A63.7010

Gilla att samla

EBL Elektronstrålelitografimaskin

Schottky Field Emission Gun, Accelerationsspänning 20V~30KV
n-lins elektrondetektor, <1nm@15KV; <1,5nm@1KV, minsta strålpunktsstorlek <2nm
Skrivfält <500x500um, Graphic Gemerator High Performance FPGA
Max skanningshastighet 50Mhz, skrivfält som stöds 10um~500um, minsta uppehållstid 10ns
Interferometer Stegstorlek 4 tum, rörelse <105 mm, minsta linjebredd 10 nm

Introduktion av Electron Beam Lithography Machine

Sepcifiering av kinesisk EBL Lithography Machine

Scenspecifikationer
Standardutrustning	Laserinterferometersteg
Scenresor	≤105 mm
Specifikationer för elektronpistol och avbildning
Schottky Field Emission Gun	Accelerationsspänning 2OV~ 30kVSid sekundär elektrondetektor och Elektrondetektor i linsen
Bildupplösning	≤1 nm @ 15 kV;≤1,5 nm @ 1 kV
Beam Current Densit	>5300 A/cm2
Minsta strålpunktsstorlek	≤2 nm
Litografispecifikationer
Elektronstråleslutare	Stigtid< 100 ns< 100 ns
Skrivfält	≤500x500 um
Minsta enstaka exponeringslinjebredd	10±2nm
Skanningshastighet	25 MHz/50 MHz
Grafikgeneratorparametrar
Kontrollkärna	Högpresterande FPGA
Maximal skanningshastighet	50 MHz
D/A-upplösning	20-bitars
Stödda skrivfältstorlekar	10 um ~ 500 um
Beam Shutter Support	5VTTL
Minsta uppehållstidsökning	10 ns
Filformat som stöds	GDSIl, DXF, BMP, etc.
Faraday Cup Beam Strömmätning	Ingår
Korrigering av närhetseffekt	Frivillig
Laserinterferometersteg	Frivillig
Skanningslägen	Sekventiella (Z-typ), Serpentine (S-typ), Spiral och andra vektorskanningslägen
Exponeringslägen	Stöder fältkalibrering, fältsöm, överlagring och automatisk exponering i flera lager
Stöd för extern kanal	stöder elektronstråleskanning, scenrörelse, strålslutarkontroll och sekundär elektrondetektion

Funktioner av kinesisk elektronstrålelitografimaskin

Laserinterferometersteg

Laser Interferometer Stage: Ett avancerat laserinterferometersteg som uppfyller kraven för storslagssömmar med hög precision och överlagring

Field Emission Gun

En högupplöst fältemissionspistol är en viktig garanti för litografisk kvalitet

Grafikgenerator

uppnår ultra-hög upplösningmönsterritning samtidigt som du säkerställer ultrahöghastighetsskanning

A63.7010 VS Raith 150 Two
Enhetsmodell	OPTO-EDU A63.7010 (Kina)	Raith 150 Two (Tyskland)
Accelerationsspänning (kV)	30	30
Min. Beam SpotDiameter (nm)	2	1.6
Scenstorlek (tum)	4	4
Minsta linjebredd (nm)	10	8
Sömnadsnoggrannhet (nm)	50(35nm)	35
Överlagringsnoggrannhet (nm)	50(35nm)	35

Pictures
Model No.	A63.7010
Övrig specifikation	Full Auto Hög Vaccum Time <2 minuter
Valfritt tillbehör	A50.7002 EDS energidispergerande röntgenspektrometer A50.7011 jonförstörande bestrykare
Systemstöd	Win11 Win10
Sänd ljus	Tungsten Filament Catridge, Spänning 0~15KV
Kondensor	Inbyggd kondensor behövs inte manuell justering av bländare (LaB6 tillval)
Arbetsstadiet	XY Auto Stage, Rörlig 30x30mm, Valfri 5 Axlar, Speicmen Max Ф50xH35mm
Mål	Detektor SE+BSE+CCD
Standardförstoring	150 000x
Nytt produktår	2021
	SEM系列 2025 市场价格=零售价格 /4,5 市场价格对外展示标准报价=销售价格 /5,5格市场价格83折, 报备后标准报价代理折扣=最低限价 /6,4 市场价格75折,刐庻眐

onlinetjänst

Vi är här online för att stödja!

Skicka meddelande

namn

Land

brevlåda

telefon

Meddelandeinnehåll

Avancerade kakinställningar

Viktiga kakor

Dessa cookies möjliggör kärnfunktioner såsom säkerhet, verifiering av identitet och nätverkshantering. Dessa cookies kan inte inaktiveras.

Aktivera marknadsföringscookies

Dessa cookies används för att spåra reklamprestanda, samtycka till sändning av reklamrelaterade användardata till Google och samtycke till att webbplatsen visar personlig reklam för att tillhandahålla mer relevanta tjänster.

Aktivera funktionella cookies

Dessa cookies samlar in data för att komma ihåg val användare gör för att förbättra och ge en mer personlig upplevelse.

Aktivera Analytics-cookies

Dessa cookies hjälper oss att förstå hur besökare interagerar med vår webbplats, upptäcker fel och ger en bättre övergripande analys.