












| A63.7069 Software hovedfunktion | ||
| Højtryksregulering | Lodret linjescanning | Potentialskifteregulering |
| Filamentstrømregulering | Kondensator justering | Multiskala måling |
| Astigmatisk justering | Elektrisk til central justering | Automatisk lysstyrke / kontrast |
| Justering af lysstyrke | Objektiv linsejustering | Autofokus |
| Kontrast justering | Forhåndsvisning af foto | Automatisk eliminering af astigmatisme |
| Justering af forstørrelse | Aktiv lineal | Automatisk filamentjustering |
| Valgt område scanningstilstand | 4 Indstilling af scanningshastighed | Håndtering af parametre |
| Punktscanningstilstand | Objektiv linseinversion | Billedsnapshot, billede fryser |
| Overfladescanning | Kondensatorvending | One Key Quick View |
| Vandret linje scanning | Elektrisk rotationsjustering | |


| SEM | A63.7069 & A63.7069-LV | A63.7080 & A63.7080-L & A63.7080-M | A63.7081 |
| Løsning | 3nm@30KV(SE) 6nm@30KV(BSE) | 1,5nm@30KV(SE) 3nm@30KV(BSE) | 1.0nm@30KV(SE) 3.0nm@1KV(SE) 2,5nm@30KV(BSE) |
| Forstørrelse | 8x~300000x negativ ægte forstørrelse | 8x~800000x negativ ægte forstørrelse | 6x~1000000x negativ ægte forstørrelse |
| Elektronpistol | Forcentreret Tungsten Filament Cartridge | Schottky Field Emission Gun | Schottky Field Emission Gun |
| Spænding | Accelerationsspænding 0~30KV, Kontinuerlig Justerbar, Justeringstrin 100V@0-10KV, 1KV@10-30KV | ||
| Hurtigt kig | One Key Quick View Billedfunktion | N/A | N/A |
| Linsesystem | Elektromagnetisk konisk linse med tre niveauer | Elektromagnetisk konisk linse i flere niveauer | |
| Blænde | 3 Molybdæn objektivåbninger, justerbar udvendigt på vakuumsystemet, ikke nødvendigt at adskille mål for at ændre blænde | ||
| Vakuum system | 1 turbo molekylær pumpe 1 Mekanisk Pumpe Prøverumsvakuum>2,6E-3Pa Elektronpistolrumsvakuum>2,6E-3Pa Fuldautomatisk vakuumkontrol Vakuum interlock funktion Valgfri model: A63.7069-LV 1 turbo molekylær pumpe 2Mekaniske pumper Prøverumsvakuum>2,6E-3Pa Elektronpistolrumsvakuum>2,6E-3Pa Fuldautomatisk vakuumkontrol Vakuum interlock funktion Lavt vakuumRækkevidde 10~270Pa for hurtig skift på 90 sekunder for BSE(LV) | 1 ionpumpesæt 1 turbo molekylær pumpe 1 Mekanisk Pumpe Prøverumsstøvsuger>6E-4Pa Elektronpistolrumsvakuum>2E-7 Pa Fuldautomatisk vakuumkontrol Vakuum interlock funktion | 1 sputter-ionpumpe 1 Getter Ion sammensatte pumpe 1 turbo molekylær pumpe 1 Mekanisk Pumpe Prøverumsstøvsuger>6E-4Pa Elektronpistolrumsvakuum>2E-7 Pa Fuldautomatisk vakuumkontrol Vakuum interlock funktion |
| Detektor | SE: Højvakuum sekundær elektrondetektor (med detektorbeskyttelse) | SE: Højvakuum sekundær elektrondetektor (med detektorbeskyttelse) | SE: Højvakuum sekundær elektrondetektor (med detektorbeskyttelse) |
| BSE: Semiconductor 4 Segmentering Rygspredningsdetektor | Valgfri | Valgfri | |
| Valgfri model: A63.7069-LV BSE(LV): Semiconductor 4 Segmentering Rygspredningsdetektor | |||
| CCD:Infrarødt CCD kamera | CCD:Infrarødt CCD kamera | CCD:Infrarødt CCD kamera | |
| Udvid port | 2 Udvid porte på prøverum til EDS, BSD, WDS osv. | 4 Udvid porte på prøverum til BSE, EDS, BSD, WDS osv. | 4 Udvid porte på prøverum til BSE, EDS, BSD, WDS osv. |
| Prøvetrin | 5-aksestadiet, 4Auto+1brugervejledningStyring Rejseområde: X=70 mm, Y=50 mm, Z=45 mm, R=360°, T=-5°~+90° (manuel) Tryk på Alarm- og stopfunktion | 5 akserAutoMidtenScene Rejseområde: X=80 mm, Y=50 mm, Z=30 mm, R=360°, T=-5°~+70° Tryk på Alarm- og stopfunktion Valgfri model: A63.7080-M5 akserbrugervejledningScene A63.7080-L5 akserAutoStorScene | 5 akserAutoStorScene Rejseområde: X=150 mm, Y=150 mm, Z=60 mm, R=360°, T=-5°~+70° Tryk på Alarm- og stopfunktion |
| Max prøve | Dia.175mm, Højde 35mm | Dia.175mm, Højde 20mm | Dia.340mm, Højde 50mm |
| Billedsystem | Ægte stillbillede maks. opløsning 4096x4096 pixel, Billedfilformat: BMP (standard), GIF, JPG, PNG, TIF | Ægte stillbillede maks. opløsning 16384x16384 pixels, Billedfilformat: TIF(standard), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Automatisk optagelse af digital .AVI-video | Ægte stillbillede maks. opløsning 16384x16384 pixels, Billedfilformat: TIF(standard), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Automatisk optagelse af digital .AVI-video |
| Computer software | PC Work Station Win 10-system, med professionel billedanalysesoftware til fuld kontrol over hele SEM-mikroskopdriften, computerspecifikation ikke mindre end Inter I5 3,2 GHz, 4G-hukommelse, 24"IPS LCD-skærm, 500G harddisk, mus, tastatur | ||
| Foto Display | Billedniveauet er rigt og omhyggeligt, viser realtidsforstørrelse, lineal, spænding, grå kurve | ||
| Dimension & Vægt | Mikroskophus 800x800x1850mm Arbejdsbord 1340x850x740mm Samlet vægt 400 kg | Mikroskophus 800x800x1480mm Arbejdsbord 1340x850x740mm Samlet vægt 450 kg | Mikroskophus 1000x1000x1730mm Arbejdsbord 1330x850x740mm Samlet vægt 550 kg |
| Valgfrit tilbehør | |||
| Valgfrit tilbehør | A50.7002EDS Energy Dispersive X-Ray Spectrometer A50.7011Ion Sputtering Coater | A50.7001BSE rygspredningselektrondetektor A50.7002EDS Energy Dispersive X-Ray Spectrometer A50.7011Ion Sputtering Coater A50.7030Motorisere kontrolpanel | A50.7001BSE rygspredningselektrondetektor A50.7002EDS Energy Dispersive X-Ray Spectrometer A50.7011Ion Sputtering Coater A50.7030Motorisere kontrolpanel |


