Pусский
English
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
Внедрение машины для электронно-лучевой литографии
Септификация китайской литографической машины EBL
| Технические характеристики сцены | |
| Стандартное оборудование | Лазерный интерферометрический столик |
| Путешествие по сцене | ≤105 мм |
| Электронная пушка и технические характеристики изображений | |
| Автоэмиссионный пистолет Шоттки | Ускоряющее напряжение 2ОВ~ 30кВ на стороне вторичного детектора электронов и Внутриобъективный детектор электронов |
| Разрешение изображения | ≤1 нм при 15 кВ;≤1,5 нм при 1 кВ |
| Плотность тока луча | >5300 А/см2 |
| Минимальный размер пятна луча | ≤2 нм |
| Характеристики литографии | |
| Электронно-лучевой затвор | Время нарастания < 100 нс< 100 ns |
| Поле письма | ≤500x500 мкм |
| Минимальная ширина линии однократной экспозиции | 10±2 нм |
| Скорость сканирования | 25 МГц/50 МГц |
| Параметры графического генератора | |
| Контрольное ядро | Высокопроизводительная ПЛИС |
| Максимальная скорость сканирования | 50 МГц |
| Разрешение Ц/А | 20-битный |
| Поддерживаемые размеры поля записи | 10 мкм~500 мкм |
| Опора затвора луча | 5ВТТЛ |
| Минимальный прирост времени задержки | 10 нс |
| Поддерживаемые форматы файлов | GDSИл, DXF, BMP и т. д. |
| Измерение тока пучка в чашке Фарадея | Включено |
| Коррекция эффекта близости | Необязательный |
| Лазерный интерферометрический столик | Необязательный |
| Режимы сканирования | Последовательный (тип Z), змеевидный (тип S), спиральный и другие режимы векторного сканирования. |
| Режимы экспозиции | Поддерживает калибровку поля, сшивание полей, наложение и многослойную автоматическую экспозицию. |
| Поддержка внешних каналов | поддерживает сканирование электронного луча, перемещение предметного столика, управление затвором луча и обнаружение вторичных электронов |
Особенности китайской машины для электронно-лучевой литографии
 | Лазерный интерферометрический столик Лазерный интерферометрический столик: усовершенствованный лазерный интерферометрический столик, отвечающий требованиям для высокоточного сшивания и наложения с большим ходом. |
Автоэмиссионный пистолет Автоэмиссионный пистолет высокого разрешения — важная гарантия качества литографии. |  |
 | Графический генератор Достигает ультра-высокое разрешениенанесение узора при обеспечении сверхвысокой скорости сканирования |
| A63.7010 против Райта 150 Два | ||
| Модель устройства | OPTO-EDU A63.7010 (Китай) | Raith 150 Two (Германия) |
| Ускоряющее напряжение (кВ) | 30 | 30 |
| Мин. Диаметр пятна луча (нм) | 2 | 1,6 |
| Размер сцены (дюймы) | 4 | 4 |
| Минимальная ширина линии (нм) | 10 | 8 |
| Точность сшивания (нм) | 50 (35 нм) | 35 |
| Точность наложения (нм) | 50 (35 нм) | 35 |
Huang Xin