svenska
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
dansk
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
Nederlands
Norsk språk
| A63.7080, A63.7081 Programvaruhuvudfunktion | ||
| Högspänningsintegrerad driftsättning | Automatisk filament på/av | Potentiell skiftreglering |
| Justering av ljusstyrka | Elektrisk till central justering | Automatisk ljusstyrka |
| Kontrastjustering | Objektiv linsjustering | Autofokus |
| Justering av förstoring | Objektiv avmagnetisering | Automatisk eliminering av astigmatism |
| Valt områdesskanningsläge | Elektrisk rotationsjustering | Hantering av mikroskopparametrar |
| Punktskanningsläge | Justering av elektronstrålens förskjutning | Realtidsvisning av skanningsfältets storlek |
| Linjeskanningsläge | Lutningsjustering av elektronstrålen | Justering av pistollinsen |
| Ytskanning | Justering av skanningshastighet | Flerkanalig ingång |
| Högspänningseffektövervakning | Svängcentrering | Linjal mätning |
| SEM | A63.7069 & A63.7069-LV | A63.7080 & A63.7080-L & A63.7080-M | A63.7081 |
| Upplösning | 3nm@30KV(SE) 6nm@30KV(BSE) | 1,5nm@30KV(SE) 3nm@30KV(BSE) | 1.0nm@30KV(SE) 3.0nm@1KV(SE) 2,5nm@30KV(BSE) |
| Förstoring | 8x~300000x negativ sann förstoring | 8x~800000x negativ sann förstoring | 6x~1000000x negativ sann förstoring |
| Elektronpistol | Förcentrerad volframfilamentpatron | Schottky Field Emission Gun | Schottky Field Emission Gun |
| Spänning | Accelererande spänning 0~30KV, kontinuerligt justerbar, justeringssteg 100V@0-10KV, 1KV@10-30KV | ||
| Snabbtitt | One Key Quick View Bildfunktion | N/A | N/A |
| Linssystem | Elektromagnetisk konisk lins med tre nivåer | Elektromagnetisk konisk lins med flera nivåer | |
| Öppning | 3 Molybden objektivöppningar, justerbar utanför vakuumsystemet, inget behov av att demontera mål för att byta bländare | ||
| Vakuum system | 1 turbo molekylär pump 1 Mekanisk pump Provrumsvakuum>2,6E-3Pa Elektronpistolrumsvakuum>2,6E-3Pa Helautomatisk vakuumkontroll Vakuumförregling Tillvalsmodell: A63.7069-LV 1 turbo molekylär pump 2Mekaniska pumpar Provrumsvakuum>2,6E-3Pa Elektronpistolrumsvakuum>2,6E-3Pa Helautomatisk vakuumkontroll Vakuumförregling Lågt vakuumOmråde 10~270Pa för snabbväxling på 90 sekunder för BSE(LV) | 1 jonpumpsats 1 turbo molekylär pump 1 Mekanisk pump Provrumsvakuum>6E-4Pa Elektronpistolrumsvakuum>2E-7 Pa Helautomatisk vakuumkontroll Vakuumförregling | 1 sputterjonpump 1 Getter Ion Compound Pump 1 turbo molekylär pump 1 Mekanisk pump Provrumsvakuum>6E-4Pa Elektronpistolrumsvakuum>2E-7 Pa Helautomatisk vakuumkontroll Vakuumförregling |
| Detektor | SE: Högvakuum sekundär elektrondetektor (med detektorskydd) | SE: Högvakuum sekundär elektrondetektor (med detektorskydd) | SE: Högvakuum sekundär elektrondetektor (med detektorskydd) |
| BSE: Semiconductor 4 Segmentering Ryggspridningsdetektor | Frivillig | Frivillig | |
| Tillvalsmodell: A63.7069-LV BSE(LV): Semiconductor 4 Segmentering Ryggspridningsdetektor | |||
| CCD:Infraröd CCD-kamera | CCD:Infraröd CCD-kamera | CCD:Infraröd CCD-kamera | |
| Förläng porten | 2 Förläng portar på provrum för EDS, BSD, WDS etc. | 4 Förläng portar på provrum för BSE, EDS, BSD, WDS etc. | 4 Förläng portar på provrum för BSE, EDS, BSD, WDS etc. |
