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Introdução da máquina de litografia por feixe de elétrons
Sepcificação da máquina chinesa de litografia EBL
| Especificações do palco | |
| Equipamento Padrão | Estágio de interferômetro a laser |
| Viagem de palco | ≤105 milímetros |
| Arma de elétrons e especificações de imagem | |
| Pistola de emissão de campo Schottky | Tensão de aceleração 2OV~ 30kVSide ElectronDetector secundário e Detector de elétrons na lente |
| Resolução de imagem | ≤1nm@15kV;≤1,5nm@1kV |
| Densidade atual do feixe | >5300 A/cm2 |
| Tamanho mínimo do ponto do feixe | ≤2nm |
| Especificações de litografia | |
| Obturador de feixe de elétrons | Tempo de subida <100 ns< 100 ns |
| Campo de Escrita | ≤500x500 hum |
| Largura mínima da linha de exposição única | 10 ± 2 nm |
| Velocidade de digitalização | 25 MHz/50 MHz |
| Parâmetros do Gerador Gráfico | |
| Núcleo de Controle | FPGA de alto desempenho |
| Velocidade máxima de digitalização | 50MHz |
| Resolução D/A | 20 bits |
| Tamanhos de campos de escrita suportados | 10um~500um |
| Suporte para obturador de feixe | 5VTTL |
| Incremento mínimo do tempo de permanência | 10s |
| Formatos de arquivo suportados | GDSIl, DXF, BMP, etc. |
| Medição de corrente do feixe Faraday Cup | Incluído |
| Correção de efeito de proximidade | Opcional |
| Estágio de interferômetro a laser | Opcional |
| Modos de digitalização | Sequencial (tipo Z), Serpentina (tipo S), Espiral e outros modos de varredura vetorial |
| Modos de exposição | Suporta calibração de campo, costura de campo, sobreposição e exposição automática multicamadas |
| Suporte de canal externo | suporta varredura por feixe de elétrons, movimento de palco, controle de obturador de feixe e detecção de elétrons secundários |
Características da máquina chinesa de litografia por feixe de elétrons
 | Estágio de interferômetro a laser Estágio de interferômetro a laser: Um estágio de interferômetro a laser avançado que atende aos requisitos de costura e sobreposição de grande curso e alta precisão |
Arma de emissão de campo Uma pistola de emissão de campo de alta resolução é uma garantia importante para a qualidade da litografia |  |
 | Gerador Gráfico Alcança ultra-alta resoluçãodesenho de padrões, garantindo digitalização em altíssima velocidade |
| A63.7010 VS Raith 150 Dois | ||
| Modelo do dispositivo | OPTO-EDU A63.7010 (China) | Raith 150 Dois (Alemanha) |
| Tensão de aceleração (kV) | 30 | 30 |
| Min. Diâmetro do ponto do feixe (nm) | 2 | 1.6 |
| Tamanho do palco (polegadas) | 4 | 4 |
| Largura de linha mínima (nm) | 10 | 8 |
| Precisão de costura (nm) | 50(35nm) | 35 |
| Precisão de sobreposição (nm) | 50(35nm) | 35 |
Huang Xin