A63.7010

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EBL 전자빔 리소그래피 기계

스테이지 사양
표준 장비	레이저 간섭계 스테이지
무대 여행	≤105mm
전자총 및 이미징 사양
쇼트키 전계방출총	가속전압 20V~ 30kVSide 2차 전자검출기 및 렌즈 내 전자 검출기
이미지 해상도	≤1nm@15kV;≤1.5nm@1kV
빔 전류 밀도	>5300A/cm2
최소 빔 스폿 크기	≤2nm
리소그래피 사양
전자빔 셔터	상승 시간 < 100ns< 100 ns
글쓰기 분야	≤500x500 음
최소 단일 노출 라인 폭	10±2nm
스캔 속도	25MHz/50MHz
그래픽 생성기 매개변수
제어 코어	고성능 FPGA
최대 스캔 속도	50MHz
D/A 분해능	20비트
지원되는 쓰기 필드 크기	10음~500음
빔 셔터 지원	5VTTL
최소 체류 시간 증가	10ns
지원되는 파일 형식	GDSIl, DXF, BMP 등
패러데이 컵 빔 전류 측정	포함됨
근접 효과 보정	선택 과목
레이저 간섭계 스테이지	선택 과목
스캔 모드	순차(Z 유형), 사문석(S 유형), 나선형 및 기타 벡터 스캔 모드
노출 모드	필드 교정, 필드 스티칭, 오버레이 및 다층 자동 노출 지원
외부 채널 지원	전자빔 스캐닝, 스테이지 이동, 빔 셔터 제어 및 2차 전자 검출 지원

레이저 간섭계 스테이지

레이저 간섭계 스테이지: 대형 스트로크, 고정밀 스티칭 및 오버레이 요구 사항을 충족하는 고급 레이저 간섭계 스테이지

전계 방출 총

고해상도 전계 방출 건은 리소그래피 품질을 보장하는 중요한 요소입니다.

그래픽 생성기

울트라 달성고해상도초고속 스캐닝을 보장하면서 패턴 드로잉

Pictures
Model No.	A63.7010
기타 사양	완전 자동 고진공 시간 <2분
옵션 액세서리	A50.7002 EDS 에너지 분산형 X선 분광계 A50.7011 이온 스퍼터링 코팅기
시스템 지원	Win11 Win10
빛을 전송	텅스텐 필라멘트 카트리지, 전압 0~15KV
콘덴서	내장형 콘덴서 필요 없음 조리개 수동 조정(LaB6 옵션)
작업 단계	XY 자동 스테이지, 이동 30x30mm, 옵션 5축, Speicmen Max Ф50xH35mm
객관적인	감지기 SE+BSE+CCD
표준 배율	150000x
신제품 연도	2021년
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