| A50.7001 | BSE detektor | Halvleder Fire Segment Back Scattering Detector; Tilgængelig i ingredienser A+B, Morphology Info AB; Tilgængelig prøve Observer uden forstøvning af guld; Tilgængelig i Observer urenhed og distribution fra gråtonekort direkte. |
| A50.7002 | EDS (røntgendetektor) | Siliciumnitrid (Si3N4) vindue til optimering af lavenergi røntgentransmission til lyselementanalyse; Fremragende opløsning og deres avancerede støjsvage elektronik giver enestående gennemløbsydelse; Det lille fodaftryk giver fleksibilitet til at sikre ideel geometri og Aata-samlingsbetingelser; Detektorerne indeholder en 30 mm2 chip. |
| A50.7003 | EBSD (Electron Beam Backscattered Diffraction) | brugeren kunne analysere krystalorientering, krystalfase og mikrotekstur af materialer og relaterede materialers ydeevne osv. automatisk optimering af EBSD-kameraindstillinger under dataindsamlingen, lav interaktiv realtidsanalyse for at opnå maksimal information alle data blev mærket med et tidsmærke, som kan ses til enhver tid høj opløsning 1392 x 1040 x 12 Scannings- og indekshastighed: 198 point/sek, med Ni som standard, under betingelse af 2~5nA, kan det sikre indekshastigheden ≥99%; fungerer godt under betingelser med nærlysstrøm og lavspænding på 5kV ved 100pA orienteringsmålenøjagtighed: Bedre end 0,1 grader Brug af triplex-indekssystem: ingen grund til at stole på enkeltbåndsdefinition, nem indeksering af dårlig mønsterkvalitet dedikeret database: EBSD speciel database opnået ved elektrondiffraktion: >400 fase struktur Indeksevne: den kan automatisk indeksere alle krystalmaterialer i 7 krystalsystemer. De avancerede muligheder inkluderer beregning af elastisk stivhed (elastisk stivhed), Taylor (Taylor) faktor, Schmidt (Schmid) faktor og så videre. |
| A50.7010 | Belægningsmaskine | Glasbeskyttelsesskal: ∮250mm; 340 mm høj; Glasbehandlingskammer: ∮88mm; 140 mm høj, ∮88 mm; 57 mm høj; Prøvetrinsstørrelse: ∮40 mm (maks.); Vakuumsystem: molekylepumpe og mekanisk pumpe; Vakuumdetektion: Pirani Gage; Vakuum: bedre end 2 X 10-3 Pa; Vakuumbeskyttelse: 20 Pa med mikroskala-inflationsventil; Prøvebevægelse: Planrotation, hældningspræcession. |
| A50.7011 | Ion Sputtering Coater | Glasbehandlingskammer: ∮100mm; 130 mm høj; Størrelse på prøvestadiet: ∮40 mm (hold 6 prøvekopper) ; Gyldent målstørrelse: ∮58mm*0,12mm(tykkelse); Vakuumdetektion: Pirani Gage; Vakuumbeskyttelse: 20 Pa med mikroskala-inflationsventil; Medium Gas:argon Eller Luft Med Argon Gas Speciel luftindtag og gasregulering i mikroskala. |
| A50.7012 | Argon Ion Sputtering Coater | Prøven blev belagt med kulstof og guld under højvakuum; Roterbart prøvebord, ensartet belægning, partikelstørrelse ca. 3-5nm; Intet udvalg af målmateriale, ingen skade på prøver; Funktionerne af ionrensning og ionfortynding kan realiseres. |
| A50.7013 | Critical Point tørretumbler | Indvendig diameter: 82 mm, Indvendig længde: 82 mm; Trykområde: 0-2000psi; Temperaturområde: 0°-50° C (32°-122° F) |
| A50.7014 | Elektronstrålelitografi | Baseret på scanningselektronmikroskop blev der udviklet et nyt nano-eksponeringssystem; Ændringen har beholdt alle Sem-funktionerne til at lave Nanoscale Line Width-billede; Det modificerede EBL-system er bredt anvendt i mikroelektroniske enheder, optoelektroniske enheder, Quantun-enheder, forskning og udvikling af mikroelektroniksystemer. |

