Magnetron-Ionen-Sputter-Coater

7-Zoll-Farb-Touchscreen mit benutzerfreundlicher automatischer GUI-Steuerung Keine manuelle Steuerung erforderlich

DC-Magnetron-Sputtern, Sputterstrom 0-100mA & Sputterzeit 1-999s stufenlos einstellbar

Planares Magnetron-Target mit umgebendem Dark Area Shield, einschließlich Standard-Target Pt oder Au

Einschließlich Drehschieberpumpe (optionale trockene Scrollpumpe), Pumpgeschwindigkeit 1 l/s, Endvakuum ≤ 1 P

Optionales Upgrade: Filmdickenüberwachung, Kipp-Dreh-Probentisch

Opto-Edu A50.704SerieIonenbeschichter & Kohlenstoffbeschichter, ist ein serienkompaktes Beschichtungssystem, das beschichten kannEdelmetallewie Gold (Au), Palladium (Pd), Platin (Pt) und Gold/Palladium (Au/Pd) dünne Filme auf nicht leitenden oder schlecht leitenden Proben. Uniformdünne Filmemit feinkörnigen Größen werden in einer schnellen Zykluszeit geformt. Der hergestellte Dünnfilm ist geeignet zRasterelektronenmikroskopie(SEM) Analyse und viele andere Laborexperimentent Materialvorbereitungsarbeiten. Der SchreibtischMagnetron-Beschichterist ein hochproduktives Werkzeug, das im vollautomatischen System konsistente und hochgradig wiederholbare Ergebnisse liefert. Das ergonomische Design und die geringe Stellfläche desSEM-Beschichtungssystemermöglicht eine einfache Nutzung derSystem.

Erfordernis	Modell empfehlen
Metallfilm und Kohlenstofffilm	A50.7045 (Niedrigvakuum, geeignet für Vergrößerungen unter 100000x
Metallfilm und Kohlenstofffilm	A50.7045-T (Hochvakuum, geeignet für Vergrößerung über 100000x)
Kohlenstoffbeschichtung (Erzprobe, Probenvorbereitung für Elektronensonden usw. für die Komponentenanalyse, EDS, EBSD ETC)	A50.7043
	A50.7043-T
Sputterndes Metall	A50.7041 (Tatsächliche Vergrößerung weniger als 50000x, Wolfram-Filament-REM, Tisch-REM)
(Au, Pt, Cr, W usw.)	A50.7042 (Tatsächliche Vergrößerung weniger als 100000x, Feldemissionskanone SEM)
	A50.7042-T (Tatsächliche Vergrößerung besser als 100000x, Feldemissionskanone SEM)
Elektrode, Herstellung von mikroelektronischen Geräten	A50.7041 (Au, Pt-Beschichtung)
	A50.7042 (Au, Pt, Ag, Cu, Zn, Im, Sn usw.)
	A50.7042-T (Die meisten Metallbeschichtungen, ITO, AZO-Oxid usw.)
Handschuhfach	A50.7042 kundenspezifische Ausführung
Handschuhfach	A50.7042-T kundenspezifische Ausführung
Zylindrische Beschichtung	A50.7042 kundenspezifische Ausführung

Artikel	A50.7041	A50.7042	A50.7042-P	A50.7042-T
Sputter-Target	Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung	Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung	Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung	Planares Magnetron-Target mit umgebender Dunkelbereichsabschirmung
Arbeitsprinzip	DC-Sputtern	DC-Magnetron-Sputtern	DC-Magnetron-Sputtern	DC-Magnetron-Sputtern (optional HF-Magnetron-Sputtern)
Maße	424（L）×271（D）×255（H）mm	424（L）×271（D）×255（H）mm	420（L）×330（D）×335（H）mm	424（L）×345（D）×420（H）mm
Verfügbare Ziele	Au、Pt usw	Au、Pkt、Ag、Cu、Sb usw	Au、Pkt、Ag、Cu usw	Ganzmetall、ITO、AZO、Si、Te usw
Standardziel	Au	Pkt	Pkt	Pkt、Kr、W
Zielgröße	φ57 × 0,12 mm	Pkt：φ57 × 0,12 mm	φ57 × 0,12 mm	Pkt：φ57 × 0,12 mm，Andere：φ57×1mm
Sputterstrom	2-30mA stufenlos einstellbar	5-45 mA stufenlos einstellbar, Schrittweite 1mA	0-100mA stufenlos einstellbar	0-200mA stufenlos einstellbar, Schrittweite 5mA
Sputterzeit	1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 2s	1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 1s	1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 0s	1-999s stufenlos einstellbar, Schrittweite 1s
Vakuumkammer	Hohes Borosilikatglas φ130×130mm	Hohes Borosilikatglas φ130×130mm	Hohes Borosilikatglas φ200×130mm	Hohes Borosilikatglas φ200×130mm
Vakuumpumpe	Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe	Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe	Drehschieberpumpe, optional trockene Scrollpumpe	Molekularpumpe (eingebaut) + Drehschieberpumpe (extern)
Pumpgeschwindigkeit	1	≥1 l/s	1,1 l/s	90L/s (Molekularpumpe)+1L/s (Drehschieberpumpe)
Ultimatives Vakuum	≤1Pa	≤1Pa	≤1Pa	≤5×10-3Pa (innerhalb von 8 Minuten)
Arbeitsvakuum	2-30 Pa	2-30Pa (bezogen auf das Ziel)	4-20Pa	0,4-2 Pa (bezogen auf das Ziel)
Anzeige	5-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480	5-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480	7-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480	7-Zoll-Farb-Touchscreen, Auflösung 800×480
Nennleistung	500W	450W	500W	800 W
Eingangsspannungsversorgung	Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz	Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz	Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz	Standard 220 V/50 Hz Optional 110 V/60 Hz
Arbeitsmedium	Luft oder Argon	Luft oder Argon	Luft oder Argon	Hochreines Argon (Argon Reinheit 4N und höher)
Beispielphase	φ64 mm Probentisch aus Edelstahl	φ64 mm Probentisch aus Edelstahl	φ125 mm Probentisch aus Edelstahl	φ125 mm Probentisch aus Edelstahl
Probenbühnengeschwindigkeit	Optional	Optional	4-20 U/min einstellbar	4-20 U/min einstellbar
Probentisch kippen und drehen	Nein	Optional	Optional	Optional
Schichtdickenüberwachung	Nein	Optional	Optional	Optional

Pictures

Model No.

A50.7042-P

Arbeitsentfernung

格式:1.0, 或1.0~2.0

Fokussierskala

0,000000

Fokussierbereich

0,000000

Größe der Arbeitsbühne

Größe: 100 x 100 mm, Durchmesser 100 mm

Standardvergrößerung

10x

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