| Provstadiet | 5-axlar, 4Bil+1ManuellKontrollera Reseintervall: X=70 mm, Y=50 mm, Z=45 mm, R=360°, T=-5°~+90° (manuell) Tryck på Alert & Stop Function | 5 axlarBilMittenSkede Reseintervall: X=80 mm, Y=50 mm, Z=30 mm, R=360°, T=-5°~+70° Tryck på Alert & Stop Function Valfri modell: A63.7080-M5 axlarManuellSkede A63.7080-L5 axlarBilStorSkede | 5 axlarBilStorSkede Reseintervall: X=150 mm, Y=150 mm, Z=60 mm, R=360°, T=-5°~+70° Tryck på Alert & Stop Function |
| Max prov | Dia.175mm, Höjd 35mm | Dia.175mm, Höjd 20mm | Dia.340mm, Höjd 50mm |
| Bildsystem | Real stillbild maxupplösning 4096x4096 pixlar, Bildfilformat: BMP(Standard), GIF, JPG, PNG, TIF | Real stillbild maxupplösning 16384x16384 pixlar, Bildfilformat: TIF(standard), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Automatisk inspelning av digital .AVI-video | Real stillbild maxupplösning 16384x16384 pixlar, Bildfilformat: TIF(standard), BMP, GIF, JPG, PNG Video: Automatisk inspelning av digital .AVI-video |
| Datormjukvara | PC-arbetsstation Win 10-system, med professionell bildanalysprogramvara för att fullständigt kontrollera hela SEM-mikroskopdriften, datorspecifikation inte mindre än Inter I5 3,2 GHz, 4G-minne, 24"IPS LCD-skärm, 500G hårddisk, mus, tangentbord | ||
| Bildskärm | Bildnivån är rik och noggrann, visar realtidsförstoring, linjal, spänning, grå kurva | ||
| Dimensionera & Vikt | Mikroskopkropp 800x800x1850mm Arbetsbord 1340x850x740mm Totalvikt 400 kg | Mikroskopkropp 800x800x1480mm Arbetsbord 1340x850x740mm Totalvikt 450 kg | Mikroskopkropp 1000x1000x1730mm Arbetsbord 1330x850x740mm Totalvikt 550 kg |
| Valfria tillbehör | |||
| Valfria tillbehör | A50.7002EDS energidispersiv röntgenspektrometer A50.7011Jon Sputtering Coater | A50.7001BSE ryggspridningselektrondetektor A50.7002EDS energidispersiv röntgenspektrometer A50.7011Jon Sputtering Coater A50.7030Motorisera kontrollpanelen | A50.7001BSE ryggspridningselektrondetektor A50.7002EDS energidispersiv röntgenspektrometer A50.7011Jon Sputtering Coater A50.7030Motorisera kontrollpanelen |
| A50.7001 | BSE-detektor | Halvledare fyra segment bakåtspridningsdetektor; Finns i ingredienser A+B, Morphology Info AB; Tillgängligt prov observera utan att sputtera guld; Tillgänglig i observera föroreningar och distribution från gråskalekarta direkt. |
| A50.7002 | EDS (röntgendetektor) | Silicon Nitride (Si3N4) Fönster för att optimera lågenergiröntgenöverföring för ljuselementanalys; Utmärkt upplösning och deras avancerade elektronik med lågt brus ger enastående genomströmningsprestanda; Det lilla fotavtrycket erbjuder flexibilitet för att säkerställa ideal geometri och Aata-samlingsförhållanden; Detektorerna innehåller ett 30 mm2-chip. |