| A63.7069 Standard forbrugsstoffer Outfit | |||
| 1 | Wolfram filament | Forcentreret, importeret | 1 æske (5 stk) |
| 2 | Prøve kop | Dia.13mm | 5 stk |
| 3 | Prøve kop | Dia.32mm | 5 stk |
| 4 | Carbon dobbeltsidet ledende tape | 6 mm | 1 pakke |
| 5 | Vakuum fedt | 10 stk | |
| 6 | Hårløs klud | 1 rør | |
| 7 | Poleringspasta | 1 stk | |
| 8 | Prøvekasse | 2 poser | |
| 9 | Vatpind | 1 stk | |
| 10 | Olietågefilter | 1 stk | |
| A63.7069 Standard Værktøj & Dele Outfit | |||
| 1 | Indvendig sekskantnøgle | 1,5 mm ~ 10 mm | 1 sæt |
| 2 | Pincet | Længde 100-120mm | 1 stk |
| 3 | Skruetrækker med slids | 2*50 mm, 2*125 mm | 2 stk |
| 4 | Krydsskruetrækker | 2*125 mm | 1 stk |
| 5 | Membranfjerner | 1 stk | |
| 6 | Rensestang | 1 stk | |
| 7 | Filamentjusteringsværktøj | 1 stk | |
| 8 | Filamentjusteringspakning | 3 stk | |
| 9 | Rørudtrækker | 1 stk | |

dansk
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk



















Huang Xin