Bahasa indonesia
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk
| Fungsi Utama Perangkat Lunak A63.7080, A63.7081 | ||
| Komisioning terintegrasi tegangan tinggi | Filamen otomatis hidup / mati | Regulasi pergeseran potensial |
| Penyesuaian kecerahan | Penyesuaian listrik ke pusat | Kecerahan otomatis |
| Penyesuaian kontras | Penyesuaian lensa objektif | Fokus otomatis |
| Penyesuaian pembesaran | Degaussing objektif | Penghapusan astigmatisme otomatis |
| Mode pemindaian area yang dipilih | Penyesuaian rotasi listrik | Manajemen parameter mikroskop |
| Mode pemindaian titik | Penyesuaian perpindahan berkas elektron | Tampilan waktu nyata dari ukuran bidang pemindaian |
| Mode pemindaian garis | Penyesuaian kemiringan berkas elektron | Penyesuaian lensa pistol |
| Pemindaian permukaan | Penyesuaian kecepatan pemindaian | Masukan multisaluran |
| Pemantauan daya tegangan tinggi | Pemusatan ayunan | Pengukuran penggaris |
| SEM | A63.7069 & A63.7069-LV | A63.7080 & A63.7080-L & A63.7080-M | A63.7081 |
| Resolusi | 3nm@30KV(SE) 6nm @ 30KV (BSE) | 1.5nm @ 30KV (SE) 3nm @ 30KV (BSE) | 1.0nm@30KV(SE) 3.0nm@1KV(SE) 2.5nm @ 30KV (BSE) |
| Pembesaran | 8x~300000x Pembesaran Benar Negatif | 8x~800000x Pembesaran Benar Negatif | 6x~1000000x Pembesaran Benar Negatif |
| Senjata Elektron | Kartrid Filamen Tungsten Pra-Pusat | Senapan Emisi Lapangan Schottky | Senapan Emisi Lapangan Schottky |
| Voltase | Mempercepat Tegangan 0~30KV, Terus Menerus Dapat Disesuaikan, Menyesuaikan Langkah 100V@0-10Kv, 1KV@10-30KV | ||
| Lihat sekilas | Fungsi Gambar Tampilan Cepat Satu Tombol | T/A | T/A |
| Sistem Lensa | Lensa Tapered Elektromagnetik Tiga Tingkat | Lensa Tapered Elektromagnetik Multi-level | |
| Bukaan | 3 Bukaan Objektif Molibdenum, Dapat Disesuaikan Di Luar Sistem Vakum, Tidak Perlu Membongkar Objektif Untuk Mengubah Bukaan | ||
| Sistem Vakum | 1 Pompa Molekul Turbo 1 Pompa Mekanik Ruang Sampel Vakum>2.6E-3Pa Vakum Ruang Pistol Elektron>2.6E-3Pa Kontrol Vakum Otomatis Sepenuhnya Fungsi Interlock Vakum Model Opsional: A63.7069-LV 1 Pompa Molekul Turbo 2Pompa Mekanik Ruang Sampel Vakum>2.6E-3Pa Vakum Ruang Pistol Elektron>2.6E-3Pa Kontrol Vakum Otomatis Sepenuhnya Fungsi Interlock Vakum Vakum RendahRentang 10~270Pa Untuk Saklar Cepat dalam 90 Detik Untuk BSE(LV) | 1 Set Pompa Ion 1 Pompa Molekul Turbo 1 Pompa Mekanik Ruang Sampel Vakum>6E-4Pa Vakum Ruang Pistol Elektron>2E-7 Pa Kontrol Vakum Otomatis Sepenuhnya Fungsi Interlock Vakum | 1 Pompa Ion Sputter 1 Pompa Senyawa Ion Pengambil 1 Pompa Molekul Turbo 1 Pompa Mekanik Ruang Sampel Vakum>6E-4Pa Vakum Ruang Pistol Elektron>2E-7 Pa Kontrol Vakum Otomatis Sepenuhnya Fungsi Interlock Vakum |
| Detektor | SE: Detektor Elektron Sekunder Vakum Tinggi (Dengan Perlindungan Detektor) | SE: Detektor Elektron Sekunder Vakum Tinggi (Dengan Perlindungan Detektor) | SE: Detektor Elektron Sekunder Vakum Tinggi (Dengan Perlindungan Detektor) |
| BSE: Semikonduktor 4 Segmentasi Detektor Hamburan Belakang | Opsional | Opsional | |
| Model Opsional: A63.7069-LV SADARI (LV): Semikonduktor 4 Segmentasi Detektor Hamburan Belakang | |||
| CCD:Kamera CCD Inframerah | CCD:Kamera CCD Inframerah | CCD:Kamera CCD Inframerah | |
| Perpanjang Pelabuhan | 2 Perpanjang Port Di Ruang Sampel Untuk EDS, BSD, WDS dll. | 4 Perpanjang Port Di Ruang Sampel Untuk BSE, EDS, BSD, WDS dll. | 4 Perpanjang Port Di Ruang Sampel Untuk BSE, EDS, BSD, WDS dll. |
