Melayu
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
Pengenalan Mesin Litografi Rasuk Elektron
Sepcification Mesin Litografi EBL Cina
| Spesifikasi Peringkat | |
| Peralatan Standard | Peringkat Interferometer Laser |
| Perjalanan Pentas | ≤105 mm |
| Senapang Elektron dan Spesifikasi Pengimejan | |
| Pistol Pelepasan Lapangan Schottky | Voltan Pecutan 2OV~ 30kVPengesan Elektron Sekunder Sisi dan Pengesan Elektron Dalam Kanta |
| Resolusi Imej | ≤1nm@15kV;≤1.5nm@1kV |
| Ketumpatan Arus Rasuk | >5300 A/cm2 |
| Saiz Bintik Rasuk Minimum | ≤2 nm |
| Spesifikasi Litografi | |
| Pengatup Pancaran Elektron | Masa Bangkit < 100 ns< 100 ns |
| Bidang Penulisan | ≤500x500 um |
| Lebar Garis Pendedahan Tunggal Minimum | 10±2nm |
| Kelajuan Imbasan | 25 MHz/ 50 MHz |
| Parameter Penjana Grafik | |
| Teras Kawalan | FPGA berprestasi tinggi |
| Kelajuan Imbasan maksimum | 50 MHz |
| Resolusi D/A | 20-bit |
| Saiz Medan Penulisan yang Disokong | 10 um~500 um |
| Sokongan Pengatup Rasuk | 5VTTL |
| Kenaikan Masa Tinggal Minimum | 10ns |
| Format Fail yang Disokong | GDSil, DXF, BMP, dsb. |
| Ukuran Arus Rasuk Piala Faraday | Termasuk |
| Pembetulan Kesan Kedekatan | Pilihan |
| Peringkat Interferometer Laser | Pilihan |
| Mod Imbasan | Sequential (Z-type), Serpentine (S-type), Spiral, dan mod imbasan vektor lain |
| Mod Pendedahan | Menyokong penentukuran medan, jahitan medan, tindanan dan pendedahan automatik berbilang lapisan |
| Sokongan Saluran Luaran | menyokong pengimbasan rasuk elektron, pergerakan pentas, kawalan pengatup rasuk, dan pengesanan elektron sekunder |
Ciri-ciri Mesin Litografi Rasuk Elektron Cina
 | Peringkat Interferometer Laser Peringkat Interferometer Laser: Peringkat interferometer laser lanjutan yang memenuhi keperluan untuk jahitan dan tindanan lejang besar, berketepatan tinggi |
Pistol Pelepasan Medan Pistol pelepasan medan resolusi tinggi adalah jaminan penting untuk kualiti litografi |  |
 | Penjana Grafik Mencapai ultra-resolusi tinggilukisan corak sambil memastikan pengimbasan berkelajuan ultra tinggi |
| A63.7010 VS Raith 150 Dua | ||
| Model Peranti | OPTO-EDU A63.7010 (China) | Raith 150 Two (Jerman) |
| Voltan Pecutan (kV) | 30 | 30 |
| Min. Diameter Titik Rasuk (nm) | 2 | 1.6 |
| Saiz Peringkat (inci) | 4 | 4 |
| Lebar Garis Minimum (nm) | 10 | 8 |
| Ketepatan Jahitan (nm) | 50(35nm) | 35 |
| Ketepatan Tindanan (nm) | 50(35nm) | 35 |
Huang Xin