Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.100043Bakit Tayo (指向 公司信息, 格式不好编辑, 另起一个页面Bakit Tayo)F-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Beijing 100043, ChinaOpto-Edu (Beijing) Co., Ltd.100043Bakit Tayo (指向 公司信息, 格式不好编辑, 另起一个页面Bakit Tayo)F-1501 Wanda Plaza, No.18 Shijingshan Road, Beijing 100043, ChinaOpto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd.Opto-Edu

EBL Electron Beam Lithography Machine
EBL Electron Beam Lithography Machine
EBL Electron Beam Lithography Machine

EBL Electron Beam Lithography Machine

  • Schottky Field Emission Gun, Acceleration Voltage 20V~30KV
  • n-Lens Electron Detector, <1nm@15KV; <1.5nm@1KV, Minimum Beam Spot Size <2nm
  • Field ng Pagsusulat <500x500um, Graphic Gemerator High Performance FPGA
  • Max na Bilis ng Pag-scan 50Mhz, Sinusuportahang Writing Field 10um~500um, Minimum Dwell Time Increment 10ns
  • Laki ng Stage ng Interferometer 4 Inch, Travel <105mm, Minimum Linewidth 10nm
Dami:

Panimula ng Electron Beam Lithography Machine

ebl machine

Sepcification ng Chinese EBL Lithography Machine

 
electron beam lithography machine price
Mga Detalye ng Stage
Karaniwang KagamitanYugto ng Laser Interferometer
Paglalakbay sa Yugto105 mm
Electron Gun at Imaging Specitications
Schottky Field Emission GunAcceleration Voltage 2OV~ 30kVSside Secondary ElectronDetector at
In-Lens Electron Detector
Resolusyon ng Larawan1nm@15kV;1.5nm@1kV
Kasalukuyang Densit ng Beam>5300 A/cm2
Pinakamababang Laki ng Beam Spot2 nm
Mga Pagtutukoy sa Lithography
Electron Beam ShutterOras ng Pagtaas < 100 ns< 100 ns
Larangan ng Pagsulat500x500 um
Minimum na Single Exposure na Lapad ng Linya10±2nm
Bilis ng Pag-scan25 MHz/ 50 MHz
Mga Parameter ng Tagabuo ng Graphics
Control CoreMataas na pagganap ng FPGA
Pinakamataas na bilis ng Pag-scan50 MHz
D/A Resolution20-bit
Mga Sinusuportahang Laki ng Field ng Pagsusulat10 um~500 um
Suporta sa Beam Shutter5VTTL
Minimum na Pagdagdag sa Oras ng Pagtira10ns
Mga Sinusuportahang Format ng FileGDSil, DXF, BMP, atbp.
Kasalukuyang Pagsukat ng Faraday Cup BeamKasama
Proximity Effect CorrectionOpsyonal
Yugto ng Laser InterferometerOpsyonal
Mga Mode ng Pag-scanSequential (Z-type), Serpentine (S-type), Spiral, at iba pang vector scan mode
Mga Mode ng ExposureSinusuportahan ang field calibration, field stitching, overlay, at multi-layer na awtomatikong exposure
Panlabas na Suporta sa ChannelSinusuportahan ang pag-scan ng electron beam, paggalaw ng entablado, kontrol ng beam shutter, at pangalawang pagtuklas ng elektron

Mga Tampok ng Chinese Electron Beam Lithography Machine

electron beam lithography machine

Yugto ng Laser Interferometer

Laser Interferometer Stage: Isang advanced na laser interferometer stage na nakakatugon sa mga kinakailangan para sa large-stroke, high-precision stitching at overlay

Field Emission Gun

Ang isang high-resolution na field emission gun ay isang mahalagang garantiya para sa kalidad ng lithography

electron beam lithography machine
electron beam lithography machine

Tagabuo ng Graphics

Nakakamit ang ultra-mataas na resolutionpattern drawing habang tinitiyak ang ultra-high-speed scanning

A63.7010 VS Raith 150 Dalawa
Modelo ng DeviceOPTO-EDU A63.7010 (China)Raith 150 Two (Germany)
Acceleration Voltage (kV)3030
Min. Beam SpotDiameter (nm)21.6
Laki ng Stage (pulgada)44
Minimum na Linewidth (nm)108
Katumpakan ng Pagtahi (nm)50(35nm)35
Katumpakan ng Overlay (nm)50(35nm)35
electron beam lithography machine
 
electron beam lithography machine
 
electron beam lithography machine
 
electron beam lithography machine

 
Pictures
Model No. A63.7010
Iba pang Pagtutukoy
Full Auto High Vaccum Time <2 Minuto
Opsyonal na Accessory
A50.7002 EDS Energy Dispersive X-Ray Spectrometer A50.7011 Ion Sputtering Coater
Suporta sa System
Panalo11
Win10
Magpadala ng Liwanag
Tungsten Filament Catridge, Boltahe 0~15KV
Condenser
Built-in na Condenser Hindi Kailangan ng Manu-manong Pagsasaayos ng Aperture (LaB6 Opsyonal)
Yugto ng Paggawa
XY Auto Stage, Paglipat ng 30x30mm, Opsyonal na 5 Axes, Speicmen Max Ф50xH35mm
Layunin
Detector SE+BSE+CCD
Standard Magnification
150000x
Bagong Taon ng Produkto
2021
SEM系列 2025 市场价格=零售价格 /4.5 市场价格 对外展示 标准报价=销售价格 /5.5.5格报备后标准报价 代理折扣=最低限价 /6.4 市场价格75折, 只给深度合作代理

online na serbisyo

online na serbisyo
Nandito kami online para suportahan!

Ipadala ang Mensahe

*
*
*
*
*
7
close
7

Service

Scan the QR code Close
qr code

Inquiry Basket

Walang laman ang data

PAGKUMPARAHIN ANG MGA PRODUKTO

Walang laman ang data

Mga Advanced na Setting ng Cookie

Mahahalagang Cookies

Ang mga cookies na ito ay nagbibigay-daan sa pangunahing functionality tulad ng seguridad, pag-verify ng pagkakakilanlan at pamamahala ng network. Hindi maaaring i-disable ang cookies na ito.

Paganahin ang Marketing Cookies

Ginagamit ang cookies na ito upang subaybayan ang pagganap ng advertising, pagpayag sa pagpapadala ng data ng user na nauugnay sa advertising sa Google, at pagpayag para sa website na maghatid ng personalized na pag-advertise upang magbigay ng mga mas nauugnay na serbisyo.

Paganahin ang Functional Cookies

Nangongolekta ng data ang cookies na ito para matandaan ang mga pagpipiliang ginagawa ng mga user para mapabuti at magbigay ng mas personalized na karanasan.

Paganahin ang Analytics Cookies

Tinutulungan kami ng cookies na ito na maunawaan kung paano nakikipag-ugnayan ang mga bisita sa aming website, tumuklas ng mga error at magbigay ng mas mahusay na pangkalahatang analytics.

Hindi maaaring i-disable ang mahahalagang cookies.