| Tahap Spesimen | Panggung 5 Sumbu, 4Mobil+1manualKontrol Rentang Perjalanan: X=70mm, Y=50mm, Z=45mm, R=360 °, T=-5 °~+90 °(Manual) Sentuh Peringatan & Fungsi Berhenti | 5 SumbuMobilTengahPanggung Rentang Perjalanan: X=80mm, Y=50mm, Z=30mm, R=360 °, T=-5 °~+70 ° Sentuh Peringatan & Fungsi Berhenti Model Opsional: A63.7080-M5 SumbumanualPanggung A63.7080-L5 SumbuMobilBesarPanggung | 5 SumbuMobilBesarPanggung Rentang Perjalanan: X=150mm, Y=150mm, Z=60mm, R=360 °, T=-5 °~+70 ° Sentuh Peringatan & Fungsi Berhenti |
| Spesimen Maks | Dia.175mm, Tinggi 35mm | Dia.175mm, Tinggi 20mm | Dia.340mm, Tinggi 50mm |
| Sistem Gambar | Resolusi Maks Gambar Diam Nyata 4096x4096 Piksel, Format File Gambar: BMP (Default), GIF, JPG, PNG, TIF | Resolusi Maks Gambar Diam Nyata 16384x16384 Piksel, Format File Gambar: TIF (Default), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Rekam Otomatis Digital .Video AVI | Resolusi Maks Gambar Diam Nyata 16384x16384 Piksel, Format File Gambar: TIF (Default), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Rekam Otomatis Digital .Video AVI |
| Perangkat lunak komputer | Stasiun Kerja PC Sistem Win 10, Dengan Perangkat Lunak Analisis Gambar Profesional Untuk Mengontrol Operasi Mikroskop SEM Sepenuhnya, Spesifikasi Komputer Tidak Kurang Dari Inter I5 3.2GHz, Memori 4G, Monitor LCD IPS 24", Hard Disk 500G, Mouse, Keyboard | ||
| Tampilan Foto | Tingkat Gambar Kaya Dan Teliti, Menampilkan Pembesaran Waktu Nyata, Penggaris, Tegangan, Kurva Abu-abu | ||
| Dimensi & Bobot | Badan Mikroskop 800x800x1850mm Meja Kerja 1340x850x740mm Berat Total 400Kg | Badan Mikroskop 800x800x1480mm Meja Kerja 1340x850x740mm Berat Total 450Kg | Badan Mikroskop 1000x1000x1730mm Meja Kerja 1330x850x740mm Berat Total 550Kg |
| Aksesoris Opsional | |||
| Aksesoris Opsional | A50.7002Spektrometer Sinar-X Dispersi Energi EDS A50.7011Lapisan Sputtering Ion | A50.7001Detektor Elektron Hamburan Kembali BSE A50.7002Spektrometer Sinar-X Dispersi Energi EDS A50.7011Lapisan Sputtering Ion A50.7030Panel Kontrol Motorisasi | A50.7001Detektor Elektron Hamburan Kembali BSE A50.7002Spektrometer Sinar-X Dispersi Energi EDS A50.7011Lapisan Sputtering Ion A50.7030Panel Kontrol Motorisasi |
| A50.7001 | Detektor BSE | Semikonduktor Empat Segmen Kembali Detektor Hamburan; Tersedia Dalam Bahan A+B, Info Morfologi AB; Tersedia Sampel Amati Tanpa Sputtering Emas; Tersedia Di Amati Pengotor Dan Distribusi Dari Peta Grayscale Secara Langsung. |
| A50.7002 | EDS (Detektor Sinar X) | Jendela Silicon Nitrida (Si3N4) Untuk Mengoptimalkan Transmisi Sinar-X Energi Rendah Untuk Analisis Elemen Ringan; Resolusi Luar Biasa Dan Elektronik Kebisingan Rendah yang Canggih Memberikan Kinerja Throughput yang Luar Biasa; Jejak Kecil Menawarkan Fleksibilitas Untuk Memastikan Geometri Ideal Dan Kondisi Koleksi Aata; Detektor Berisi Chip 30mm2. |
