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Ionen-Sputter-Beschichter
Ionen-Sputter-Beschichter

A50.7011

Wie Favoriten

Ionen-Sputter-Beschichter

  • Glasverarbeitungskammer Durchmesser 100 mm, Höhe 130 mm
  • Größe der Probenbühne, Durchmesser 40 mm, für 6 Probenschalen
  • Goldene Zielgröße, Durchmesser 58 mm, Dicke 0,12 mm
  • Vakuumerkennungs-Pirani-Messgerät, Vakuumschutz 20pa
  • Keine thermische Beschädigung der Probe, geeignet für alle Proben
Specification:
Ionen-Sputter-Beschichter A50.7011
Menge：

A50.7011_01.jpg

Produktbeschreibung

A50.7011 Ionensputter-Beschichter
VakuumkammerDurchmesser 100 mm * H 130 mm
ProbenstadiumDurchmesser 40 mm (für 6 Probenbecher)
Gold-Sputtering-TargetDurchmesser 58 mm * 0,12 mm (Dicke)
VakuummessgerätPirani Gage
VakuumpumpeRotationsflügelpumpen: 2L / s
Vakuumschutzpunkt20 Pa mit Microscale-Aufblasventil
ArbeitsgasArgon oder Luft mit speziellem Argongas-Lufteinlass und Gasregulierung im Mikromaßstab
Sputterspannung1,6 kV
Bruttogewicht48kg
BeachtungCE

A50.7011_03.jpg

Pictures
Ionen-Sputter-Beschichter
Model No. A50.7011
Arbeitsentfernung
 格式:1.0, 或1.0~2.0
Fokussierskala
 0,000000
Fokussierbereich
 0,000000
Größe der Arbeitsbühne
 Größe: 100 x 100 mm, Durchmesser 100 mm
Standardvergrößerung
 10x

System zur Probenvorbereitung mit Tauchgefrieren
A50.7098
System zur Probenvorbereitung mit Tauchgefrieren
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Micro In-situ Heating & Tensile Stage
A50.7009
Micro In-situ Heating & Tensile Stage
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Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
A50.7039
Ion Beam Etching, Polishing, Thinning Machine
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Ionen-Sputter-Coater
A50.7041
Ionen-Sputter-Coater
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Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
A50.7042
Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
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Magnetron-Ionen-Sputter-Coater
A50.7042-P
Magnetron-Ionen-Sputter-Coater
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Hochvakuum-Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
A50.7042-T
Hochvakuum-Ionen-Sputter-Coater & Verdampfungs-Coater
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Kohlenstoffbeschichter mit thermischer Verdampfung
A50.7043
Kohlenstoffbeschichter mit thermischer Verdampfung
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