| A50.7003 | EBSD (Electron Beam Backscattered Diffraction) | användaren kan analysera kristallorientering, kristallfas och mikrotextur av material och relaterade materialprestanda, etc. automatisk optimering av EBSD-kamerainställningar under datainsamlingen, gör interaktiv realtidsanalys för att få maximal information all data var märkt med tidstagg, som kan ses när som helst hög upplösning 1392 x 1040 x 12 Skannings- och indexhastighet: 198 poäng / sek, med Ni som standard, under villkoret 2~5nA, kan det säkerställa indexhastigheten ≥99%; fungerar bra under förhållanden med halvljusström och lågspänning på 5kV vid 100pA orienteringsmätnoggrannhet: Bättre än 0,1 grader Användning av triplexindexsystem: du behöver inte lita på singelbandsdefinition, enkel indexering av dålig mönsterkvalitet dedikerad databas: EBSD specialdatabas erhållen genom elektrondiffraktion: >400 fasstruktur Indexförmåga: den kan automatiskt indexera alla kristallmaterial i 7 kristallsystem. De avancerade alternativen inkluderar beräkning av elastisk styvhet (elastisk styvhet), Taylor (Taylor) faktor, Schmidt (Schmid) faktor och så vidare. |
| A50.7010 | Beläggningsmaskin | Glasskyddsskal: ∮250mm; 340 mm hög; Glasbearbetningskammare: ∮88mm; 140 mm hög, ∮88 mm; 57 mm hög; Provet Stagestorlek: ∮40mm (max); Vakuumsystem: molekylpump och mekanisk pump; Vakuumdetektion: Pirani Gage; Vakuum:bättre än 2 X 10-3 Pa; Vakuumskydd: 20 Pa med mikroskala uppblåsningsventil; Provets rörelse: Planrotation, lutningsprecession. |
| A50.7011 | Jon Sputtering Coater | Glasbearbetningskammare: ∮100mm; 130 mm hög; Provet Stage Storlek: ∮40mm( Håll 6 provkoppar); Gyllene målstorlek: ∮58mm*0,12mm(tjocklek); Vakuumdetektion: Pirani Gage; Vakuumskydd: 20 Pa med mikroskala uppblåsningsventil; Medium Gas:argon Eller Luft Med Argon Gas Specialluftintag och gasreglering i mikroskala. |
| A50.7012 | Argon Ion Sputtering Coater | Provet pläterades med kol och guld under högvakuum; Roterbart provbord, enhetlig beläggning, partikelstorlek ca 3-5nm; Inget urval av målmaterial, inga skador på prover; Funktionerna för jonrening och jonförtunning kan realiseras. |
| A50.7013 | Critical Point Tork | Innerdiameter: 82 mm, inre längd: 82 mm; Tryckområde: 0-2000psi; Temperaturområde: 0°-50° C (32°-122° F) |
| A50.7014 | Elektronstrålelitografi | Baserat på ett svepelektronmikroskop utvecklades ett nytt nanoexponeringssystem; Modifieringen har behållit alla Sem-funktioner för att göra nanoskala linjebreddsbild; Det modifierade EBL-systemet används brett i mikroelektronikenheter, optoelektroniska enheter, Quantun-enheter, forskning och utveckling av mikroelektroniksystem. |
| A63.7080, A63.7081 Standard förbrukningsvaror outfit | |||
| 1 | Fältemissionsfilament | Installerad i mikroskop | 1 st |
| 2 | Provkopp | Dia.13mm | 5 st |
| 3 | Provkopp | Dia.32mm | 5 st |
| 4 | Dubbelsidig ledande tejp i kol | 6 mm | 1 paket |
| 5 | Vakuumfett | 10 st | |
| 6 | Hårlös trasa | 1 rör | |
| 7 | Polerpasta | 1 st | |
| 8 | Provlåda | 2 väskor | |
| 9 | Bomullspinne | 1 st | |
| 10 | Oljedimmfilter | 1 st | |
| A63.7080, A63.7081 Standard verktyg och delar Outfit | |||
| 1 | Inre sexkantnyckel | 1,5 mm ~ 10 mm | 1 set |
| 2 | Pincett | Längd 100-120mm | 1 st |
| 3 | Slitsad skruvmejsel | 2*50 mm, 2*125 mm | 2 st |
| 4 | Kors skruvmejsel | 2*125 mm | 1 st |
| 5 | Rengör ventilationsröret | Dia.10/6,5 mm (utvändig diameter/innerdiameter) | 5m |
| 6 | Ventilationstryckreduceringsventil | Utgångstryck 0-0,6 MPa | 1 st |
| 7 | Intern strömförsörjning för bakning | 0-3A DC | 2 st |
| 8 | UPS strömförsörjning | 10kVA | 2 st |
Huang Xin