| A50.7003 | EBSD (Difraksi hamburan balik berkas elektron) | pengguna dapat menganalisis orientasi kristal, fase kristal dan tekstur mikro bahan dan kinerja bahan terkait, dll. optimasi otomatis pengaturan kamera EBSD selama pengumpulan data, lakukan analisis real-time interaktif untuk mendapatkan informasi yang maksimal semua data dicap dengan tag waktu, yang dapat dilihat kapan saja resolusi tinggi 1392 x 1040 x 12 Pemindaian dan kecepatan indeks: 198 poin / detik, dengan Ni sebagai standar, di bawah kondisi 2 ~ 5nA, dapat memastikan tingkat indeks 99%; bekerja dengan baik di bawah kondisi arus balok rendah dan tegangan rendah 5kV pada 100pA akurasi pengukuran orientasi: Lebih baik dari 0,1 derajat Menggunakan sistem indeks tripleks: tidak perlu bergantung pada definisi pita tunggal, pengindeksan mudah dengan kualitas pola yang buruk database khusus: database khusus EBSD yang diperoleh dengan difraksi elektron: >400 struktur fase Kemampuan indeks: secara otomatis dapat mengindeks semua bahan kristal dari 7 sistem kristal. Opsi lanjutan termasuk menghitung kekakuan elastis (Elastic Stiffness), faktor Taylor (Taylor), faktor Schmidt (Schmid) dan seterusnya. |
| A50.7010 | Mesin Pelapis | Kaca Pelindung Shell: 250mm; 340mm Tinggi; Ruang Pemrosesan Kaca: 88mm; Tinggi 140mm, 88mm; 57mm Tinggi; Ukuran Panggung Spesimen: 40mm (maks); Sistem Vakum: Pompa molekul dan Pompa Mekanik; Deteksi Vakum: Pirani Gage; Vakum: lebih baik dari 2 X 10-3 Pa; Perlindungan Vakum: 20 Pa Dengan Katup Inflasi Mikro; Gerakan Spesimen: Rotasi Pesawat, Presesi kemiringan. |
| A50.7011 | Lapisan Sputtering Ion | Ruang Pemrosesan Kaca: 100mm; 130mm Tinggi; Ukuran Panggung Spesimen: 40mm ( Tahan 6 Cangkir Spesimen); Ukuran Target Emas: 58mm * 0,12mm (ketebalan); Deteksi Vakum: Pirani Gage; Perlindungan Vakum: 20 Pa Dengan Katup Inflasi Mikro; Medium Gas:argon Atau Udara Dengan Gas Argon Khusus Air Inlet Dan Gas Mengatur Dalam Skala Mikro. |
| A50.7012 | Lapisan Sputtering Ion Argon | Sampel Disepuh Dengan Karbon Dan Emas Di Bawah Vakum Tinggi; Tabel Sampel yang Dapat Diputar, Pelapisan Seragam, Ukuran Partikel Sekitar 3-5nm; Tidak Ada Pemilihan Bahan Target, Tidak Ada Kerusakan Sampel; Fungsi Pembersihan Ion Dan Penipisan Ion Dapat Direalisasikan. |
| A50.7013 | Pengering Titik Kritis | Diameter dalam: 82mm, Panjang Bagian Dalam: 82mm; Rentang Tekanan: 0-2000psi; Rentang Suhu: °-50 ° C (32 °-122 ° F) |
| A50.7014 | Litografi Berkas Elektron | Berdasarkan Pemindaian Mikroskop Elektron, Sistem Paparan Nano Baru Dikembangkan; Modifikasi Telah Menyimpan Semua Fungsi Sem Untuk Membuat Gambar Lebar Garis Nanoscale; Sistem Ebl yang Dimodifikasi Secara Luas Diterapkan Ke Perangkat Mikroelektronika, Perangkat Optoelektronik, Perangkat Quantun, Sistem Mikroelektronika R&d. |
| Pakaian Habis Standar A63.7080, A63.7081 | |||
| 1 | Filamen Emisi Lapangan | Dipasang Di Mikroskop | 1 buah |
| 2 | Piala sampel | Diameter 13mm | 5 buah |
| 3 | Piala sampel | Diameter 32mm | 5 buah |
| 4 | Pita Konduktif Dua Sisi Karbon | 6mm | 1 Paket |
| 5 | Gemuk Vakum | 10 buah | |
| 6 | Kain Tidak Berbulu | 1 tabung | |
| 7 | pasta pemoles | 1 buah | |
| 8 | Kotak Sampel | 2 Tas | |
| 9 | Kapas | 1 buah | |
| 10 | Filter Kabut Minyak | 1 buah | |
| A63.7080, A63.7081 Alat & Suku Cadang Standar Pakaian | |||
| 1 | Kunci Pas Segi Enam Dalam | 1.5mm ~ 10mm | 1 Set |
| 2 | Pinset | Panjang 100-120mm | 1 buah |
| 3 | Obeng Berlubang | 2*50mm, 2*125mm | 2 buah |
| 4 | Obeng Silang | 2*125mm | 1 buah |
| 5 | Bersihkan pipa ventilasi | Dia.10/6.5mm (Diameter Keluar/Diameter Dalam) | 5m |
| 6 | Katup pengurang tekanan ventilasi | Tekanan Keluaran 0-0,6MPa | 1 buah |
| 7 | Catu daya kue internal | 0-3A DC | 2 buah |
| 8 | catu daya UPS | 10kVA | 2 buah |
Huang Xin