

| ◆ A cabeça de detecção a laser e o estágio de varredura de amostra são integrados, a estrutura é muito estável e a anti-interferência é forte ◆ Dispositivo de posicionamento de sonda de precisão, ajuste de alinhamento de ponto a laser é muito fácil ◆ A amostra de acionamento de eixo único se aproxima automaticamente da sonda verticalmente, de modo que a ponta da agulha fique perpendicular à varredura da amostra ◆ O método inteligente de alimentação da agulha de detecção automática de cerâmica piezoelétrica pressurizada controlada por motor protege a sonda e a amostra ◆ Scanners cerâmicos piezoelétricos de alta precisão e amplo alcance podem ser selecionados livremente ◆ Posicionamento óptico automático da lente objetiva de alta ampliação, sem necessidade de foco, observação em tempo real e posicionamento da área de varredura da amostra da sonda ◆ Método à prova de choque de suspensão de mola, simples e prático, bom efeito à prova de choque ◆ Caixa à prova de som blindada de metal, sensor de temperatura e umidade de alta precisão integrado, monitoramento em tempo real do ambiente de trabalho ◆ Editor de usuário de correção não linear do scanner integrado, caracterização nanométrica e precisão de medição melhor que 98% |






| Especificação | A62,4500 | A62.4501 | A62.4503 | A62.4505 |
| Modo de trabalho | Modo de toque 【Opcional】 Modo de contato Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático | Modo de contato Modo de toque 【Opcional】 Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático | Modo de contato Modo de toque 【Opcional】 Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático | Modo de contato Modo de toque 【Opcional】 Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático |
| Curva do Espectro Atual | Curva RMS-Z 【Opcional】 Curva de Força FZ | Curva RMS-Z Curva de Força FZ | Curva RMS-Z Curva de Força FZ | Curva RMS-Z Curva de Força FZ |
| Faixa de varredura XY | 20×20um | 20×20um | 50×50um | 50×50um |
| Resolução de digitalização XY | 0,2 nm | 0,2 nm | 0,2 nm | 0,2 nm |
| Faixa de varredura Z | 2,5 um | 2,5 um | 5um | 5um |
| Resolução de digitalização Y | 0,05 nm | 0,05 nm | 0,05 nm | 0,05 nm |
| Velocidade de digitalização | 0,6Hz~30Hz | 0,6Hz~30Hz | 0,6Hz~30Hz | 0,6Hz~30Hz |
| Ângulo de varredura | 0~360° | 0~360° | 0~360° | 0~360° |
| Tamanho da amostra | Φ≤90mm H≤20mm | Φ≤90mm H≤20mm | Φ≤90mm H≤20mm | Φ≤90mm H≤20mm |
| Movimento de Palco XY | 15×15mm | 15×15mm | 25×25um | 25×25um |
| Design de Absorção de Choque | Suspensão de mola | Suspensão de mola Caixa de Blindagem Metálica | Suspensão de mola Caixa de Blindagem Metálica | - |
| Sistema Óptico | 4x Objetivo Resolução 2,5 um | 4x Objetivo Resolução 2,5 um | 10x Objetivo Resolução 1um | Ocular 10x Infinity Plan LWD APO 5x10x20x50x Câmera Digital 5.0M Monitor LCD de 10", com medição Iluminação LED Kohler Focagem Coaxial Grossa e Fina |
| Resultado | USB 2.0/3.0 | USB 2.0/3.0 | USB 2.0/3.0 | USB 2.0/3.0 |
| Programas | Ganhe XP/7/8/10 | Ganhe XP/7/8/10 | Ganhe XP/7/8/10 | Ganhe XP/7/8/10 |
| Resolução | Condição de trabalho | Temperação de Trabalho | Dano à Amostra | Profundidade de Inspeção | |
| SPM | Nível do átomo 0,1 nm | Normal, Líquido, Vácuo | Sala ou Baixa Temperação | Nenhum | 1~2 Nível do átomo |
| TEM | Ponto 0,3~0,5nm Malha 0,1 ~ 0,2 nm | Alto vácuo | Temperação da Sala | Pequena | Geralmente<100nm |
| SEM | 6-10nm | Alto vácuo | Temperação da Sala | Pequena | 10 mm @ 10x 1um @ 10000x |
| FIM | Nível do átomo 0,1 nm | Super alto vácuo | 30~80K | Dano | Espessura do átomo |
| Microscópio | Microscópio óptico | Microscópio eletrônico | Microscópio de Sonda de Varredura |
| Resolução máxima (um) | 0.18 | 0.00011 | 0.00008 |
| Observação | Imersão em óleo 1500x | Imagem de átomos de carbono de diamante | Imagem de átomos de carbono grafíticos de alta ordem |
![]() | ![]() | ![]() |
| Interação Sonda-Amostra | Medir Sinal | Em formação |
| Força | Forca eletrostatica | Forma |
| Corrente do túnel | Atual | Forma, Condutividade |
| Força magnética | Estágio | Estrutura Magnética |
| Forca eletrostatica | Estágio | distribuição de carga |

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Huang Xin