

| ◆ Det første kommercielle atomkraftmikroskop i Kina, der holder prøven stationær, og sonden bevæger sig og scanner; ◆ Prøvestørrelsen og vægten er næsten ubegrænset, især velegnet til påvisning af meget store prøver; ◆ Prøvetrinnet er meget udvideligt, hvilket er meget bekvemt for kombination af flere instrumenter for at realisere in-situ detektion; ◆ Elektrisk kontrol af prøvebevægelsesbord og løftebord, som kan programmeres med flerpunktsposition for at realisere hurtig automatisk detektering; ◆ Gantry-scanningshoveddesign, marmorbase, vakuumadsorption og magnetisk adsorptionstrin; ◆ Motoren styrer automatisk den intelligente nålefremføringsmetode for den piezoelektriske keramiske automatiske detektion for at beskytte sonden og prøven; ◆ Høj forstørrelse optisk hjælpemikroskop positionering, real-time observation og positionering af sonde og prøve scanning område; ◆ Integreret scanner ikke-lineær korrektion bruger editor, nanometer karakterisering og målingen nøjagtighed bedre end 98%. |






| A62.4510 | A62.4511 | |
| Arbejdstilstand | Kontakttilstand Tappetilstand 【Valgfri】 Friktionstilstand Fasetilstand Magnetisk tilstand Elektrostatisk tilstand | Kontakttilstand Tappetilstand 【Valgfri】 Friktionstilstand Fasetilstand Magnetisk tilstand Elektrostatisk tilstand |
| Nuværende spektrumkurve | RMS-ZKurve FZKraftKurve | RMS-ZKurve FZKraftKurve |
| XY-scanningstilstand | Sondedrevet scanning, Piezo Tube Scanner | Prøvedrevet scanning, lukket sløjfe piezoelektrisk skift-scanningstrin |
| XY scanningsområde | 70×70um | Lukket sløjfe 100×100um |
| XY-scanningsopløsning | 0,2 nm | Lukket sløjfe 0,5nm |
| Z Scan-tilstand | Probedrevet scanning | |
| Z scanningsområde | 5 um | 5 um |
| Z Scanningsopløsning | 0,05 nm | 0,05 nm |
| Scanningshastighed | 0,6Hz~30Hz | 0,6Hz~30Hz |
| Scanningsvinkel | 0~360° | 0~360° |
| Prøvevægt | ≤15 kg | ≤0,5 kg |
| Scenestørrelse | Dia.100mm 【Valgfri】 Dia.200mm Dia.300mm | Dia.100mm 【Valgfri】 Dia.200mm Dia.300mm |
| Trin XY Flytning | 100x100mm, opløsning 1um 【Valgfri】 200x200 mm 300x300 mm | 100x100mm, opløsning 1um 【Valgfri】 200x200 mm 300x300 mm |
| Etape Z Flytning | 15 mm, opløsning 10 nm 【Valgfri】 20 mm 25 mm | 15 mm, opløsning 10 nm 【Valgfri】 20 mm 25 mm |
| Stødabsorberende design | Fjeder ophæng 【Valgfri】 Aktiv støddæmper | Fjeder ophæng 【Valgfri】 Aktiv støddæmper |
| Optisk system | Mål 5x 5,0M digitalkamera 【Valgfri】 Mål 10x Mål 20x | Mål 5x 5,0M digitalkamera 【Valgfri】 Mål 10x Mål 20x |
| Produktion | USB 2.0/3.0 | USB 2.0/3.0 |
| Software | Vind XP/7/8/10 | Vind XP/7/8/10 |
| Hovedlegeme | Gantry scanningshoved, marmorbase | Gantry scanningshoved, marmorbase |
| Løsning | Arbejdsvilkår | Arbejdstemperering | Skade på prøve | Inspektionsdybde | |
| SPM | Atomniveau 0,1nm | Normal, flydende, vakuum | Rum eller lav temperering | Ingen | 1~2 Atomniveau |
| TEM | Punkt 0,3~0,5nm Gitter 0,1~0,2nm | Højt vakuum | Rum temperering | Lille | Normalt<100nm |
| SEM | 6-10 nm | Højt vakuum | Rum temperering | Lille | 10 mm @10x 1um @10000x |
| FIM | Atomniveau 0,1nm | Super høj vakuum | 30~80K | Skade | Atomtykkelse |
| Mikroskop | Optisk mikroskop | Elektronmikroskop | Scanning probe mikroskop |
| Maks. opløsning (um) | 0.18 | 0.00011 | 0.00008 |
| Bemærkning | Olie nedsænkning 1500x | Billeddannelse af diamantkulstofatomer | Billeddannelse af højordens grafitiske carbonatomer |
![]() | ![]() | ![]() |
| Probe-Sample Interaktion | Mål signal | Information |
| Kraft | Elektrostatisk kraft | Form |
| Tunnelstrøm | Nuværende | Form, ledningsevne |
| Magnetisk kraft | Fase | Magnetisk struktur |
| Elektrostatisk kraft | Fase | afgiftsfordeling |

dansk
English
Pусский
Français
Español
Portugues
Deutsch
lingua italiana
العربية
Melayu
Filipino
Монгол хэл
Bahasa indonesia
日本語
한국어
Türk dili
Tiếng Việt
svenska
Nederlands
Norsk språk



Huang Xin