A63.7010

Som favoritter

EBL Electron Beam Lithography Machine

Schottky feltemissionspistol, accelerationsspænding 20V~30KV
n-linse elektrondetektor, <1nm@15KV; <1,5nm@1KV, Minimum Beam Spot Størrelse <2nm
Skrivefelt <500x500um, Graphic Gemerator High Performance FPGA
Maks. scanningshastighed 50Mhz, understøttet skrivefelt 10um~500um, minimum opholdstidsstigning 10ns
Interferometer trinstørrelse 4 tommer, vandring <105 mm, minimum linjebredde 10 nm

Introduktion af Electron Beam Lithography Machine

Sepcifikation af kinesisk EBL litografimaskine

Stage specifikationer
Standard udstyr	Laser Interferometer Stage
Scenerejse	≤105 mm
Specifikationer for elektronpistol og billeddannelse
Schottky Field Emission Gun	Accelerationsspænding 2OV~ 30kVSide sekundær elektrondetektor og Elektrondetektor i linsen
Billedopløsning	≤1 nm @ 15 kV;≤1,5 nm @ 1 kV
Beam Current Densit	>5300 A/cm2
Minimum strålespotstørrelse	≤2 nm
Litografiske specifikationer
Elektronstråleudløser	Stigningstid< 100 ns< 100 ns
Skrivefelt	≤500x500 um
Minimum enkelt eksponeringslinjebredde	10±2nm
Scanningshastighed	25 MHz/50 MHz
Grafikgeneratorparametre
Kontrolkerne	Højtydende FPGA
Maksimal scanningshastighed	50 MHz
D/A-opløsning	20-bit
Understøttede skrivefeltstørrelser	10 um ~ 500 um
Beam Shutter Support	5VTTL
Minimum Dwell Time Increment	10 ns
Understøttede filformater	GDSIl, DXF, BMP osv.
Faraday Cup Beam Strømmåling	Inkluderet
Korrektion af nærhedseffekt	Valgfri
Laser Interferometer Stage	Valgfri
Scanningstilstande	Sekventiel (Z-type), Serpentine (S-type), Spiral og andre vektorscanningstilstande
Eksponeringstilstande	Understøtter feltkalibrering, feltsyning, overlejring og automatisk flerlagseksponering
Ekstern kanalsupport	understøtter elektronstrålescanning, scenebevægelse, stråleudløserkontrol og sekundær elektrondetektion

Funktioner af kinesisk elektronstrålelitografimaskine

Laser Interferometer Stage

Laser Interferometer Stage: Et avanceret laser-interferometer-trin, der opfylder kravene til syning og overlejring med stort slag og høj præcision

Field Emission Gun

En feltemissionspistol med høj opløsning er en vigtig garanti for litografisk kvalitet

Grafik generator

Opnår ultra-høj opløsningmønstertegning og samtidig sikre ultra-højhastighedsscanning

A63.7010 VS Raith 150 Two
Enhedsmodel	OPTO-EDU A63.7010 (Kina)	Raith 150 Two (Tyskland)
Accelerationsspænding (kV)	30	30
Min. Beam SpotDiameter (nm)	2	1.6
Stagestørrelse (tommer)	4	4
Minimum linjebredde (nm)	10	8
Syningsnøjagtighed (nm)	50 (35nm)	35
Overlejringsnøjagtighed (nm)	50 (35nm)	35

Pictures
Model No.	A63.7010
Anden specifikation	Fuldautomatisk højvakuumtid <2 minutter
Valgfrit tilbehør	A50.7002 EDS energidispersiv røntgenspektrometer A50.7011 Ionforstøvningscoater
Systemsupport	Win11 Win10
Sende lys	Tungsten Filament Catridge, Spænding 0~15KV
Kondensator	Indbygget kondensator Ikke nødvendigt Manuel justering af blænde (LaB6 valgfri)
Arbejdsfase	XY Auto Stage, bevægende 30x30 mm, valgfri 5 akser, Speicmen Max Ф50xH35mm
Objektiv	Detektor SE+BSE+CCD
Standard forstørrelse	150000x
Nyt produkt år	2021
	SEM 列 2025 市场价格=零售价格 /4,5 市场价格对外展示标准报价=销售价格 /5,5 格市场价格83折, 报备后标准报价代理折扣=最低限价 /6.4 市场价格75折,刐庻眐

online service

Vi er her online for at støtte!

send besked

Navn

Land

postkasse

telefon

Meddelelsesindhold

Avancerede cookieindstillinger

Væsentlige cookies

Disse cookies muliggør kernefunktionalitet såsom sikkerhed, verifikation af identitet og netværksstyring. Disse cookies kan ikke deaktiveres.

Aktiver Marketing Cookies

Disse cookies bruges til at spore annoncerings ydeevne, give samtykke til afsendelse af reklamerelaterede brugerdata til Google og give samtykke til, at hjemmesiden viser personlig annoncering for at levere mere relevante tjenester.

Aktiver funktionelle cookies

Disse cookies indsamler data for at huske valg, brugere træffer for at forbedre og give en mere personlig oplevelse.

Aktiver Analytics-cookies

Disse cookies hjælper os med at forstå, hvordan besøgende interagerer med vores hjemmeside, opdager fejl og giver en bedre overordnet analyse.