0,12 mm，Otros：φ57 × 1 mm |
| Corriente de pulverización catódica | 2-30mA continuamente ajustable | 5-45 mA continuamente ajustable, tamaño de paso 1mA | 0-100mA continuamente ajustable | 0-200mA continuamente ajustable, tamaño de paso 5mA |
| Tiempo de pulverización | 1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 2s | 1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 1s | 1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 0s | 1-999s continuamente ajustable, tamaño de paso 1s |
| Cámara de vacío | Vidrio de borosilicato alto φ130 × 130 mm | Vidrio de borosilicato alto φ130 × 130 mm | Vidrio de alto borosilicato φ200×130mm | Vidrio de alto borosilicato φ200×130mm |
| Bomba aspiradora | Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional | Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional | Bomba rotativa de paletas, bomba scroll seca opcional | Bomba molecular (incorporada) + bomba rotativa de paletas (externa) |
| Velocidad de bombeo | 1 | ≥1L/s | 1,1 l/s | 90L/s (bomba molecular)+1L/s (bomba rotativa de paletas) |
| Vacío definitivo | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤5×10-3Pa (dentro de 8 minutos) |
| vacío de trabajo | 2-30Pa | 2-30 Pa (relacionado con el objetivo) | 4-20Pa | 0.4-2Pa (relacionado con el objetivo) |
| monitor | Pantalla táctil a color de 5 pulgadas, resolución 800×480 | Pantalla táctil a color de 5 pulgadas, resolución 800×480 | Pantalla táctil a color de 7 pulgadas, resolución 800×480 | Pantalla táctil a color de 7 pulgadas, resolución 800×480 |
| potencia nominal | 500W | 450W | 500W | 800W |
| Suministro de voltaje de entrada | Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz | Estándar 220V/50Hz Opcional 110V/60Hz |
| Medio de trabajo | Aire o Argón | Aire o Argón | Aire o Argón | Argón de alta pureza (pureza de argón 4N y superior) |
| Etapa de muestra | Platina de muestra de acero inoxidable de φ64 mm | Platina de muestra de acero inoxidable de φ64 mm | Etapa de muestra de acero inoxidable de φ125 mm | Etapa de muestra de acero inoxidable de φ125 mm |
| Velocidad de la etapa de muestra | Opcional | Opcional | 4-20 rpm ajustable | 4-20 rpm ajustable |
| Etapa de muestra de inclinación y rotación | No | Opcional | Opcional | Opcional |
| Monitoreo del espesor de la película | No | Opcional | Opcional | Opcional |
| Recubridor de pulverización iónica | |||||
   
|  | Principio de funcionamiento: pulverización DC | |||
| Objetivos disponibles: Au, Pt, etc. | |||||
| Cámara de vacío: vidrio de borosilicato alto φ130 × 130 mm | |||||
| Vacío final: ≤1Pa | |||||
| Etapa de muestra: etapa de muestra de acero inoxidable de φ64 mm | |||||
| A50.7042 | Principio de funcionamiento: pulverización catódica de magnetrón de CC | ||||
| Objetivos disponibles: Au, Pt, Ag, Cu, Sb, etc. | |||||
| Objetivo estándar: Pt, φ57 × 0,12 mm (se puede reemplazar con un objetivo dorado de forma gratuita) | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
| A50.7042-P | Principio de funcionamiento: pulverización catódica de magnetrón de CC | ||||
| Objetivos disponibles: Au, Pt, Ag, Cu, etc. | |||||
| Objetivo estándar: Pt, φ57 × 0,12 mm (se puede reemplazar con un objetivo dorado de forma gratuita) | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
| A50.7042-T | Principio de funcionamiento: pulverización catódica de magnetrón de CC (pulverización catódica de magnetrón de RF opcional) | ||||
| Objetivos disponibles: Todos los metales, ITO, AZO, Si, Te, etc. | |||||
| Material objetivo estándar: Pt, Cr, W, un metal precioso, dos metales no preciosos | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
  
| |||||
| A50.7043 | Modo de trabajo: evaporación térmica | ||||
| Modo de evaporación: modos continuo y de pulso | |||||
| Fibra de carbono: Fibra de carbono 10 piezas, Dia.0.8mm, longitud 1m. | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
| A50.7043-T | Modo de trabajo: evaporación térmica | ||||
| Modo de evaporación: modos continuo y de pulso | |||||
| Fibra de carbono: Fibra de carbono 10 piezas, Dia.0.8mm, longitud 1m. | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
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| A50.7045 |  | Modo de trabajo: Recubrimiento de pulverización catódica + Recubrimiento de carbono por evaporación térmica | |||
| Objetivo estándar: Pt o Au 1 pieza, φ57 × 0,12 mm | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
| A50.7045-T | Modo de trabajo: Recubrimiento de pulverización catódica + Recubrimiento de carbono por evaporación térmica | ||||
| Objetivo estándar: Pt, Cr, W, cada uno 1 pc; Punto：φ57×0.12mm; Cr, ancho: φ57 × 1 mm | |||||
| Opcional: monitor de espesor de película, plataforma de muestra de inclinación y rotación | |||||
| Requisito | Recomendar modelo |
| Película de metal y película de carbono | A50.7045 (bajo vacío, apto para aumentos inferiores a 100 000x) |
| A50.7045-T (alto vacío, adecuado para aumentos de más de 100000x) | |
| Recubrimiento de carbono (muestra de minerales, preparación de muestras de sonda de electrones, etc. para análisis de componentes, EDS, EBSD, ETC.) | A50.7043 |
| A50.7043-T | |
| metal pulverizado | A50.7041 (ampliación real inferior a 50000x, SEM de filamento de tungsteno, SEM de mesa) |
| (Au, Pt, Cr, W, etc.) | A50.7042 (ampliación real inferior a 100000x, pistola de emisión de campo SEM) |
| A50.7042-T (ampliación real mejor que 100000x, pistola de emisión de campo SEM) | |
| Fabricación de electrodos, dispositivos microelectrónicos | A50.7041 (Revestimiento de Au, Pt) |
| A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn, etc.) | |
| A50.7042-T (la mayor parte del revestimiento metálico, ITO, óxido AZO, etc.) | |
| guantera | A50.7042 versión personalizada |
| A50.7042-T versión personalizada | |
| Recubrimiento cilíndrico | A50.7042 versión personalizada |
Huang Xin